特許第5685350号(P5685350)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5685350基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法
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  • 特許5685350-基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法 図000002
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  • 特許5685350-基板の特定の場所に蒸着するための転写マスク及び当該転写マスクを製造するための方法 図000006
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