特許 5692012 反射防止フィルムの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5692012

(24)【登録日】2015年2月13日

(45)【発行日】2015年4月1日

(54)【発明の名称】反射防止フィルムの製造方法

(51)【国際特許分類】

   G02B 1/11 20150101AFI20150312BHJP

   G02B 1/10 20150101ALI20150312BHJP

   B05D 1/38 20060101ALI20150312BHJP

   B05D 7/24 20060101ALI20150312BHJP

【ＦＩ】

   G02B1/10 A

   G02B1/10 Z

   B05D1/38

   B05D7/24 301T

【請求項の数】3

【全頁数】93

(21)【出願番号】特願2011-247557(P2011-247557)

(22)【出願日】2011年11月11日

(62)【分割の表示】特願2011-501056(P2011-501056)の分割

【原出願日】2010年10月14日

(65)【公開番号】特開2012-73630(P2012-73630A)

(43)【公開日】2012年4月12日

【審査請求日】2013年9月20日

(31)【優先権主張番号】特願2009-258783(P2009-258783)

(32)【優先日】2009年11月12日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2010-8078(P2010-8078)

(32)【優先日】2010年1月18日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2010-58990(P2010-58990)

(32)【優先日】2010年3月16日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2010-58991(P2010-58991)

(32)【優先日】2010年3月16日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】凸版印刷株式会社

(72)【発明者】

【氏名】柴山 直之

(72)【発明者】

【氏名】吉原 俊昭

【審査官】 薄井 義明

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−０３４３９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−０５３８７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−０３５４９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−１３６３５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−０３４２２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１０６８９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１５５９２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−３１３５９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−０２３１０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−３３２１８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−０３８０９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１１５２４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０５３６９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０８６６６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−２１７２５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００９／０２０２８１９（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｂ １／１１

Ｇ０２Ｂ １／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、
前記偏在層は、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に前記透明基材側から形成され、
前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、
前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、
前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、
低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、
前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、
前記偏在層の前記透明基材側には、前記透明基材成分と前記偏在層の電離放射線硬化型材料成分が混在した前記中間層が形成され、かつ、
前記偏在層の低屈折率層側表面には前記電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含み、導電性材料が含まれていない前記レベリング層が形成され、かつ、
偏在層表面における鉛筆硬度がＨ以上であり、かつ、
前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０^１０Ω／ｃｍ^２以下の範囲内である
ことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。

【請求項2】

前記偏在層形成塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、かつ、
前記偏在層形成塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲内の割合で含まれる
ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。

【請求項3】

前記偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、
乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内でおこなわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内でおこなわれる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含む
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルムの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、窓やディスプレイなどの表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＣＲＴディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。さらには、透過型液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表面に設けられる反射防止フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。

【0003】

一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得られる。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。

【0004】

乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止膜の生産が注目されている。

【0005】

また、これらの反射防止層が透明基材上に設けられている反射防止フィルムにあっては、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル系材料を硬化して得られるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル系材料により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。

【0006】

湿式成膜法によって反射防止層を形成する場合、これらの電離放射線硬化型材料を硬化して得られるハードコート層の上に少なくとも低屈折率層を塗布して製造されるものであり、乾式成膜法に比べ安価に製造できるメリットがあり、市場に広く出まわっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００５−２０２３８９号公報

【特許文献2】特開２００５−１９９７０７号公報

【特許文献3】特開平１１−９２７５０号公報

【特許文献4】特開２００７−１２１９９３号公報

【特許文献5】特開２００５−１４４８４９号公報

【特許文献6】特開２００６−１５９４１５号公報

【特許文献7】特開２００７−３３２１８１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

反射防止フィルムをディスプレイ表面に設けることにより、その反射防止機能によって、外光の反射を抑制することができ、明所でのコントラストを向上させることができる。
また、同時に透過率を向上させることができることから画像をより明るく表示可能にすることができる。また、バックライトの出力などを抑える省エネ効果も期待できる。

【0009】

反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあっては、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められている。また、反射防止フィルムにあってはディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められている。また、反射防止フィルムにあっては、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上記課題を解決するために請求項１に係る発明としては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、前記偏在層は、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に前記透明基材側から形成され、前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、前記偏在層の前記透明基材側には、前記透明基材成分と前記偏在層の電離放射線硬化型材料成分が混在した前記中間層が形成され、かつ、前記偏在層の低屈折率層側表面には前記電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含み、導電性材料が含まれていない前記レベリング層が形成され、かつ、偏在層表面における鉛筆硬度がＨ以上であり、かつ、前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０^１０Ω／ｃｍ^２以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法とした。
また、請求項２に係る発明としては、前記偏在層形成塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、かつ、前記偏在層形成塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲内の割合で含まれることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法とした。
また、請求項３に係る発明としては、前記偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内でおこなわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内でおこなわれる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルムの製造方法とした。

【発明の効果】

【0011】

本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法にあっては、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。特に、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができた。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の一実施例の反射防止フィルムの断面模式図である。

【図2】本発明の一実施例の反射防止フィルムの製造工程の概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

本発明の反射防止フィルムについて説明する。図１に本発明の反射防止フィルム（１）の断面模式図を示した。

【0014】

本発明の反射防止フィルム（１）にあっては、透明基材（１１）の少なくとも一方の面に透明基材側から順に偏在層（１２）、低屈折率層（１３）を順に備える。偏在層（１２）はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と、導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子と、レベリング材料を含んでおり、電離放射線材料等を電離放射線で硬化させてバインダマトリックスを形成することにより反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができる。ここで、偏在層は、透明基材側から順に、中間層（１２ａ）、ハードコート層（１２ｂ）、前記導電性材料を偏在させた帯電防止層（１２ｃ）、レベリング材料を偏在させたレベリング層（１２ｄ）の順に形成されている。

【0015】

透明基材（１１）と偏在層（１２）の界面に中間層（１２ａ）が形成されている。中間層（１２ａ）では、透明基材成分と偏在層の電離放射硬化型材料成分が混在している。中間層（１２ａ）にあっては、厚さ方向で透明基材（１１）側から低屈折率層（１３）側に向かって透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する。

【0016】

透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する中間層（１２ａ）を設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材（１１）と偏在層（１２）間の密着性を向上させることができる。なお、中間層にあっては、偏在層を形成する際に偏在層形成用塗液に透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を含ませることにより形成することができる。

【0017】

中間層（１２ａ）は得られる反射防止フィルムについて低屈折率側から５°入射角で分光反射率を求めることによりその存在を確認することができる。得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピーク（分光スペクトルの波形が多数のリップルが見られる）確認された場合には中間層（１２ａ）は形成されていないものと判断され、裏面を黒塗り処理した外観検査において干渉縞ムラが観察される。一方、得られる分光反射率から低屈折率層の層厚に対応した干渉ピークが確認されない場合には中間層（１２ａ）は形成されているものと判断され、裏面黒塗り処理による外観検査において干渉ムラが全く見られない。

【0018】

なお、干渉縞、干渉ムラとは光学干渉による色ムラの一種であるが主に透明基材とハードコート層の屈折率差に起因するもので、膜厚が厚い場合に複数の光学干渉が同時に発生し虹色状に色ムラが観察される現象である。色ムラとは低屈折率層の膜厚ムラに起因する反射色ムラのことで面内の色バラツキが大きくなる現象である。

【0019】

ハードコート層（１２ｂ）は、主として電離放射線硬化型材料を成分としており、反射防止フィルムの表面硬度を向上させ、耐擦傷性を付与している。ハードコート層は偏在層表面の鉛筆硬度から形成されているか否かを判断することができる。

【0020】

また、帯電防止層（１２ｃ）は、導電性材料を偏在させており、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与している。導電性材料を偏在させることにより、導電性材料を分散させるよりも使用量を低下させることができ、製造コストを低減させることができる。帯電防止層にあっては、反射防止フィルムの表面抵抗値から帯電防止層が形成されているか否かを判断することができる。

【0021】

また、レベリング層（１２ｄ）は帯電防止層上にレベリング材料を偏在させている。レベリング層は偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、偏在層から低屈折率層が剥離することを防止し、反射防止フィルムに耐擦傷性を付与している。

【0022】

本発明の反射防止フィルムにおいて偏在層（１２）中でレベリング層（１２ｄ）が形成されていることは、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による表面分析によって形成されているか否かを判断することができる。

【0023】

また、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）による深さ方向分析（デプスプロファイル）によってレベリング層の下の帯電防止層（１２ｃ）の有無を判断することもできる。

【0024】

ＸＰＳは、試料表面の化学状態を分析する装置である。試料にＸ線（エネルギー：ｈν）を照射すると、光電効果により元素内の内殻電子がたたき出され、この時の光電子の運動エネルギー（Ｅｋ）は、一般式（Ａ） Ｅｋ＝ｈν−Ｅｂ−φ で表される。ここで、Ｅｂは内殻電子のエネルギーレベル（束縛エネルギー）、φは装置や試料の仕事関数である。またＥｂは、元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。一方、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離はせいぜい数十Åである。ＸＰＳは、試料表面から放出された光電子のＥｋとその数を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、量、および化学状態の分析ができる装置である。また、ＸＰＳにあっては、イオンエッチングと組み合わせることにより、深さ方向分析が可能となる。

【0025】

偏在層（１２）の上に設けられる低屈折率層（１３）は、反射防止フィルムに反射防止機能を付与する。このとき低屈折率層（１３）の膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。低屈折率層（１３）は、低屈折率層形成材料を含む塗液と偏在層上に塗布することにより形成される。

【0026】

偏在層形成材料に導電性材料を含有・偏在させ、偏在層表面に低屈折率層を形成するにあっては、導電性材料を偏在させた帯電防止層と帯電防止層上の低屈折率層の密着性が悪く、その結果、低屈折率層の剥離によって耐擦傷性が低下してしまうことがあった。本発明者らは、電離放射線硬化型材料、導電性材料を含む偏在層形成用塗液に、さらにレベリング材料を加えることにより、導電性材料を偏在させた帯電防止層上にレベリング層を形成し、偏在層と低屈折率層の密着性を向上させ、耐擦傷性が高い反射防止フィルムとすることができることを見出し本発明に至った。

【0027】

偏在層の最表面に導電性材料が偏在している場合、低屈折率層形成材料と導電性材料が電気的反発をし、偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、低屈折層形成材料と導電性材料との電気的反発がより強い場合は、低屈折率層形成塗液を塗布する際にハジキなどが生じるといった不具合が発生する場合もある。また、低屈折率層形成材料に撥水材料を含む場合には、導電性材料と低屈折率層材料中の撥水材料の電気的反発により所望の防汚性能が得られなくなってしまうこともある。

【0028】

また、本発明にあっては、偏在層形成用塗液を塗布することにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層となる偏在層を同時に形成することができる。したがって、透明基材上にハードコート層及び帯電防止層を順次塗布・形成した場合と比較して、製造コストを抑えることができる。

【0029】

偏在層（１２）において、導電性材料はバインダマトリックス形成材料である電離放射線硬化型材料と比較して表面へ析出しやすく、且つ、レベリング材料は導電性材料よりも更に表面へ析出しやすい。したがって、偏在層を形成する際に乾燥温度、時間の条件を制御して偏在化させることにより、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層と分離させることができ、それら層構成を偏在層としている。

【0030】

中間層（１２ａ）は、偏在層のバインダマトリックス成分とトリアセチルセルロース成分からなる。中間層（１２ａ）にあっては、厚さ方向で透明基材（１１）側から低屈折率層（１３）側に向かって透明基材（１１）の屈折率から低屈折率層のバインダマトリックスの屈折率であるハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する。透明基材（１１）の屈折率からハードコート層（１２ｂ）の屈折率まで漸次変化する中間層（１２ａ）を設けることにより、偏在層と透明基材の界面で発生する干渉縞の発生を防ぐことができる。また、中間層は透明基材（１１）と偏在層（１２）間の密着性を向上させることができる。

【0031】

ハードコート層（１２ｂ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。主にバインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料から構成され、バインダマトリックス成分が多く偏在して存在するため、反射防止フィルムに表面硬度を持たせることができる

【0032】

帯電防止層（１２ｃ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料と導電性材料およびレベリング材料を含むことができる。導電性材料でが偏在して多く存在するため帯電防止機能を発現し、帯電防止機能を有する反射防止フィルムとすることができる。

【0033】

レベリング層（１２ｄ）とは、バインダマトリックス成分である電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含むことができる。おもにレベリング材料から構成され、導電性材料は含まれていない。導電性材料が偏在層の最表面に存在した場合には、偏在層上に低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着力が落ちるため、反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。本発明の反射防止フィルムにあっては、最表面へは導電性材料である導電性材料よりもレベリング材料の方が表面張力が低いために、導電性材料である導電性材料を含有しない層を容易に形成することができる。

【0034】

本発明の反射防止フィルムにあっては低屈折率層を形成する際に、導電性材料の影響を受けない。よって、偏在層と低屈折率層の密着力の低下を防ぐことができ、反射防止フィルムに高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。

【0035】

本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％以上であり、かつ、反射防止フィルムのヘイズが１．０％以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０^５Ω／ｃｍ^２以上１×１０^１２Ω／ｃｍ^２以下の範囲内であり、かつ、反射防止フィルムの低屈折率層表面における純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内であることが好ましい。

【0036】

反射防止フィルムの平行光線透過率が９３％を下回る場合、または、ヘイズが１．０％を超える場合には、透明感が無くなり、白濁（白らっ茶け）してしまい、ディスプレイのコントラストを低下させてしまうことがある。なお、本発明の反射防止フィルムにあっては、平行光線透過率は高ければ高いほど好ましく、ヘイズは低ければ低いほど好ましい。ただし、反射防止フィルムの平行光線透過率は９３％以上９８％以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮すると平行光線透過率が９８％を超える反射防止フィルムを作製することは困難である。また、反射防止フィルムのヘイズは０．０５％以上０．５％以下の範囲内であることが好ましい。現在考えられる使用材料を考慮するとヘイズが０．０５％を下回る反射防止フィルムを作製することは困難である。

【0037】

また、表面抵抗値が１×１０^５Ω／ｃｍ^２以上１×１０^１２Ω／ｃｍ^２以下の範囲内であることが好ましい。なお、反射防止フィルム表面での表面抵抗値が１×１０^５Ω／ｃｍ^２を下回る反射防止フィルム作成する場合、多量の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が必要となり、本発明の偏在層の形成ができなくなることがある。さらに、透明性（全光線透過率値）が低下してしまうことがある。反射防止フィルム表面の表面抵抗値が１×１０^１０Ω／ｃｍ^２〜１×１０^１２Ω／ｃｍ^２の状態にある場合は、一般的に動的な状態で埃が付着しない領域といわれており、ディスプレイの最表面に用いられる場合は、この条件が必要となる。そのため、本発明では１×１０^１２Ω／ｃｍ^２以下が好ましいこととした。

【0038】

なお、前記表面抵抗値の測定方法としては、ＪＩＳ−Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して測定することができる。

【0039】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、純水接触角が８０°以上１３０°以下の範囲内であることが好ましい。純水接触角を８０°以上とすることにより、低屈折率層に優れた防汚性を付与することができる。また、１３０°以下の範囲内とすることにより、低屈折率層を形成する際に偏在層と低屈折率層の密着が良くなるために、高い表面硬度を付与することができ、耐擦傷性に優れ、防汚性に優れた反射防止フィルムとすることができる。

【0040】

なお、純水接触角が１３０°超える場合にあっては、低屈折率層を形成する際にハジキが発生してしまい、低屈折率層を形成することができなくなってしまう恐れがある。また、純水接触角が８０°に満たない場合にあっては、十分な防汚性を得ることができなくなってしまうことがある。

【0041】

なお、純水接触角の測定方法としては、ＪＩＳ Ｒ３２５７（１９９９）に準拠して測定することができる。具体的には、接触角計を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で液滴を針先に作り、これを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作り、この接触角を測定することで求めることができる。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義される。液体としては、蒸留水が使用される。

【0042】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、レベリング層に含まれるレベリング材料が、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されることが好ましい。なお、アミド基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物から選択されるレベリング材料の具体例はあとで記述する。

【0043】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択されることが好ましい。なお、四級アンモニウム塩材料、金属酸化物粒子、導電性高分子から選択される導電性材料の具体例はあとで記述する。

【0044】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0045】

偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0046】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0047】

金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0048】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアミド基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0049】

導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0050】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００以上１０００００以下であり、かつ、前記アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であるであることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0051】

偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することができなくなってしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合、最表層において導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0052】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、前記導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0053】

金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0054】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がアクリル基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0055】

導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0056】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が、１０００以上１０００００以下の範囲内であり、かつ、レベリング材料であるブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0057】

偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0058】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0059】

金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されないため、十分な帯電防止性を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。

【0060】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がブタジエン基を有する化合物を含み、かつ、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００以下の範囲内であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0061】

導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0062】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が四級アンモニウム塩材料を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が、１０００以上１０００００以下であり、かつ、レベリング材料であるオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を前記四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）で除した値（Ｄ／Ｑ）が、０．５以下であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0063】

偏在層に用いられる四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなりレベリング層が形成されず、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在してしまう。このとき、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。一方、四級アンモニウム塩材料の分子量（Ｑ）が１０００００を超える場合には四級アンモニウム塩材料を偏在させて帯電防止層を形成することが困難となり、得られる反射防止フィルムが十分な帯電防止性能を得ることができなくなってしまう。また、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合、四級アンモニウム塩材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0064】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が金属酸化物粒子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍ以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることが好ましい。金属酸化物粒子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0065】

金属酸化物粒子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には金属酸化物粒子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。よって、最表層でレベリング層が形成されずに、低屈折率層形成材料と金属酸化物粒子が電気的反発をし、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。さらに得られる反射防止フィルムのヘイズが上昇する。また、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0066】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、導電層に含まれる導電性材料が導電性高分子を含み、かつ、レベリング層に含まれるレベリング材料がオレフィン基を有する化合物を含む際に、導電性高分子の平均粒子径が１０００ｎｍ以下であり、かつ、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００以下であることが好ましい。導電性高分子の平均粒子径およびオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）を所定の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0067】

導電性高分子の平均粒子径が５００ｎｍを上回る場合には導電性高分子が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ金属酸化物粒子が存在する。このとき、低屈折率層形成材料と導電性高分子が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着力が低下し、得られる反射防止フィルムの耐擦傷性が低下してしまう。また、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｄ）が１０００００を超える場合には、導電性材料とレベリング材料が混在して層を形成し、帯電防止層および／またはレベリング層が形成されなくなってしまう。

【0068】

なお、本発明において「分子量」とは、分子量１０００以下の場合は構造式から求められる分子量であり、分子量が１０００を超える場合には重量平均分子量を指す。

【0069】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいてレベリング材料として用いられるアミド基を有する化合物の分子量（Ａ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているアミド基を有する化合物の分子量を考慮すると、アミド基を有する化合物の分子量（Ａ）は４０以上１０００００以下であることが好ましい。

【0070】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているアクリル基を有する化合物の分子量を考慮すると、アクリル基を有する化合物の分子量（Ｂ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。

【0071】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているブタジエン基を有する化合物の分子量を考慮すると、ブタジエン基を有する化合物の分子量（Ｃ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。

【0072】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）は１０００００以下であることが好ましいが、市販されているオレフィン基を有する化合物の分子量を考慮すると、オレフィン基を有する化合物の分子量（Ｄ）は１０００以上１０００００以下であることが好ましい。

【0073】

なお、本発明において、金属酸化物粒子の平均粒子径および導電性高分子の平均粒子径は、光散乱法により求められる。

【0074】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる金属酸化物粒子の平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、金属酸化物粒子の平均粒子径は１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい

【0075】

なお、本発明の反射防止フィルムにおいて、導電性材料として用いられる導電性高分子の平均粒子径は５００ｎｍ以下であることが好ましいが、市販されている金属酸化物粒子の平均粒子径を考慮すると、導電性高分子の平均粒子径は１ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい

【0076】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、低屈折率層の光学膜厚が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。低屈折率層の光学膜厚を８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲内とすることにより、反射防止フィルムの表面（Ａ）側から求められる分光反射率曲線を５００ｎｍ近傍で極小値をとる分光反射率曲線とすることができ、反射防止性に優れた反射防止フィルムとすることができる。

【0077】

分光反射率曲線は極小値を基準として短波長方向への上昇カーブが長波長方向への上昇カーブと比較して急峻な傾向を示す。このとき、分光反射率曲線の極小値を基準としたときの短波長方向への急峻な上昇カーブは、形成される反射防止フィルムの反射光の色味の原因となり、また、偏在層の膜厚ムラが発生したときの色ムラの発生原因となる。本発明にあっては、分光反射率曲線の極小値を５００ｎｍ近傍とすることにより、反射色相が小さく、短波長方向への急峻な上昇カーブによる色ムラの発生を抑制することができる。

【0078】

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が０．５％以上２．０％以下の範囲内であることが好ましい。

【0079】

反射防止フィルムの低屈折率層形成面（表面（Ａ））での視感平均反射率が２．５％を超える場合にあっては、十分な反射防止性能を備える反射防止フィルムとすることができない。一方、反射防止フィルム表面での視感平均反射率が０．２％の反射防止フィルムを偏在層の光学干渉により実現することは困難である。なお、さらには偏在層表面での視感平均反射率は０．２％以上２．０％以下の範囲内であることが好ましい。

【0080】

また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量は０．５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が０．５ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である四級アンモニウム塩材料の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である四級アンモニウム塩材料はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。

【0081】

また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量は０．５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が０．５ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である金属酸化物粒子の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。

【0082】

また、本発明の反射防止フィルムにおいて、偏在層中の導電性材料として導電性高分子を用いた場合には、偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量は０．１ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満であることが好ましい。偏在層中の導電性材料である導電性高分子の含有量が０．１ｗｔ％未満の場合にあっては、十分な帯電防止性能を得られなくなってしまうことがある。一方、導電性材料である導電性高分子の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、レベリング層が上手く形成されない。また、導電性材料である導電性高分子はハードコート性を持たないため反射防止フィルムの硬度と耐擦傷性が低下することがある。また、コスト高となる。

【0083】

また、レベリング材料としてアミド基を有する化合物を用いる場合、偏在層中のレベリング材料であるアミド基を有する化合物の含有量は０．０５ｗｔ％以上２５ｗｔ％未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のアミド基を有する化合物の含有量が０．０５ｗｔ％未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、アミド基を有する化合物の含有量が２５ｗｔ％を超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。

【0084】

また、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、ブタジエン基を有する化合物、オレフィン基を有する化合物等のアミド基を有する化合物以外を用いる場合、偏在層中のレベリング材料の含有量は０．００１ｗｔ％以上５．００ｗｔ％未満の範囲内であることが好ましい。偏在層中のレベリング材料の含有量が０．００１ｗｔ％未満の場合にあっては、レベリング層の形成ができず、導電性材料が偏在層の最表面に存在することになるため、耐擦傷性が低下し、さらには低屈折率層の形成を阻害する場合がある。一方、レベリング材料の含有量が５．００ｗｔ％を超える場合にあっては、アミド層が厚くなり、帯電防止機能が低下する場合がある。

【0085】

本発明の反射防止フィルムの製造方法について説明する。

【0086】

本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、前記偏在層が、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする。

【0087】

本発明にあっては、偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程と、一次乾燥の乾燥工程後に偏在層の塗膜に対して一次乾燥を施す乾燥工程を設けることにより、偏在層において中間層、ハードコート層、導電性材料を偏在させた帯電防止層、前記レベリング材料を偏在させたレベリング層の順に偏在させることができる。

【0088】

図２に本発明の反射防止フィルムの製造装置の一例の概略図を示した。
本発明の反射防止フィルムの製造装置にあっては、透明基材上に電離放射線硬化型材料を含むバインダマトリックス形成材料と、導電性材料と、レベリング材料と、溶媒を含む偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成する塗布工程（２１）と、前記偏在層の塗膜を一次乾燥ユニット（２２ａ）と、二次乾燥を施す二次乾燥ユニット（２２ｂ）の２つの乾燥ユニット（２２）と、前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を硬膜形成する電離放射線照射ユニット（２３）を順に備えている。巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで透明基材を連続搬送することにより、透明基材上に偏在層が形成される。

【0089】

次に、低屈折率層形成塗液を偏在層上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程、前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、前記低屈折率層を形成する硬膜工程により低屈折率層が形成される。このとき、低屈折率層を形成する硬膜工程においては、低屈折率層形成材料として電離放射線硬化型材料を用いる場合には電離放射線を照射することによって硬膜され低屈折率層は形成される。一方、低屈折率層形成材料として熱硬化型材料を用いる場合には加熱することによって硬膜され、低屈折率層は形成される。低屈折率層を形成するにあっては、図２に示した製造装置を用いて偏在層上に低屈折率層を形成し反射防止フィルムを製造することもできる。なお、偏在層形成と、低屈折率層形成の前記工程を連続して繋げることにより、反射防止フィルムを製造することも可能である。

【0090】

本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が前記透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、且つ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含まれることが好ましい。透明基材上にバインダマトリックス形成材料と導電性材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用い、かつ、前記偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含ませることにより、導電性材料、レベリング材料が偏在した帯電防止層、レベリング層を備える偏在層を形成することができる。

【0091】

透明基材上に偏在層形成用塗液を塗布し塗膜を形成してから乾燥するまでの工程で塗液に含まれる透明基材を溶解あるいは膨潤させる溶媒が透明基材へと浸透し、それに伴いバインダマトリックス形成材料成分も透明基材へと浸透し基材と混合され中間層が形成される。一方、導電性材、レベリング材料は透明基材には浸透しがたいため、透明基材側とは反対の帯電防止層およびレベリング層側へと偏析し偏在層を形成するものである。

【0092】

偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％を下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまうことがある。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。

【0093】

なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が２５ｗｔ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が８５ｗｔ％を越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう傾向にある。

【0094】

本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内で行なわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内で行われる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含むことが好ましい。乾燥工程が塗布直後に乾燥温度２０℃以上３０℃以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を２０℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。

【0095】

なお、乾燥温度が３０℃を超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が２０℃を下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。

【0096】

また、乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。なお、乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が５０℃を下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。

【0097】

また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層（１２）を容易に製造することができる。

【0098】

また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。

【0099】

なお、本発明の反射防止フィルムの製造方法にあっては、偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程を、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることが好ましい。

【0100】

前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、帯電防止層およびレベリング層を備える偏在層を容易に形成することができる。

【0101】

また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が６０秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。

【0102】

さらに詳細に、本発明の反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法について説明する。

【0103】

本発明の反射防止フィルムに用いられる透明基材としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから液晶ディスプレイに対し好適に用いることができる。

【0104】

なお、透明基材の厚みは２５μｍ以上２００μｍ以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、４０μｍ以上８０μｍ以下の範囲内にあることが好ましい。

【0105】

さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は前記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。

【0106】

次に、偏在層について説明する

【0107】

偏在層を形成するにあっては、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を含む。電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。

【0108】

なお、本発明において「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン（メタ）アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。

【0109】

単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0110】

前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0111】

前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

【0112】

アクリル系材料として多官能ウレタンアクリレートを用いることもできる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ等、日本合成化学社製、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ等、新中村化学社製、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ等、ダイセルユーシービー社製、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製、ＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等を挙げることができるがこの限りではない。

【0113】

また、これらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。

【0114】

また、偏在層の膜厚としては光学特性、耐擦傷性、硬度などより、３μｍ以上２０ｍ以下の範囲内にすることが好ましい。また、カールの抑制のなどの加工取り扱い上から４μｍ以上７μｍ以下の範囲内にすることがさらに好ましい。

【0115】

偏在層形成用塗液にあっては、溶媒が加えられ、全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が用いられる。

【0116】

また、透明基材上にバインダマトリックス形成材料と四級アンモニウム塩材料、レベリング材料を含む偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、導電性材料およびレベリング材料が偏在した偏在層を形成することができる。

【0117】

偏在層形成用塗液に含まれる全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％以上の範囲内で透明基材を溶解または膨潤させる溶媒を用いることにより、透明基材と偏在層間に透明基材成分とバインダマトリックス成分からなる中間層を形成することができ、さらには、効率的に偏在層を形成することができる。

【0118】

なお、全溶媒のうち透明基材を溶解または膨潤させる溶媒が３０ｗｔ％を下回る場合にあっては、偏在層を形成することができなくなってしまう。

【0119】

透明基材としてトリアセチルセルロースフィルムを用いた際の透明基材を溶解または膨潤させる溶媒としては、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、またアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等の一部のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、その他としてＮ−メチル−２−ピロリドン、炭酸ジメチルが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

【0120】

トリアセチルセルロースフィルムを溶解または膨潤させない溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、ジアセトンアルコールなどの一部のケトン類などが挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

【0121】

また、偏在層形成用塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の割合で含まれることが好ましい。偏在層の塗液中の溶媒量を前記範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。

【0122】

なお、偏在層形成用塗液中の溶媒量が２５ｗｔ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、偏在層形成用塗液中の溶媒量が８５ｗｔ％を越える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。

【0123】

また、偏在層の塗膜を乾燥する工程を溶媒濃度０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことが好ましい。偏在層の塗膜を乾燥する工程を０．２ｖｏｌ％以上１０ｖｏｌ％以下の溶媒雰囲気下でおこなうことにより、塗膜中の導電性材料である四級アンモニウム塩材料または金属酸化物粒子または導電性高分子が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層を容易に製造することができる。

【0124】

なお、このとき乾燥雰囲気に用いられる溶媒としては、偏在層形成用塗液に含まれる溶媒のうち少なくとも１種類が用いられることが好ましい。溶媒雰囲気下が０．２ｖｏｌ％に満たない場合にあっては、塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう場合がある。一方、溶媒雰囲気下が１０ｖｏｌ％を超える場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり大量生産に不向きとなってしまう。

【0125】

偏在層に含まれる導電性材料である四級アンモニウム塩材料としては、四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を好適に用いることができる。四級アンモニウム塩材料は−Ｎ^＋ Ｘ⁻の構造を示し、四級アンモニウムカチオン（−Ｎ^＋）とアニオン（Ｘ⁻）を備えることによりハードコート層に導電性を発現させる。このとき、Ｘ⁻としては、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻、Ｆ⁻、ＨＳＯ_４⁻、ＳＯ_４^２−、ＮＯ_３⁻、ＰＯ_４^３−、ＨＰＯ_４^２−、Ｈ_２ＰＯ_４⁻、ＳＯ_３⁻、ＯＨ⁻等を挙げることができる。

【0126】

また、四級アンモニウム塩材料として四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料を用いることもできる。四級アンモニウム塩材料を官能基として分子内に含むアクリル系材料としては、四級アンモニウム塩材料（−Ｎ^＋ Ｘ⁻）を官能基として分子内に含む多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。

【0127】

本発明の偏在層中に含まれる四級アンモニウム塩材料の分子量が１０００以上１０００００以下の範囲内であることが好ましい。四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が１０００以上１０００００以下の範囲内とすることにより透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0128】

また、四級アンモニウム塩材料の分子量が１０００を下回る場合には四級アンモニウム塩材料が偏在層表面へ偏在しやすくなり、偏在層の表面へ四級アンモニウム塩材料が存在する。よって、低屈折率層形成材料と四級アンモニウム塩材料が電気的反発をしてしまい、偏在層と低屈折率層の密着性が低下して耐擦傷性が低下する場合がある。一方、四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量が１０００００を超える場合にハードコート層と帯電防止層が混合してしまい、表面抵抗値が悪くなる。四級アンモニウム塩材料としては、具体的には、ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製）等を用いることができる。

【0129】

導電性材料として用いられる金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、リン含有酸化スズ（ＰＴＯ）、スズ含有酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、アルミニウム含有酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモン含有酸化亜鉛及びインジウム含有酸化亜鉛から選択される１種又は２種以上の金属酸化物を主成とする導電性を有する金属酸化物粒子を用いることができる。

【0130】

導電性材料として用いられる導電性高分子としては、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（１，６−ヘプタジイン）、ポリビフェニレン（ポリパラフェニレン）、ポリパラフィニレンスルフィド、ポリフェニルアセチレン、ポリ（２，５−チエニレン）及びこれらの誘導体から選ばれる１種または２種以上の混合物を用いることができる。

【0131】

偏在層形成用塗液にはレベリング材料としてアミド基を有する化合物が加えられ、偏在層にレベリング層が形成される。アミド基を有する化合物としては、１分子内に１以上のアミド基を有する化合物を用いることができる。具体的には、アセトアミド、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジオクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタクリルアミド（メタ）アクリロイルモルホリンなどのアクリル系化合物、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルホルムアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、ポリアミドなどが挙げられる。中でも、レベリング材料としてアミド基を有する化合物にあっては、アミド基のほかに１以上の重合性基を持つ化合物を用いることが好ましい。

【0132】

レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物とは、アクリル基を分子内に含むアクリル系レベリング剤である。アクリル基を有する化合物は（化１）に示す構造を有しており、活性度が低くリコート性がよい。このとき、Ｒ_１としては、Ｈ、ＣＨ_３、Ｃ_ｎＨ_２ｎ−１（ｎ＝自然数）などを挙げることができる。また、Ｒ_２としてはアルキル基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を導入することができる。

【0133】

【化1】

【0134】

レベリング材料として用いられるアクリル基を有する化合物として、具体的にはＢＹＫ０−３５０、ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−３９４等が挙げられる。

【0135】

レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物としては、ブタジエン基を分子内に含むブタジエン系レベリング剤を好適に用いることができる。ブタジエン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、オレフィン基、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。

【0136】

レベリング材料として用いられるブタジエン基を有する化合物として、具体的にはフローレンＡＣ−１１９０、フローレンＡＣ−１１９０ＨＦ、フローレンＡＣ−２０００、フローレンＡＣ−２０００ＨＦ等が挙げられる。

【0137】

レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物としては、オレフィン基を分子内に含むオレフィン系レベリング剤を好適に用いることができる。オレフィン基を有する化合物は活性度が低くリコート性がよい。このとき、、ポリエステル基、ポリエーテル基、塩や反応性基等を分子内に導入することができる。

【0138】

レベリング材料として用いられるオレフィン基を有する化合物として、具体的にはフローレンＡＣ−２２００ＨＦ等が挙げられる。

【0139】

また、偏在層形成用塗液を紫外線により硬化させる場合にあっては、偏在層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。

【0140】

光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。

【0141】

また、偏在層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。

【0142】

以上の材料を調整して得られる偏在層形成用塗液を湿式成膜法により透明基材上に塗布し、塗膜を形成し、偏在層を形成することができる。以下に偏在層の形成方法を示す。

【0143】

偏在層形成用塗液は透明基材上に塗布され、塗膜を形成する。偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の偏在層（１２）は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法、ダイコーター法を用いることが好ましい。

【0144】

次に、透明基材上に形成された偏在層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。

【0145】

なお、乾燥工程が塗布直後に乾燥温度２０℃以上３０℃以下の範囲内で一次乾燥をおこなうことが好ましい。一次乾燥温度を２０℃以上３０℃以下の範囲内とすることにより、偏在層の塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができる。

【0146】

なお、乾燥温度が３０℃を超える場合にあっては、偏在層の塗膜が急激に乾燥してしまい偏在層を形成することができなくなってしまう恐れがある。一方、乾燥温度が２０℃を下回る場合にあっては、乾燥時間を長くする必要があり連続生産に不向きとなってしまう。

【0147】

また、乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内で二次乾燥をおこなうことが好ましい。二次乾燥温度を５０℃以上１５０℃以下の範囲内とすることにより、透明基材側から中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の順に偏在して積層される偏在層を形成することができる。

【0148】

なお、乾燥温度が１５０℃を超える場合にあっては、溶剤の蒸発速度が早すぎるために偏在層の表面が荒れてしまい、ヘイズが発生する恐れがある。一方、乾燥温度が５０℃を下回る場合にあっては、溶剤が偏在層に残留してしまい、ハードコート性を持たない偏在層となってしまう。

【0149】

また、前記一次乾燥のみでは乾燥が不十分の場合があり、一次乾燥後、二次乾燥として乾燥温度５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥をおこなうことも兼ねている。

【0150】

乾燥工程において、一次乾燥及び二次乾燥を前記乾燥温度にておこなうことにより、偏在層（１２）を容易に製造することができる。

【0151】

また、偏在層の各層の分離を行うために一次乾燥を行っており、二次乾燥としてでは５０℃以上１５０℃以下の範囲内の加熱乾燥で適度な加熱乾燥を行うことにより溶剤を除去している。

【0152】

また、透明基材上に形成された偏在層形成用塗液からなる塗膜を透明基材上に形成してから前記透明基材上の偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内であることが好ましく、前記偏在層の塗膜を透明基材上に形成してから、透明基材上の偏在層形成用塗液からなる塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒以上６０秒以下の範囲内とすることにより、塗膜中の導電性材料およびレベリング材料が偏在して偏在層を形成するまでの時間を十分とすることができ、偏在層（１２）を容易に形成することができる。

【0153】

また、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が２秒に満たない場合にあっては、偏在層の塗膜の急激な乾燥により帯電防止層およびレベリング層を形成することができなくなってしまうことがある。

【0154】

なお、偏在層の塗膜中に含まれる溶媒が１０ｗｔ％以下となるまでの時間が６０秒を超える場合にあっては、時間がかかりすぎてしまい現実的でない。枚葉方式で偏在層を形成する場合においても、タクトタイムが長くなり生産性が低下するため好ましくない。

【0155】

次に、偏在層形成用塗液を透明基材上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、偏在層（１２）が形成される。

【0156】

電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。

【0157】

次に、低屈折率層の形成方法について述べる。

【0158】

低屈折率層は、低屈折率層形成材料を含む低屈折率層形成塗液を偏在層表面に塗布し、湿式成膜法により形成される。このとき低屈折率層膜厚（ｄ）は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設計される。

【0159】

低屈折率層形成材料としては、低屈折率粒子およびバインダマトリックス形成材料を用いることができる。なお、バインダマトリックス形成材料が低い屈折率を有する場合には低屈折率形成材料中に低屈折率粒子を含まなくてもよい。低屈折率層（１３）におけるバインダマトリックス形成材料としては電離放射線硬化型材料、熱硬化型材料を用いることができる。

【0160】

低屈折率層形成材料用塗液に含ませることのできる低屈折粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４０）、または、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。

【0161】

粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子としては、多孔質シリカ粒子やシェル（殻）構造のシリカ粒子を用いることができる。

【0162】

また、低屈折率粒子としては、粒径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。

【0163】

なお、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３５であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、低屈折率シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造を有するものを用いることができる。

【0164】

また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の（メタ）アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン（メタ）アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。

【0165】

単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0166】

前記２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0167】

前記３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

【0168】

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。

【0169】

また、電離放射線硬化型材料の他に熱可塑性樹脂等を加えることもできる。熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、線状ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用できる熱可塑性樹脂を加えることにより製造されるフィルムのカールを抑制することができる。

【0170】

また、低屈折率層形成材料には、反射防止フィルム表面に指紋等の汚れが付着しにくくすること、付着した汚れをふき取りやすくすることを目的として撥水材料をさせることができる。撥水材料としてシリコーン系材料、有機珪素化合物、ＵＶ硬化型撥水剤を用いることができる。シリコーン系材料としては、アルキルアラルキル変性シリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルキルポリエーテル変性シリコーンオイルを用いることもできる。さらには、フッ素を含有せず、（メタ）アクリル基を持たない有機ケイ素化合物を用いることもできる。具体的には、アルキルアルコキシシラン化合物、シランシロキサン化合物、ポリエステル基を含有するシラン化合物、ポリエーテル基を有するシラン化合物、シロキサン化合物を用いることもできる。また、ＵＶ硬化型撥水剤として、ＢＹＫ−３５０やＢＹＫ−３５００（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、Ｆ４７０（ＤＩＣ株式会社製）などを用いることができる。

【0171】

また、バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。具体的には、一般式（Ａ） Ｒ_ｘＳｉ（ＯＲ）_４−ｘ （但し、式中Ｒはアルキル基を示し、ｘは０≦ｘ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。

【0172】

一般式（Ａ）で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式（Ｂ）で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。

【0173】

バインダマトリックス形成材料として、熱硬化型材料であるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いる場合には、撥水材料としてフッ素化合物である一般式（Ｂ） Ｒ´_ｚＳｉ（ＯＲ）_４−ｚ（但し、式中Ｒ´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、ｚは１≦ｚ≦３を満たす整数である）で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有させることができる。一般式（Ｂ）で表されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることにより、反射防止フィルムの低屈折率層表面に防汚性を付与することができる。さらに、低屈折率層の屈折率をさらに低下することができる。一般式（Ｃ）で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

【0174】

低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。

【0175】

また、バインダマトリックス形成材料として用いられる電離放射線硬化型材料を用い、紫外線により硬化させる場合にあっては、低屈折率層形成用塗液に光重合開始剤を添加する。

【0176】

光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類を用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化型材料に対して０．１ｗｔ％以上１０ｗｔ％以下の範囲内であることが好ましく、さらには１ｗｔ％以上８．５ｗｔ％以下であることが好ましい。

【0177】

また、低屈折率層形成用塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。

【0178】

以上の材料を調整して得られる低屈折率層形成用塗液を湿式成膜法により偏在層（１２）上に塗布し、低屈折率層の塗膜を形成し、低屈折率層（１３）を形成することができる。以下に低屈折率層の形成方法を示す。

【0179】

低屈折率層形成用塗液は、偏在層（１２）上に塗布され、低屈折率層の塗膜を形成する。低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。なお、本発明の低屈折率層（１３）は薄い塗膜であり、均一な膜厚であることが必要であることから、マイクログラビアコーター法を用いることが好ましい。

【0180】

次に、偏在層（１２）上に形成された低屈折率層の塗膜は乾燥することにより、塗膜中の溶媒は除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。なお、乾燥温度としては、５０℃以上１５０℃以下の範囲内の適度な加熱乾燥をおこなうことが好ましい。

【0181】

次に、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型材料を用いた場合には、低屈折率層形成用塗液を、偏在層上に塗布することにより得られる低屈折率層の塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層（１３）が形成される。

【0182】

電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。

【0183】

本発明の反射防止フィルムはロール・ツー・ロール方式により連続形成される。図２に示したように、巻き取られているウェブ状の透明基材を巻き出し部（３１）から巻き取り部（３２）まで連続走行させ、このとき、透明基材を塗布ユニット（２１）、乾燥ユニット（２２）、電離放射線照射ユニット（２３）を通過させることにより、透明基材上に偏在層が連続形成される。その後、低屈折率層を同様にしてユニットを通過させることにより、偏在層上に低屈折率層が形成され、反射防止フィルムを製造することができる。

【実施例】

【0184】

まずは、本実施例で得られる反射防止フィルムについての評価方法について示す。

【0185】

「視感平均反射率の測定」
得られる反射防止フィルムの低屈折率層形成面と反対側の面を黒色艶消しスプレーにより黒色に塗布した。塗布後、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い測定した低屈折率層形成面についてＣ光源、２度視野の条件下での入射角５°における分光反射率を測定した。得られる分光反射率から平均視感反射率（Ｙ％）を算出した。また、比視感度は明所視標準比視感度を用いた。

【0186】

「ヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率の測定」
得られる反射防止フィルムについて、写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用してヘイズ（Ｈ）、平行光線透過率を測定した。

【0187】

「表面抵抗値の測定」
得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面についてＪＩＳ−Ｋ６９１１（１９９５）に準拠して高抵抗抵抗率計（ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターＭＣＰ−ＨＴ２６０）にて測定をおこなった。

【0188】

「接触角の測定」
得られる反射防止フィルムの偏在層表面及び低屈折率層表面について、接触角計（協和界面科学社製 ＣＡ−Ｘ型）を用いて、乾燥状態（２０℃−６５％ＲＨ）で直径１．８ｍｍの液滴を針先に作り、これらを試料（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体とが接触する点における液体表面に対する接線と固体表面とがなす角であり、液体を含む側の角度で定義した。液体としては、蒸留水を使用した。また、前記純水接触角の測定方法としては、ＪＩＳ−Ｒ３２５７に準拠して測定した。

【0189】

「鉛筆硬度の測定」
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠し、５００ｇ荷重で各反射防止フィルムの偏在層表面の鉛筆硬度を測定した。

【0190】

「色ムラ、干渉縞の評価」
得られる反射防止フィルムについて、低屈折率層表面に蛍光灯を映りこませて、反射光を確認することにより色ムラの確認、干渉ムラの確認をおこなった。
目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。
丸印 ：色ムラ及び干渉縞が良好である。
バツ印：色ムラ及び干渉縞が良好でなかった。

【0191】

「耐擦傷性（スチールウール（ＳＷ）の評価」
得られる反射防止フィルムの低屈折率層表面について、学振型摩擦堅牢度試験機（テスター産業株式会社製、ＡＢ−３０１）を用いて、光学積層体の低屈折率層表面に５００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけたスチールウール（日本スチールウール社製、ボンスター＃００００）を用い、１０往復擦り、擦り跡やキズなどによる外観の変化を目視で評価した。
目視にて確認した評価は、以下の規準でおこなった。
丸印 ：傷を確認することが出来ない。
バツ印：傷が確認できる。

【0192】

「鉛筆硬度の測定」
得られる反射防止フィルムの偏在層表面について、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠した鉛筆硬度試験をおこない、鉛筆硬度を求めた。

【0193】

以下の判断基準により偏在層における中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層の判定をおこなった。

【0194】

「偏在層における中間層の確認」
「視感平均反射率の測定」の項で求めた分光反射率から、中間層の有無の確認をおこなった。具体的には、得られる分光反射率曲線において偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認されない場合を中間層有りと判断し、偏在層の膜厚に対応した干渉ピークが確認される場合を中間層なしと判断した。
丸印 ：中間層有り（干渉ピーク無し）
バツ印：中間層無し（干渉ピーク有り）

【0195】

「偏在層におけるハードコート層の確認」
「鉛筆硬度の測定」の項で求めた偏在層表面の鉛筆硬度から、偏在層表面の鉛筆硬度がＨ以上の場合をハードコート層有り、Ｈ未満の場合をハードコート層なしと判断した。
丸印 ：ハードコート層有り（鉛筆硬度Ｈ以上）
バツ印：ハードコート層無し（鉛筆硬度Ｈ未満）

【0196】

「偏在層における帯電防止層の確認」
「表面抵抗値の測定」の項で求めた表面抵抗値から、帯電防止層の有無の確認をおこなった。表面抵抗値が表面抵抗値１×１０^１０Ω／ｃｍ^２以下の場合を帯電防止層有りと判断し、偏表面抵抗値が表面抵抗値１×１０^１０Ω／ｃｍ^２より大きい場合を帯電防止層なしと判断した。
丸印 ：帯電防止層有り（表面抵抗値１×１０^１０Ω／ｃｍ^２以下）
バツ印：帯電防止層無し（表面抵抗値１×１０^１０Ω／ｃｍ^２より大きい）
なお、偏在層形成用塗液に導電性材料を加えなかった反射防止フィルムについては、「偏在層における帯電防止層の確認」をおこなっていない。

【0197】

「偏在層におけるレベリング層の確認」
レベリング層の存在は、偏在層表面の接触角及びＸ線光電子分光分析装置により確認した。偏在層表面の接触角の測定方法は「接触角の測定」で示したとおりである。Ｘ線光電子分光分析装置（ＪＰＳ−９０ＭＸＶ ｍｉｃｒｏ（日本電子製））を用い、偏在層表面の表面分析をおこなうことにより判断した。接触角が６０°以上であり、かつ、ＸＰＳ測定において導電性材料特有の元素が不検出のものをレベリング層有りと判断し、接触角が６０°未満および／またはＸＰＳによる表面分析において塩素が検出されるものをレベリング層無しと判断した。また、原子量比で０．１ａｔｏｍｉｃ％以下のものは不検出とした。なお、測定の際のＸ線強度は１００Ｗ（１０ｋＶ、１０ｍＡ）とした。
丸印 ：レベリング層有り（接触角６５°以上、かつ、導電性材料特有元素不検出）
バツ印：レベリング層無し（上記以外）
なお、偏在層形成用塗液にレベリング材料を加えなかった反射防止フィルムについては、「偏在層におけるレベリング層の確認」をおこなっていない。

【0198】

なお、導電性材料特有の元素は以下のとおりである。
・四級アンモニウム塩材料 ： Ｃｌ
・金属酸化物粒子（アンチモン含有酸化スズ） ： Ｓｎ
・金属酸化物粒子（リン含有酸化スズ） ： Ｓｎ
・導電性高分子（ポリチオフェン） ： Ｓ
・導電性高分子（ポリアニリン） ： Ｎ

【0199】

次に、本実施例で作製した反射防止フィルムの作製方法について示す。

【0228】

（Ｂ）レベリング材料：アミド基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子

【0229】

以下に、レベリング材料としてアミド基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。

【0230】

以下に偏在層形成塗液Ｂ１〜Ｂ１１の（調整例）を示す。

【0231】

＜調整例Ｂ１＞
（偏在層形成塗液Ｂ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１とした。

【0232】

＜調整例Ｂ２＞
（偏在層形成塗液Ｂ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ２とした。

【0233】

＜調整例Ｂ３＞
（偏在層形成塗液Ｂ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ，Ｎ−ジアリルホルミアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ３とした。

【0234】

＜調整例Ｂ４＞
（偏在層形成塗液Ｂ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ４とした。

【0235】

＜調整例Ｂ５＞
（偏在層形成塗液Ｂ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）１００重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ５とした。

【0236】

＜調整例Ｂ６＞
（偏在層形成塗液Ｂ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ６とした。

【0237】

＜調整例Ｂ７＞
（偏在層形成塗液Ｂ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ７とした。

【0238】

＜調整例Ｂ８＞
（偏在層形成塗液Ｂ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し偏在層形成塗液Ｂ８とした。

【0239】

＜調整例Ｂ９＞
（偏在層形成塗液Ｂ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・Ｎ−ビニルホルムアミド １０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように偏在層形成塗液Ｂ９とした。

【0240】

＜調整例Ｂ１０＞
（偏在層形成塗液Ｂ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１０とした。

【0241】

＜調整例Ｂ１１＞
（偏在層形成塗液Ｂ１１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｂ１１とした。

【0242】

以下に低屈折率層形成塗液Ｂの（調整例）を示す。

【0243】

（低屈折率層形成塗液Ｂ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｂとした。

【0244】

［実施例Ｂ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｂ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0245】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｂを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｂ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0246】

［実施例Ｂ２］〜［実施例Ｂ９］
［実施例Ｂ２］〜［実施例Ｂ９］においては、偏在層形成用塗液Ｂ１の代わりに偏在層形成塗液Ｂ２〜Ｂ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ２］〜［実施例Ｂ９］の反射防止フィルムを作製した。

【0247】

［実施例Ｂ１０］〜［実施例Ｂ１２］
［実施例Ｂ１０］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｂ１１］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｂ１２］においては、偏在層形成塗液Ｂ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0248】

［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］
［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］においては、偏在層形成塗液Ｂ１の代わりに偏在層形成塗液Ｂ１０、Ｂ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｂ１］と同様にして、［実施例Ｂ１３］、［実施例Ｂ１４］の反射防止フィルムを作製した。

【0249】

（表３）に、［実施例Ｂ１］〜［実施例Ｂ１４］における製造条件をまとめたものを示す。

【0250】

【表3】

【0251】

得られた［実施例Ｂ１］〜［実施例Ｂ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表４）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0252】

【表4】

【0276】

（Ｄ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料

【0277】

以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。

【0278】

以下に偏在層形成塗液Ｄ１〜Ｄ１２の（調整例）を示す。

【0279】

（合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製） １８．０ｇ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド ３５．０ｇ
・シクロヘキシルメタクリレート １４．０ｇ
・アゾビスイソブチロニトリル ０．３ｇ
・イソプロピルアルコール １００．０ｇ
・メチルエチルケトン ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。

【0280】

＜調整例Ｄ１＞
（偏在層形成塗液Ｄ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１とした。

【0281】

＜調整例Ｄ２＞
（偏在層形成塗液Ｄ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
（固形分）２０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ２とした。

【0282】

＜調整例Ｄ３＞
（偏在層形成塗液Ｄ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ＢＹＫ−３９４（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ３とした。

【0283】

＜調整例Ｄ４＞
（偏在層形成塗液Ｄ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、重量平均分子量２０８） １０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ４とした。

【0284】

＜調整例Ｄ５＞
（偏在層形成塗液Ｄ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
１０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ５とした。

【0285】

＜調整例Ｄ６＞
（偏在層形成塗液Ｄ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
０．０１重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ６とした。

【0286】

＜調整例Ｄ７＞
（偏在層形成塗液Ｄ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１００重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ７とした。

【0287】

＜調整例Ｄ８＞
（偏在層形成塗液Ｄ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１とした。

【0288】

＜調整例Ｄ９＞
（偏在層形成塗液Ｄ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ９とした。

【0289】

＜調整例Ｄ１０＞
（偏在層形成塗液Ｄ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１０とした。

【0290】

＜調整例Ｄ１１＞
（偏在層形成塗液Ｄ１１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１０とした。

【0291】

＜調整例Ｄ１２＞
（偏在層形成塗液Ｄ１２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｄ１２とした。

【0292】

以下に低屈折率層形成塗液Ｄの（調整例）を示す。

【0293】

（低屈折率層形成塗液Ｄ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｄとした。

【0294】

［実施例Ｄ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｄ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0295】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｄを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｄ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0296】

［実施例Ｄ２］〜［実施例Ｄ１０］
［実施例Ｄ２］〜［実施例Ｄ１０］においては、偏在層形成用塗液Ｄ１の代わりに偏在層形成塗液Ｄ２〜Ｄ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ２］〜［実施例Ｄ１０］の反射防止フィルムを作製した。

【0297】

［実施例Ｄ１１］〜［実施例Ｄ１３］
［実施例Ｄ１１］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｄ１２］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ａ１］と同様にして、［実施例Ｄ１２］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｄ１３］においては、偏在層形成塗液Ｄ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１３］の反射防止フィルムを作製した。

【0298】

［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］
［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］においては、偏在層形成塗液Ｄ１の代わりに偏在層形成塗液Ｄ１１、Ｄ１２を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｄ１］と同様にして、［実施例Ｄ１４］、［実施例Ｄ１５］の反射防止フィルムを作製した。

【0299】

（表７）に、［実施例Ｄ１］〜［実施例Ｄ１５］における製造条件をまとめたものを示す。

【0300】

【表7】

【0301】

得られた［実施例Ｄ１］〜［実施例Ｄ１５］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表８）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0302】

【表8】

【0303】

（Ｅ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子

【0304】

以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。

【0305】

以下に偏在層形成塗液Ｅ１〜Ｅ１１の（調整例）を示す。

【0306】

＜調整例Ｅ１＞
（偏在層形成塗液Ｅ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１とした。

【0307】

＜調整例Ｅ２＞
（偏在層形成塗液Ｅ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ２とした。

【0308】

＜調整例Ｅ３＞
（偏在層形成塗液Ｅ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３９４（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ３とした。

【0309】

＜調整例Ｅ４＞
（偏在層形成塗液Ｅ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ４とした。

【0310】

＜調整例Ｅ５＞
（偏在層形成塗液Ｅ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）１００重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ５とした。

【0311】

＜調整例Ｅ６＞
（偏在層形成塗液Ｅ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ６とした。

【0312】

＜調整例Ｅ７＞
（偏在層形成塗液Ｅ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ７とした。

【0313】

＜調整例Ｅ８＞
（偏在層形成塗液Ｅ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１９とした。

【0314】

＜調整例Ｅ９＞
（偏在層形成塗液Ｅ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液２０とした。

【0315】

＜調整例Ｅ１０＞
（偏在層形成塗液Ｅ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１０とした。

【0316】

＜調整例Ｅ１１＞
（偏在層形成塗液Ｅ１１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｅ１１とした。

【0317】

以下に低屈折率層形成塗液Ｅの（調整例）を示す。

【0318】

（低屈折率層形成塗液Ｅ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｅとした。

【0319】

［実施例Ｅ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｅ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0320】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｅを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｅ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0321】

［実施例Ｅ２］〜［実施例Ｅ９］
［実施例Ｅ２］〜［実施例Ｅ９］においては、偏在層形成用塗液Ｅ１の代わりに偏在層形成塗液Ｅ２〜Ｅ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ２］〜［実施例Ｅ９］の反射防止フィルムを作製した。

【0322】

［実施例Ｅ１０］〜［実施例Ｅ１２］
［実施例Ｅ１０］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｅ１１］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｅ１２］においては、偏在層形成塗液Ｅ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0323】

［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］
［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］においては、偏在層形成塗液Ｅ１の代わりに偏在層形成塗液Ｅ１０、Ｅ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｅ１］と同様にして、［実施例Ｅ１３］、［実施例Ｅ１４］の反射防止フィルムを作製した。

【0324】

（表９）に、［実施例Ｅ１］〜［実施例Ｅ１４］における製造条件をまとめたものを示す。

【0325】

【表9】

【0326】

得られた［実施例Ｅ１］〜［実施例Ｅ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１０）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0327】

【表10】

【0328】

（Ｆ）レベリング材料：アクリル基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩

【0329】

以下に、レベリング材料としてアクリル基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。

【0330】

以下に偏在層形成塗液Ｆ１〜Ｆ１０の（調整例）を示す。

【0331】

＜調整例Ｆ１＞
（偏在層形成塗液Ｆ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１とした。

【0332】

＜調整例Ｆ２＞
（偏在層形成塗液Ｆ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ２とした。

【0333】

＜調整例Ｆ３＞
（偏在層形成塗液Ｆ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径３００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ３とした。

【0334】

＜調整例Ｆ４＞
（偏在層形成塗液Ｆ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３９４（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ４とした。

【0335】

＜調整例Ｆ５＞
（偏在層形成塗液Ｆ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ５とした。

【0336】

＜調整例Ｆ６＞
（偏在層形成塗液Ｆ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ６とした。

【0337】

＜調整例Ｆ７＞
（偏在層形成塗液Ｆ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ７とした。

【0338】

＜調整例Ｆ８＞
（偏在層形成塗液Ｆ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ＢＹＫ−３５０（ビックケミー・ジャパン社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ８とした。

【0339】

＜調整例Ｆ９＞
（ハードコート層形成塗液Ｆ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ９とした。

【0340】

＜調整例Ｆ１０＞
（偏在層形成塗液Ｆ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｆ１０とした。

【0341】

以下に低屈折率層形成塗液Ｆの（調整例）を示す。

【0342】

（低屈折率層形成塗液Ｆ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｆとした。

【0343】

［実施例Ｆ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｆ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0344】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｆを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｆ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0345】

［実施例Ｆ２］〜［実施例Ｆ８］
［実施例Ｆ２］〜［実施例Ｆ８］においては、偏在層形成用塗液Ｆ１の代わりに偏在層形成塗液Ｆ２〜Ｆ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ２］〜［実施例Ｆ８］の反射防止フィルムを作製した。

【0346】

［実施例Ｆ９］〜［実施例Ｆ１１］
［実施例Ｆ９］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｆ１０］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｆ１１］においては、偏在層形成塗液Ｆ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１１］の反射防止フィルムを作製した。

【0347】

［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］
［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］においては、偏在層形成塗液Ｆ１の代わりに偏在層形成塗液Ｆ９、Ｆ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｆ１］と同様にして、［実施例Ｆ１２］、［実施例Ｆ１３］の反射防止フィルムを作製した。

【0348】

（表１１）に、［実施例Ｆ１］〜［実施例Ｆ１３］における製造条件をまとめたものを示す。

【0349】

【表11】

【0350】

得られた［実施例Ｆ１］〜［実施例Ｆ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１２）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0351】

【表12】

【0352】

（Ｇ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料

【0353】

以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。

【0354】

以下に偏在層形成塗液Ｇ１〜Ｇ１１の（調整例）を示す。

【0355】

（合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製） １８．０ｇ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド ３５．０ｇ
・シクロヘキシルメタクリレート １４．０ｇ
・アゾビスイソブチロニトリル ０．３ｇ
・イソプロピルアルコール １００．０ｇ
・メチルエチルケトン ４０．０ｇ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。

【0356】

＜調整例Ｇ１＞
（偏在層形成塗液Ｇ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１とした。

【0357】

＜調整例Ｇ２＞
（偏在層形成塗液Ｇ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
（固形分）２０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ２とした。

【0358】

＜調整例Ｇ３＞
（偏在層形成塗液Ｃ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、分子量２０８） １０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｃ３とした。

【0359】

＜調整例Ｇ４＞
（偏在層形成塗液Ｇ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
１０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ４とした。

【0360】

＜調整例Ｇ５＞
（偏在層形成塗液Ｇ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
０．０１重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ５とした。

【0361】

＜調整例Ｇ６＞
（偏在層形成塗液Ｇ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１００重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ６とした。

【0362】

＜調整例Ｇ７＞
（偏在層形成塗液Ｇ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ７とした。

【0363】

＜調整例Ｇ８＞
（偏在層形成塗液Ｇ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ８とした。

【0364】

＜調整例Ｇ９＞
（偏在層形成塗液Ｇ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ９とした。

【0365】

＜調整例Ｇ１０＞
（偏在層形成塗液Ｇ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１０とした。

【0366】

＜調整例Ｇ１１＞
（偏在層形成塗液Ｇ１１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１１とした。

【0367】

以下に低屈折率層形成塗液Ｇの（調整例）を示す。

【0368】

（低屈折率層形成塗液Ｇ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｇとした。

【0369】

［実施例Ｇ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｇ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0370】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｇを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｇ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0371】

［実施例Ｇ２］〜［実施例Ｇ９］
［実施例Ｇ２］〜［実施例Ｇ９］においては、偏在層形成用塗液Ｇ１の代わりに偏在層形成塗液Ｇ２〜Ｇ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ２］〜［実施例Ｇ９］の反射防止フィルムを作製した。

【0372】

［実施例Ｇ１０］〜［実施例Ｇ１２］
［実施例Ｇ１０］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｇ１１］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｇ１２］においては、偏在層形成塗液Ｇ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0373】

［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］
［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］においては、偏在層形成塗液Ｇ１の代わりに偏在層形成塗液Ｇ１０、Ｇ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｇ１］と同様にして、［実施例Ｇ１３］、［実施例Ｇ１４］の反射防止フィルムを作製した。

【0374】

（表１３）に、［実施例Ｇ１］〜［実施例Ｇ１４］における製造条件をまとめたものを示す。

【0375】

【表13】

【0376】

得られた［実施例Ｇ１］〜［実施例Ｇ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１４）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0377】

【表14】

【0378】

（Ｈ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。

【0379】

以下に偏在層形成塗液Ｈ１〜Ｈ１０の（調整例）を示す。

【0380】

＜調整例Ｈ１＞
（偏在層形成塗液Ｈ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ１とした。

【0381】

＜調整例Ｈ２＞
（偏在層形成塗液Ｈ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ２とした。

【0382】

＜調整例Ｈ３＞
（偏在層形成塗液Ｈ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ３とした。

【0383】

＜調整例Ｈ４＞
（偏在層形成塗液Ｈ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）１００重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ４とした。

【0384】

＜調整例Ｈ５＞
（偏在層形成塗液Ｈ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ５とした。

【0385】

＜調整例Ｈ６＞
（偏在層形成塗液Ｈ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ６とした。

【0386】

＜調整例Ｈ７＞
（偏在層形成塗液Ｈ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ７とした。

【0387】

＜調整例Ｈ８＞
（偏在層形成塗液Ｈ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ８とした。

【0388】

＜調整例Ｈ９＞
（偏在層形成塗液Ｈ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｈ９とした。

【0389】

＜調整例Ｈ１０＞
（偏在層形成塗液Ｈ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｇ１１とした。

【0390】

以下に低屈折率層形成塗液Ｈの（調整例）を示す。

【0391】

（低屈折率層形成塗液Ｈ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｈとした。

【0392】

［実施例Ｈ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｈ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0393】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｈを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｈ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0394】

［実施例Ｈ２］〜［実施例Ｈ８］
［実施例Ｈ２］〜［実施例Ｈ８］においては、偏在層形成用塗液Ｈ１の代わりに偏在層形成塗液Ｈ２〜Ｈ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ２］〜［実施例Ｈ８］の反射防止フィルムを作製した。

【0395】

［実施例Ｈ９］〜［実施例Ｈ１１］
［実施例Ｈ９］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｈ１０］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｈ１１］においては、偏在層形成塗液Ｈ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１１］の反射防止フィルムを作製した。

【0396】

［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］
［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］においては、偏在層形成塗液Ｈ１の代わりに偏在層形成塗液Ｈ９、Ｈ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｈ１］と同様にして、［実施例Ｈ１２］、［実施例Ｈ１３］の反射防止フィルムを作製した。

【0397】

（表１５）に、［実施例Ｈ１］〜［実施例Ｈ１３］における製造条件をまとめたものを示す。

【0398】

【表15】

【0399】

得られた［実施例Ｈ１］〜［実施例Ｈ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１６）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0400】

【表16】

【0401】

（Ｉ）レベリング材料：ブタジエン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩
以下に、レベリング材料としてブタジエン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。

【0402】

以下に偏在層形成塗液Ｉ１〜Ｉ９の（調整例）を示す。

【0403】

＜調整例Ｉ１＞
（偏在層形成塗液Ｉ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ１とした。

【0404】

＜調整例Ｉ２＞
（偏在層形成塗液Ｉ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ２とした。

【0405】

＜調整例Ｉ３＞
（偏在層形成塗液Ｉ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１５００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ３とした。

【0406】

＜調整例Ｉ４＞
（偏在層形成塗液Ｉ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
０．０１重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ５とした。

【0407】

＜調整例Ｉ５＞
（偏在層形成塗液Ｉ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ５とした。

【0408】

＜調整例Ｉ６＞
（偏在層形成塗液Ｉ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ６とした。

【0409】

＜調整例Ｉ７＞
（偏在層形成塗液Ｉ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２０００（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ７とした。

【0410】

＜調整例Ｉ８＞
（偏在層形成塗液Ｉ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ８とした。

【0411】

＜調整例Ｉ９＞
（偏在層形成塗液Ｉ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｉ９とした。

【0412】

以下に低屈折率層形成塗液Ｉの（調整例）を示す。

【0413】

（低屈折率層形成塗液Ｉ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｉとした。

【0414】

［実施例Ｉ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｉ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0415】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｉを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｉ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0416】

［実施例Ｉ２］〜［実施例Ｉ７］
［実施例Ｉ２］〜［実施例Ｉ７］においては、偏在層形成用塗液Ｉ１の代わりに偏在層形成塗液Ｉ２〜Ｉ７を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ２］〜［実施例Ｉ７］の反射防止フィルムを作製した。

【0417】

［実施例Ｉ８］〜［実施例Ｉ１０］
［実施例Ｉ８］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ８］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｉ９］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｉ１０］においては、偏在層形成塗液Ｉ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ１０］の反射防止フィルムを作製した。

【0418】

［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］
［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］においては、偏在層形成塗液Ｉ１の代わりに偏在層形成塗液Ｉ８、Ｉ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｉ１］と同様にして、［実施例Ｉ１１］、［実施例Ｉ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0419】

（表１７）に、［実施例Ｉ１］〜［実施例Ｉ１２］における製造条件をまとめたものを示す。

【0420】

【表17】

【0421】

得られた［実施例Ｉ１］〜［実施例Ｉ１２］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表１８）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0422】

【表18】

【0423】

（Ｊ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩材料

【0424】

以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として四級アンモニウム塩材料を用いた場合の実施例について示す。

【0425】

以下に偏在層形成塗液Ｊ１〜Ｊ１１の（調整例）を示す。

【0426】

（合成例１）
攪拌翼、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた四口フラスコに、
・オクチルポリエチレングリコールポリプロピレングリコールメタクリレート
（商品名：「ブレンマー５０ＰＯＥＰ−８００Ｂ」日本油脂社製） １８．０Ｉ
・メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド ３５．０Ｉ
・シクロヘキシルメタクリレート １４．０Ｉ
・アゾビスイソブチロニトリル ０．３Ｉ
・イソプロピルアルコール １００．０Ｉ
・メチルエチルケトン ４０．０Ｉ
を仕込み、窒素雰囲気下、６５℃で３時間重合した。重合終了後、反応液をヘキサン中に投入し、生成物を析出させた後乾燥した。得られた四級アンモニウム塩材料の重量平均分子量は１８５００であった。

【0427】

＜調整例Ｊ１＞
（偏在層形成塗液Ｊ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１とした。

【0428】

＜調整例Ｊ２＞
（偏在層形成塗液Ｊ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ＮＲ−１２１Ｘ−９ＩＰＡ（コルコート社製／イソプロピロアルコール分散液）
（固形分）２０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ２とした。

【0429】

＜調整例Ｊ３＞
（偏在層形成塗液Ｊ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・四級アンモニウム塩を含有するライトエステルＤＱ１００
（共栄社化学社製、分子量２０８） １０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ３とした。

【0430】

＜調整例Ｊ４＞
（偏在層形成塗液Ｊ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ｐ−スチレンスルホン酸アンモニウム塩ホモポリマー（分子量１２万）
１０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ４とした。

【0431】

＜調整例Ｊ５＞
（偏在層形成塗液Ｊ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
０．０１重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ５とした。

【0432】

＜調整例Ｊ６＞
（偏在層形成塗液Ｊ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１００重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ６とした。

【0433】

＜調整例Ｊ７＞
（偏在層形成塗液Ｊ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ７とした。

【0434】

＜調整例Ｊ８＞
（偏在層形成塗液Ｊ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ８とした。

【0435】

＜調整例Ｊ９＞
（偏在層形成塗液Ｊ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ９とした。

【0436】

＜調整例Ｊ１０＞
（偏在層形成塗液Ｊ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・合成例１で作製した四級アンモニウム塩材料（重量平均分子量１８５００）
１０重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１０とした。

【0437】

＜調整例Ｊ１１＞
（偏在層形成塗液Ｊ１１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｊ１０とした。

【0438】

以下に低屈折率層形成塗液Ｊの（調整例）を示す。

【0439】

（低屈折率層形成塗液Ｊ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｊとした。

【0440】

［実施例Ｊ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｊ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0441】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｊを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｊ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0442】

［実施例Ｊ２］〜［実施例Ｊ９］
［実施例Ｊ２］〜［実施例Ｊ９］においては、偏在層形成用塗液Ｊ１の代わりに偏在層形成塗液Ｊ２〜Ｊ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ２］〜［実施例Ｊ９］の反射防止フィルムを作製した。

【0443】

［実施例Ｊ１０］〜［実施例Ｊ１２］
［実施例Ｊ１０］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｊ１１］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１１］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｊ１２］においては、偏在層形成塗液Ｊ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0444】

［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］
［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］においては、偏在層形成塗液Ｊ１の代わりに偏在層形成塗液Ｊ１０、Ｊ１１を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｊ１］と同様にして、［実施例Ｊ１３］、［実施例Ｊ１４］の反射防止フィルムを作製した。

【0445】

（表１９）に、［実施例Ｊ１］〜［実施例Ｊ１４］における製造条件をまとめたものを示す。

【0446】

【表19】

【0447】

得られた［実施例Ｊ１］〜［実施例Ｊ１４］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２０）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0448】

【表20】

【0449】

（Ｋ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：金属酸化物粒子
以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として金属酸化物粒子を用いた場合の実施例について示す。

【0450】

以下に偏在層形成塗液Ｋ１〜Ｋ１０の（調整例）を示す。

【0451】

＜調整例Ｋ１＞
（偏在層形成塗液Ｋ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ１とした。

【0452】

＜調整例Ｋ２＞
（偏在層形成塗液Ｋ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・リン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ２とした。

【0453】

＜調整例Ｋ３＞
（偏在層形成塗液Ｋ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ３とした。

【0454】

＜調整例Ｋ４＞
（偏在層形成塗液Ｋ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）１００重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ４とした。

【0455】

＜調整例Ｋ５＞
（偏在層形成塗液Ｋ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径１０００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ５とした。

【0456】

＜調整例Ｋ６＞
（偏在層形成塗液Ｋ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ６とした。

【0457】

＜調整例Ｋ７＞
（偏在層形成塗液Ｋ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ７とした。

【0458】

＜調整例Ｋ８＞
（偏在層形成塗液Ｋ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ８とした。

【0459】

＜調整例Ｋ９＞
（偏在層形成塗液Ｋ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ９とした。

【0460】

＜調整例Ｋ１０＞
（偏在層形成塗液Ｋ１０）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・アンチモン含有酸化スズ（平均粒子径５０ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｋ１０とした。

【0461】

以下に低屈折率層形成塗液Ｋの（調整例）を示す。

【0462】

（低屈折率層形成塗液Ｋ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｋとした。

【0463】

［実施例Ｋ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｋ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0464】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｋを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｋバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｋ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0465】

［実施例Ｋ２］〜［実施例Ｋ８］
［実施例Ｋ２］〜［実施例Ｋ８］においては、偏在層形成用塗液Ｋ１の代わりに偏在層形成塗液Ｋ２〜Ｋ８を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ２］〜［実施例Ｋ８］の反射防止フィルムを作製した。

【0466】

［実施例Ｋ９］〜［実施例Ｋ１１］
［実施例Ｋ９］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｋ１０］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１０］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｋ１１］においては、偏在層形成塗液Ｋ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１１］の反射防止フィルムを作製した。

【0467】

［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］
［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］においては、偏在層形成塗液Ｋ１の代わりに偏在層形成塗液Ｋ９、Ｋ１０を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｋ１］と同様にして、［実施例Ｋ１２］、［実施例Ｋ１３］の反射防止フィルムを作製した。

【0468】

（表２１）に、［実施例Ｋ１］〜［実施例Ｋ１３］における製造条件をまとめたものを示す。

【0469】

【表21】

【0470】

得られた［実施例Ｋ１］〜［実施例Ｋ１３］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２２）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0471】

【表22】

【0472】

（Ｌ）レベリング材料：オレフィン基を有する化合物×導電性材料：四級アンモニウム塩
以下に、レベリング材料としてオレフィン基を有する化合物、導電性材料として導電性高分子を用いた場合の実施例について示す。

【0473】

以下に偏在層形成塗液Ｌ１〜Ｌ９の（調整例）を示す。

【0474】

＜調整例Ｌ１＞
（偏在層形成塗液Ｌ１）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液１８とした。

【0475】

＜調整例Ｌ２＞
（偏在層形成塗液Ｌ２）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリアニリン（平均粒子径７５ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ２とした。

【0476】

＜調整例Ｌ３＞
（偏在層形成塗液Ｌ３）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径３００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ３とした。

【0477】

＜調整例Ｌ４＞
（偏在層形成塗液Ｌ４）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）０．０１重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ４とした。

【0478】

＜調整例Ｌ５＞
（偏在層形成塗液Ｌ５）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ５とした。

【0479】

＜調整例Ｌ６＞
（偏在層形成塗液Ｌ６）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が２０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ６とした。

【0480】

＜調整例Ｌ７＞
（偏在層形成塗液Ｌ７）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・フローレンＡＣ２２００ＨＦ（共栄社化学社製） ０．１重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が９０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ７とした。

【0481】

＜調整例Ｌ８＞
（偏在層形成塗液Ｌ８）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ポリチオフェン（平均粒子径１００ｎｍ／イソプロピルアルコール分散液）
（固形分）５重量部
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ８とした。

【0482】

＜調整例Ｌ９＞
（偏在層形成塗液Ｌ９）
ウレタンアクリレート（共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｔ） １００重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート ５０重量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） １０重量部
を用意し、これらをメチルエチルケトンを用いて固形分が５０ｗｔ％となるように調液し、偏在層形成塗液Ｌ９とした。

【0483】

以下に低屈折率層形成塗液Ｌの（調整例）を示す。

【0484】

（低屈折率層形成塗液Ｌ）
・多孔質シリカ微粒子の分散液
（平均粒子径５０ｎｍ／固形分２０ｗｔ％／メチルイソブチルケトン分散液）
（固形分） ２．５重量部
・ＥＯ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（日本化薬社製ＤＰＥＡ−１２） ２．５重量部
・光重合開始剤（チバジャパン社製イルガキュア１８４） ０．１重量部
を用意し、これらをイソプロピルアルコールを用いて固形分が５ｗｔ％となるように調液し、低屈折率層形成塗液Ｌとした。

【0485】

［実施例Ｌ１］
（偏在層の形成）
トリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム社製：膜厚８０μｍ）の片面に偏在層形成塗液Ｌ１を塗布し、一次乾燥として２５℃で１０秒間乾燥炉内で乾燥させ、連続して二次乾燥として８０℃で５０秒間乾燥炉内で乾燥し、乾燥させた後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３００ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚５μｍの透明な偏在層を形成した。

【0486】

（低屈折率層の形成）
形成した偏在層上に、低屈折率層形成塗液Ｌを乾燥後の膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。第一乾燥温度２５℃を２５秒おこなった後に、第二乾燥温度８０℃を５０秒おこなった後に、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量１９２ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬膜させて低屈折率層を形成し、［実施例Ｌ１］の反射防止フィルムを作製した。

【0487】

［実施例Ｌ２］〜［実施例Ｌ７］
［実施例Ｌ２］〜［実施例Ｌ７］においては、偏在層形成用塗液Ｌ１の代わりに偏在層形成塗液Ｌ２〜Ｌ７を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ２］〜［実施例Ｌ７］の反射防止フィルムを作製した。

【0488】

［実施例Ｌ８］〜［実施例Ｌ１０］
［実施例Ｌ８］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、第一乾燥温度を５０℃、第二乾燥温度を６０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ８］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｌ９］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに２５℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ９］の反射防止フィルムを作製した。
［実施例Ｌ１０］においては、偏在層形成塗液Ｌ１を用いて、一次乾燥温度および二次乾燥温度をともに８０℃とし偏在層を形成し、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ１０］の反射防止フィルムを作製した。

【0489】

［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］
［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］においては、偏在層形成塗液Ｌ１の代わりに偏在層形成塗液Ｌ８、Ｌ９を用いて、その他の製造条件は［実施例Ｌ１］と同様にして、［実施例Ｌ１１］、［実施例Ｌ１２］の反射防止フィルムを作製した。

【0490】

（表２３）に、［実施例Ｌ１］〜［実施例Ｌ１２］における製造条件をまとめたものを示す。

【0491】

【表23】

【0492】

得られた［実施例Ｌ１］〜［実施例Ｌ１２］の反射防止フィルムについて、先述のように評価をおこない、また、偏在層中の各層の形成状態を確認した。（表２４）に評価結果等をまとめたものを示す。

【0493】

【表24】

【0494】

実施例の結果、偏在層を、中間層、ハードコート層、帯電防止層、レベリング層から構成される反射防止フィルムとすることで、低い製造コストと優れた光学特性、高い耐擦傷性、帯電防止性能を備える反射防止フィルムを提供することができた。

【符号の説明】

【0495】

１ 反射防止フィルム
１１ 透明基材
１２ 偏在層
１２ａ 中間層
１２ｂ ハードコート層
１２ｃ 帯電防止層
１２ｄ レベリング層
１３ 低屈折率層
２１ 塗布ユニット
２２ 乾燥ユニット
２２ａ 一次乾燥ユニット
２２ｂ 二次乾燥ユニット
２３ 電離放射線照射ユニット
３１ 巻き出し部
３２ 巻き取り部

【図1】

【図2】