(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記一対のラッチノードは、読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを受信することを特徴とする請求項1に記載の不揮発性論理回路。
前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を断つ読み取り動作選択部をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の不揮発性論理回路。
前記一対のラッチノードの前記データを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させる等化部をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の不揮発性論理回路。
一対のラッチノードを有するラッチ部と、一対の不揮発性メモリセルとを備える少なくとも一つの不揮発性論理回路、及び少なくとも一つの論理回路ブロックを備える複数の回路ブロックを有する集積回路の動作方法であって、
前記集積回路により、前記複数の回路ブロックのうち少なくとも一つに供給される電源が臨界値以下であれば、感知信号を生成するステップと、
前記集積回路により、前記感知信号または外部から提供されるコマンドのうち少なくとも一つに基づいて、読み取りイネーブル信号及び書き込みイネーブル信号のうち一つを生成するステップと、
前記集積回路により、書き込みイネーブル信号が活性化されれば、前記一対のラッチノードのデータに基づいて、相異なる第1及び第2書き込み電圧を、前記一対の不揮発性メモリセルにそれぞれ印加することによって、前記一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行うステップと、を含み、
前記第1及び第2書き込み電圧は、前記一対のラッチノードのデータと関係なく外部から提供されることを特徴とする集積回路の動作方法。
前記読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号が活性化されなければ、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を解除するステップと、
前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを前記一対のラッチノードに提供するステップとのうち少なくとも一つをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の集積回路の動作方法。
前記一対のラッチノードのデータを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させることによって、前記一対のラッチノードのデータを等化するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の集積回路の動作方法。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
本発明が解決しようとする課題は、不揮発性メモリ装置を論理回路に適用して、ブーティングにかかる時間を短縮でき、前記不揮発性メモリ装置の耐久性を考慮して、前記不揮発性メモリ装置に対する書き込み動作回数を減らすことができる不揮発性論理回路、前記不揮発性論理回路を備える集積回路、及び前記集積回路の動作方法を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【0004】
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による不揮発性論理回路は、一対のラッチノードを有するラッチ部と、前記一対のラッチノードのデータ及び書き込みイネーブル信号に基づいて、第1及び第2書き込み電圧を受信する一対の不揮発性メモリセルと、を備え、前記第1及び第2書き込み電圧は異なり、前記一対の不揮発性メモリセルのそれぞれに書き込まれるデータの論理値は異なる。
【0005】
前記一対のラッチノードは、読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを受信する。前記不揮発性論理回路は、前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を断つ読み取り動作選択部をさらに備える。
【0006】
前記不揮発性論理回路は、読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を制御する一般動作選択部と、前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを、前記一対のラッチノードに提供する読み取り動作選択部と、前記一対のラッチノードのデータ及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに、前記第1及び第2書き込み電圧をそれぞれ印加する書き込み動作選択部と、をさらに備える。
【0007】
前記不揮発性論理回路は、前記一対のラッチノードの前記データを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させる等化部をさらに備える。
前記一般動作選択部は、前記読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、活性化された出力信号を出力する論理ゲートと、前記活性化された出力信号に基づいて、前記一対のラッチノードを接地電圧端子にそれぞれ連結させる第1及び第2接地スイッチと、を備える。
【0008】
前記読み取り動作選択部は、前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対のラッチノードを、前記一対の不揮発性メモリセルにそれぞれ連結させる第1及び第2読み取りスイッチを備える。
【0009】
前記書き込み動作選択部は、前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記第1及び第2書き込み電圧をそれぞれ印加する第1及び第2書き込み電圧提供部と、前記一対のラッチノードのうち第1ラッチノードのデータに基づいて、前記第1及び第2書き込み電圧提供部を前記一対の不揮発性メモリセルにそれぞれ連結させる二つの第1書き込みスイッチと、前記一対のラッチノードのうち第2ラッチノードのデータに基づいて、前記第1及び第2書き込み電圧提供部を前記一対の不揮発性メモリセルにそれぞれ連結させる二つの第2書き込みスイッチと、を備える。
【0010】
また、前記課題を解決するための本発明による回路ブロックは、入力データをラッチするマスタラッチと、前記マスタラッチの出力データをラッチするスレーブラッチと、を備え、前記スレーブラッチは、一対のラッチノードを有するラッチ部と、前記一対のラッチノードのデータ及び書き込みイネーブル信号に基づいて、第1及び第2書き込み電圧を受信する一対の不揮発性メモリセルと、を備え、前記第1及び第2書き込み電圧は異なり、前記一対の不揮発性メモリセルのそれぞれに書き込まれるデータの論理値は異なる。
【0011】
前記スレーブラッチは、読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を制御する一般動作選択部と、前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを、前記一対のラッチノードに提供する読み取り動作選択部と、前記一対のラッチノードのデータ及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに、前記第1及び第2書き込み電圧をそれぞれ印加する書き込み動作選択部と、をさらに備える。
【0012】
前記スレーブラッチは、前記一対のラッチノードの前記データを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させる等化部をさらに備える。
前記回路ブロックは、クロック信号及び反転クロック信号に基づいて、前記入力データを前記マスタラッチへ伝送する第1伝送ゲートと、前記クロック信号及び前記反転クロック信号に基づいて、前記マスタラッチの前記出力データを、前記スレーブラッチへ伝送する第2伝送ゲートと、をさらに備える。
【0013】
前記スレーブラッチは、前記第2伝送ゲートの出力端子に連結されるインバータと、前記クロック信号及び前記反転クロック信号に基づいて、前記インバータの出力を前記スレーブラッチの出力端子へ伝送する第3伝送ゲートと、をさらに備える。
【0014】
前記スレーブラッチは、前記マスタラッチの出力端子に連結されるインバータと、前記クロック信号及び前記反転クロック信号に基づいて、前記インバータの出力を前記スレーブラッチの出力端子へ伝送する第3伝送ゲートと、をさらに備える。
【0015】
また、前記課題を解決するための本発明による集積回路は、少なくとも一つの論理回路ブロック及び少なくとも一つの不揮発性論理回路を備える複数の回路ブロックと、前記複数の回路ブロックのうち少なくとも一つに供給される電源が臨界値以下であれば、感知信号を生成する電源感知部と、前記感知信号または外部から提供されるコマンドのうち少なくとも一つに基づいて、読み取りイネーブル信号及び書き込みイネーブル信号のうち一つを生成する制御部と、を備え、前記少なくとも一つの不揮発性論理回路は、一対のラッチノードを有するラッチ部と、前記一対のラッチノードのデータ及び書き込みイネーブル信号に基づいて、第1及び第2書き込み電圧を受信する一対の不揮発性メモリセルと、を備え、前記第1及び第2書き込み電圧は異なり、前記一対の不揮発性メモリセルのそれぞれに書き込まれるデータの論理値は異なる。
【0016】
前記少なくとも一つの不揮発性論理回路は、前記読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を制御する一般動作選択部と、前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを、前記一対のラッチノードに提供する読み取り動作選択部と、前記一対のラッチノードのデータ及び前記書き込みイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに、前記第1及び第2書き込み電圧をそれぞれ印加する書き込み動作選択部と、をさらに備える。
【0017】
前記少なくとも一つの不揮発性論理回路は、前記一対のラッチノードの前記データを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させる等化部をさらに備える。
【0018】
また、前記課題を解決するための本発明による集積回路の動作方法は、一対のラッチノードを有するラッチ部と、一対の不揮発性メモリセルとを備える少なくとも一つの不揮発性論理回路、及び少なくとも一つの論理回路ブロックを備える複数の回路ブロックを有する集積回路の動作方法であって、前記集積回路により、前記複数の回路ブロックのうち少なくとも一つに供給される電源が臨界値以下であれば、感知信号を生成するステップと、前記集積回路により、前記感知信号または外部から提供されるコマンドのうち少なくとも一つに基づいて、読み取りイネーブル信号及び書き込みイネーブル信号のうち一つを生成するステップと、前記集積回路により、前記一対のラッチノードのデータに基づいて、相異なる第1及び第2書き込み電圧を前記一対の不揮発性メモリセルにそれぞれ印加することによって、前記一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行うステップと、を含む。
【0019】
前記方法は、前記読み取りイネーブル信号及び前記書き込みイネーブル信号が活性化されなければ、前記一対の不揮発性メモリセルと前記一対のラッチノードとの連結を解除するステップ、及び前記読み取りイネーブル信号に基づいて、前記一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータを、前記一対のラッチノードに提供するステップのうち少なくとも一つをさらに含む。
【0020】
前記方法は、前記一対のラッチノードのデータを等化するためのパルス信号に基づいて、前記一対のラッチノードを連結させることによって、前記一対のラッチノードのデータを等化するステップをさらに含む。
【発明の効果】
【0021】
本発明によれば、不揮発性論理回路は、一対のラッチノードを有するラッチ部、及び一対の不揮発性メモリセルを備え、書き込みイネーブル信号が活性化される場合にのみ、前記一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行うことによって、不揮発性メモリセルの有限な耐久性にもかかわらず、不揮発性論理回路を安定して駆動させることができる。
【0022】
また、本発明によれば、不揮発性論理回路は、読み取りイネーブル信号が活性化されれば、不揮発性メモリセルに保存されたデータを一対のラッチノードに伝達することによって、電源が除去される前に、不揮発性メモリセルに保存されたデータを、電源が印加された後に速く読み取ることができるので、ブーティング動作が単純になり、外部のROMにアクセスせずに直ちにブーティングできるので、ブーティングにかかる時間を大きく短縮できる。
【0023】
また、本発明によれば、突然に電源が除去されても、感知信号を生成し、これによって書き込みイネーブル信号を活性化することによって、不揮発性論理回路のデータを不揮発性メモリセルに書き込むことができ、電源が印加された後に、不揮発性メモリセルに保存されたデータを読み取ることができる。
【発明を実施するための形態】
【0025】
以下、添付した図面を参照して、本発明による望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳細に説明する。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、異なる多様な形態で具現されるものであり、本実施形態は、本発明の開示を完全にし、当業者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものである。図面において、構成要素は、説明の便宜のためにそのサイズが誇張されうる。
【0026】
図1は、本発明の一実施形態による集積回路を概略的に示すブロック図である。
図1を参照すれば、集積回路1は、一つの電子システム内で単一のチップで具現されるが、複数の回路ブロック10ないし50、電源感知部60、制御部70及び/またはパルス生成部95を備え、パルス生成部95は、少なくとも複数の回路ブロック10,20,30にパルス信号PSを出力できる。この時、複数の回路ブロック10ないし50は、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30及び第1及び第2論理回路ブロック40,50を備える。
図1では、三つのフリップフロップ10,20,30及び二つの論理回路ブロック40,50が示されたが、これは、図解の便宜のためのものであり、集積回路1は、さらに多いフリップフロップ及び/またはさらに多い論理回路ブロックを備えることができる。
【0027】
一実施形態において、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30は、それぞれ一対の不揮発性メモリセルを備える不揮発性のフリップフロップでありうる。以下では、本発明による不揮発性の論理回路の一例として、不揮発性のフリップフロップについて詳述する。
【0028】
第1フリップフロップ10は、外部データ生成部90から、外部から提供される入力データINを受信し、受信された入力データINをクロック信号CLKに同期されるようにラッチできる。第1論理回路ブロック40は、第1フリップフロップ10の出力データに対して所定の論理演算を行える。第2フリップフロップ20は、第1論理回路ブロック40の出力データを受信し、受信されたデータをクロック信号CLKに同期されるようにラッチできる。第2論理回路ブロック50は、第2フリップフロップ20の出力データに対して所定の論理演算を行える。第3フリップフロップ30は、第2論理回路ブロック50の出力データを受信し、受信されたデータをクロック信号CLKに同期されるようにラッチできる。このように、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30は、一般的なラッチ動作を行うことによって、集積回路1内の信号をクロック信号CLKに同期させる。
【0029】
また、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30は、書き込みイネーブル信号WENまたは読み取りイネーブル信号RENによって、その内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作または読み取り動作を行える。これによって、各フリップフロップ10,20,30は、書き込みイネーブル信号WENまたは読み取りイネーブル信号RENが活性化された場合には、その内部に含まれた不揮発性メモリセルに対する書き込み動作または読み取り動作を行え、書き込みイネーブル信号WEN及び読み取りイネーブル信号RENが活性化されていない場合には、一般的なラッチ動作を行える。各フリップフロップ10,20,30の具体的な動作については後述する。
【0030】
電源感知部60は、集積回路1に印加される電源を感知して、電源が所定の臨界値以下に低下する時に感知信号SSを生成できる。具体的に、電源感知部60は、集積回路1に備えられた複数の回路ブロック10ないし50のうち少なくとも一つに印加される電源を感知することによって、感知信号SSを生成できる。
【0031】
制御部70は、外部コマンド生成部80から受信した外部から入力されるコマンドCMDまたは電源感知部60で生成された感知信号SSに基づいて、読み取りイネーブル信号RENまたは書き込みイネーブル信号WENを活性化できる。例えば、外部から入力されるコマンドCMDは、書き込みコマンドW_CMDまたは読み取りコマンドR_CMDでありうる。例えば、ブートコードをアップデートするために、ユーザーは、書き込みコマンドW_CMDを生成できる。この時、制御部70は、書き込みコマンドW_CMDによって書き込みイネーブル信号WENを活性化できる。また、ブーティング動作を行ったり、または電源が新たに印加される場合に、ユーザーは、読み取りコマンドR_CMDを生成できる。この時、制御部70は、読み取りコマンドR_CMDによって読み取りイネーブル信号RENを活性化できる。
【0032】
図2は、
図1の電源感知部及び制御部の動作を説明するためのタイミング図である。
図1及び
図2を参照すれば、集積回路1に印加される電源が所定の臨界値以下に低下すれば、電源感知部60は、感知信号SSを生成でき、感知信号SSが生成されれば、制御部70は、書き込みイネーブル信号WENを活性化できる。この時、制御部70で活性化された書き込みイネーブル信号WENは、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30に提供される。各フリップフロップ10,20,30は、活性化された書き込みイネーブル信号WENによって、その内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行える。
【0033】
図3は、
図1の制御部の動作を説明するためのタイミング図である。
図1及び
図3を参照すれば、外部で書き込みコマンドW_CMDまたは読み取りコマンドR_CMDが入力されれば、制御部70は、書き込みイネーブル信号WENまたは読み取りイネーブル信号RENを活性化できる。この時、制御部70で活性化された書き込みイネーブル信号WEN及び読み取りイネーブル信号RENは、第1ないし第3フリップフロップ10,20,30に提供される。各フリップフロップ10,20,30は、活性化された読み取りイネーブル信号RENによって、その内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する読み取り動作を行える。また、各フリップフロップ10,20,30は、活性化された書き込みイネーブル信号WENによって、その内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行える。
【0034】
以下では、再び
図1を参照して、書き込みイネーブル信号WEN及び読み取りイネーブル信号RENによる各フリップフロップ10,20,30の動作について詳述する。
【0035】
集積回路1に提供される電源が一定に維持されるか、または外部から別途のコマンドが受信されなければ、制御部70は、書き込みイネーブル信号WEN及び読み取りイネーブル信号RENを活性化させず、各フリップフロップ10,20,30は、一般的なラッチとして動作できる。一方、外部から読み取りコマンドR_CMDが受信されれば、制御部70は、読み取りイネーブル信号RENを活性化し、各フリップフロップ10,20,30は、内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する読み取り動作を行える。一方、集積回路1に提供される電源が所定の臨界値以下に低下するか、または外部から書き込みコマンドW_CMDが受信されれば、制御部70は、書き込みイネーブル信号WENを活性化し、各フリップフロップ10,20,30は、内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作を行える。
【0036】
したがって、集積回路1に印加される電源が除去される場合に、電源感知部60は、電源が完全に除去される前に感知信号SSを生成し、制御部70は、書き込みイネーブル信号WENを活性化して、各フリップフロップ10,20,30に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対する書き込み動作が行われる。これによって、電源が除去される前に、集積回路1に備えられた論理回路ブロック40,50で行われた結果を各フリップフロップ10,20,30に保存しておく。
【0037】
また、集積回路1に再び電源が印加される場合に、制御部70は、読み取りイネーブル信号RENを活性化して、各フリップフロップ10,20,30に含まれた一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータに対する読み取り動作が行われて、ブートコードをロードすることができる。これによって、集積回路1に再び電源が印加される時に、外部のROMにアクセスせず、集積回路1内で各フリップフロップ10,20,30に含まれた一対の不揮発性メモリセルに保存されたデータをロードしてブーティングすることで、ブーティングにかかる時間を大きく短縮できる。
【0038】
不揮発性メモリセルをフリップフロップのような論理回路に適用する場合には、不揮発性メモリセルに対する非常に高い信頼性(耐久性)が要求される。換言すれば、不揮発性メモリセルに対して、無限な回数の書き込み動作の実行が保証されることが要求される。しかし、実際に不揮発性メモリセルは、約10
5ないし10
6の書き込み動作の実行が保証される。したがって、不揮発性メモリセルが論理回路に含まれた場合、論理回路に入力されるデータによって、不揮発性メモリセルに対して常に書き込み動作が行われる場合に、不揮発性メモリセルの有限な耐久性によって論理回路自体の信頼性が保証されないことがある。
【0039】
本実施形態によれば、各フリップフロップ10,20,30は、書き込みイネーブル信号WENを受信して、書き込みイネーブル信号WENが活性化された場合にのみ、その内部に含まれた一対の不揮発性メモリセルに対して書き込み動作を行える。したがって、各不揮発性メモリセルに対する限定された耐久性にもかかわらず、各不揮発性メモリセルに対する書き込み動作の実行回数を減らすことによって、不揮発性メモリセルを備えるフリップフロップの信頼性を大きく向上させることができる。
【0040】
図4は、
図1のフリップフロップに備えられたラッチ回路の一例を示す回路図である。
図4を参照すれば、ラッチ回路100は、ラッチ部11、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13、一般動作選択部14、読み取り動作選択部15、書き込み動作選択部16及び等化部17を備える。
【0041】
ラッチ部11は、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2を有しており、交差に結合された二つのインバータを備える。第1インバータは、電源電圧端子Vccと連結される第1PMOS(P−type Metal Oxide Semiconductor)トランジスタP1、及び第1PMOSトランジスタP1と直列に連結された第1NMOS(N−type Metal Oxide Semiconductor)トランジスタN1を備え、第2インバータは、電源電圧端子Vccと連結される第2PMOSトランジスタP2、及び第2PMOSトランジスタP2と直列に連結された第2NMOSトランジスタN2を備える。第1インバータの入力端子及び第2インバータの出力端子は、第
2ラッチノードLN
2に対応し、第1インバータの出力端子及び第2インバータの入力端子は、第2ラッチノードLN
1に対応する。
【0042】
第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、電源が切られても、保存されたデータを保存できる素子である。例えば、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、電圧または電流の印加により抵抗値が変化して、高抵抗状態であるリセット状態及び低抵抗状態であるセット状態を有する抵抗メモリでありうる。すなわち、抵抗メモリは、電圧または電流パルスの印加により高抵抗状態または低抵抗状態に遷移するが、かかる二つの状態をビット情報として利用して情報を保存するメモリ素子として活用される。しかし、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、抵抗メモリに限定されず、多様な形態のメモリセル、例えばフラッシュ、PRAM、FeRAMまたはMRAMで構成される。
【0043】
一般動作選択部14は、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENが活性化されなければ、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13がラッチ部11に連結されないように制御する。具体的に、一般動作選択部14は、論理ゲート141及び論理ゲート141の出力信号によってオン/オフになる第1及び第2接地スイッチ142,143を備える。
【0044】
論理ゲート141は、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENが活性化されていない場合に出力信号を活性化する。例えば、論理ゲート141は、NORゲートで具現され、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENに対して論理NOR演算を行える。第1及び第2接地スイッチ142,143は、論理ゲート141の出力信号が活性化されれば閉鎖されて、ラッチ部11に備えられた第1及び第2NMOSトランジスタN1,N2のソース端子をそれぞれ接地電圧端子に連結させる。これによって、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENが活性化されていない場合に、ラッチ回路100は、一般的なラッチとして動作できる。
【0045】
読み取り動作選択部15は、読み取りイネーブル信号RENが活性化されれば、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13を、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に連結させることによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータを、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に提供する。具体的に、読み取り動作選択部15は、読み取りイネーブル信号RENによってオン/オフになる第1及び第2読み取りスイッチ151,152を備える。
【0046】
第1及び第2読み取りスイッチ151,152は、読み取りイネーブル信号RENが活性化されれば閉鎖されて、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13を第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に連結させる。これによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータは、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に伝達されて読み取り動作が行われる。
【0047】
書き込み動作選択部16は、書き込みイネーブル信号WENが活性化されれば、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2のデータによって、相異なる第1及び第2書き込み電圧V1,V2を、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13にそれぞれ印加する。この時、第1書き込み電圧V1は、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13をセットさせるために印加される電圧であり、第2書き込み電圧V2は、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13をリセットさせるために印加される電圧であり、第2書き込み電圧V2は、第1書き込み電圧V1より高い。具体的に、書き込み動作選択部16は、第1及び第2書き込み電圧提供部161,162、第1書き込みスイッチ163,164及び第2書き込みスイッチ165,166を備える。
【0048】
第1書き込み電圧提供部161は、第1書き込み電圧V1端子に連結されるソース、及び反転書き込みイネーブル信号nWENが印加されるゲートを有するPMOSトランジスタを備える。第2書き込み電圧提供部162は、第2書き込み電圧V2端子に連結されるソース、及び反転書き込みイネーブル信号nWENが印加されるゲートを有するPMOSトランジスタを備える。したがって、書き込みイネーブル信号WENが活性化されれば、すなわち、反転書き込みイネーブル信号nWENが論理‘ロー’であれば、第1及び第2書き込み電圧提供部161,162それぞれに備えられたPMOSトランジスタがターンオンされて、第1及び第2書き込み電圧V1,V2をそれぞれ出力できる。
【0049】
第1書き込みスイッチ163,164は、第1ラッチノードLN1のデータによってオン/オフになって、第1及び第2書き込み電圧提供部161,162の出力端子を第1及び第2不揮発性メモリセル12,13にそれぞれ連結させる。第2書き込みスイッチ165,166は、第2ラッチノードLN2のデータによってオン/オフになって、第1及び第2書き込み電圧提供部161,162の出力端子を、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13にそれぞれ連結させる。
【0050】
等化部17は、第1ラッチノードLN1と第2ラッチノードLN2との間に連結されて、所定のパルス幅を有するパルス信号PSが印加されれば、第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2の電圧を等化させる。具体的に、等化部17は、パルス信号PSが印加されるゲートを有するNMOSトランジスタで具現される。したがって、パルス信号PSが活性化されれば、すなわち、論理‘ハイ’であれば、第1ラッチノードLN1と第2ラッチノードLN2とは互いに連結されて、第1ラッチノード
LN1の電圧は、第2ラッチノード
LN2の電圧と同一になる。
【0051】
ここで、パルス信号PSは、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に対する読み取り動作を行う場合に活性化される。これによって、パルス信号PSが活性化された区間で、第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2の電圧を等化させた後、パルス信号PSが非活性化されれば、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータを第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2に伝達することによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータを読み取ることができる。
【0052】
図5は、
図4のラッチ回路の一般動作を説明するための回路図である。
図5を参照すれば、ラッチ回路100の一般動作が行われる場合、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENが活性化されず、パルス信号PSも活性化されない。したがって、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号が活性化され、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143が閉鎖される(すなわち、“on”になる)。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は開放され(すなわち、“off”になり)、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162及び等化部17は非活性化される。したがって、ラッチ部11は、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13と連結されていないので、ラッチ回路100は、一般的なラッチ回路として動作する。
【0053】
図6は、
図4のラッチ回路の読み取り動作を説明するための回路図である。
図6を参照すれば、ラッチ回路100の読み取り動作が行われる場合、読み取りイネーブル信号REN及びパルス信号PSが活性化され、書き込みイネーブル信号WENは活性化されない。この時、パルス信号PSの活性化区間は、読み取りイネーブル信号RENの活性化区間より短い。したがって、まず、等化部17は、第1ラッチノードLN1と第2ラッチノードLN2とを連結させ、これによって、それら間の電圧が等化される。
【0054】
また、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号は活性化されず、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143は開放される。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は閉鎖され、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162は非活性化される。したがって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、
図6で矢印で表示された経路によって、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に連結されて、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータは、それぞれ第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に伝達される。
【0055】
図7は、
図4のラッチ回路の書き込み動作を説明するための回路図である。
図7を参照すれば、ラッチ回路100の書き込み動作が行われる場合、書き込みイネーブル信号WENが活性化され、読み取りイネーブル信号REN及びパルス信号PSは活性化されない。したがって、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号は活性化されず、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143は開放される。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は開放され、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162は活性化される。したがって、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2のデータは、
図7で矢印で表示された経路によって、第1書き込みスイッチ163,164及び第2書き込みスイッチ165,166に連結されて、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に対する
書き込み動作が行われる。この時、第1ラッチノードLN1のデータと第2ラッチノードLN2のデータとは互いに逆になる論理値を有するので、第3スイッチ163,164または第4スイッチ165,166は選択的に開放される。
【0056】
具体的に、第1ラッチノードLN1のデータが論理‘ハイ’であり、第2ラッチノードLN2のデータが論理‘ロー’であれば、第1書き込みスイッチ163,164は開放され、第2書き込みスイッチ165,166は閉鎖される。これによって、第2書き込み電圧提供部162の出力端子は、第1不揮発性メモリセル12に連結され、第1書き込み電圧提供部161の出力端子は、第2不揮発性メモリセル13に連結される。したがって、第1不揮発性メモリセル12は、第2書き込み電圧V2であるリセット電圧が印加され、第2不揮発性メモリセル13は、第1書き込み電圧V1であるセット電圧が印加される。
【0057】
一方、第1ラッチノードLN1のデータが論理‘ロー’であり、第2ラッチノードLN2のデータが論理‘ハイ’であれば、第1書き込みスイッチ163,164は閉鎖され、第2書き込みスイッチ165,166は開放される。これによって、第1書き込み電圧提供部161の出力端子は、第1不揮発性メモリセル12に連結され、第2書き込み電圧提供部162の出力端子は、第2不揮発性メモリセル13に連結される。したがって、第1不揮発性メモリセル12は、第1書き込み電圧V1であるセット電圧が印加され、第2不揮発性メモリセル13は、第2書き込み電圧V2であるリセット電圧が印加される。
【0058】
図8は、
図1のフリップフロップの一例を示す回路図である。第1ないし第3フリップフロップ10,20,30は、
図8に示したフリップフロップ200と同じ構造を有する。
【0059】
図8を参照すれば、フリップフロップ200は、マスタラッチML及びスレーブラッチSLを備えるマスタスレーブ・フリップフロップでありうる。フリップフロップ200は、第1及び第2伝送ゲートTG1,TG2をさらに備える。第1伝送ゲートTG1は、クロック信号CLK及び反転クロック信号nCLKによってオン/オフになって、入力データDinをマスタラッチMLへ伝送できる。第2伝送ゲートTG2は、クロック信号CLK及び反転クロック信号nCLKによってオン/オフになって、マスタラッチMLの出力データをスレーブラッチSLへ伝送できる。
【0060】
マスタラッチMLは、交差に結合された第1及び第2インバータINV1,INV2を備え、第3伝送ゲートTG3をさらに備える。第3伝送ゲートTG3は、クロック信号CLK及び反転クロック信号nCLKによってオン/オフになって、第2インバータINV2の出力を第1インバータINV1へ伝送できる。
【0061】
スレーブラッチSLは、
図4のラッチ回路100を備える。したがって、スレーブラッチSLに備えられたラッチ回路100は、
図4に示したラッチ回路100と同一であるので、これについての詳細な説明は省略する。さらに、スレーブラッチSLは、第3インバータINV3及び第4伝送ゲートTG4をさらに備える。第3インバータINV3は、第2伝送ゲートTG2の出力データを反転し、第4伝送ゲートTG4は、クロック信号CLK及び反転クロック信号nCLKによってオン/オフになって、第3インバータINV3の出力を出力ノードDoutに伝達できる。他の実施例において、第3インバータINV3は、マスタラッチMLの出力端子に連結されて、マスタラッチMLの出力データを反転することもできる。
【0062】
図9は、
図8のフリップフロップの一般動作を説明するための回路図である。
図9を参照すれば、フリップフロップ200の一般動作が行われる場合、読み取りイネーブル信号REN及び書き込みイネーブル信号WENが活性化されず、パルス信号PSも活性化されない。したがって、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号が活性化され、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143が閉鎖される。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は開放され、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162及び等化部17は非活性化される。したがって、ラッチ部11は、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13と連結されていないので、ラッチ回路100は、一般的なラッチとして動作する。これによって、フリップフロップ200は、
図9で矢印で表示された経路によって電流が流れることによって、一般的なマスタスレーブフリップフロップとして動作する。この時、フリップフロップ200は、クロック信号CLKの立ち上がりエッジでデータをラッチすることができる。
【0063】
図10は、
図8のフリップフロップの読み取り動作を説明するための回路図である。
図10を参照すれば、フリップフロップ200の読み取り動作が行われる場合、読み取りイネーブル信号REN及びパルス信号PSが活性化され、書き込みイネーブル信号WENは活性化されない。この時、パルス信号PSの活性化区間は、読み取りイネーブル信号RENの活性化区間より短い。したがって、まず、等化部17は、第1ラッチノードLN1と第2ラッチノードLN2とを連結させ、これによって、それら間の電圧が等化される。次いで、パルス信号PSが非活性化されれば、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13の読み取り動作により、第1ラッチノード
LN1及び第2ラッチノードLN2の電圧は変化する。
【0064】
この時、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号は活性化されず、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143は開放される。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は閉鎖され、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162は非活性化される。したがって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、
図10で矢印で表示された経路によって、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に連結されて、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータは、それぞれ第1及び第2ラッチノードLN1,LN2に伝達される。
【0065】
図11は、
図8のフリップフロップの読み取り動作を説明するためのタイミング図である。
図10及び
図11を参照すれば、クロック信号CLKで二つのクロック区間を経れば、フリップフロップ200に入力されるデータDinがスレーブラッチSLに伝達される。次いで、パルス信号PSが活性化されれば、スレーブラッチSLの第1ラッチノードLN1と第2ラッチノードLN2とが連結されて、第1ラッチノードLN1の電圧と第2ラッチノードLN2の電圧とが等化される。第1ラッチノードLN1の電圧と第2ラッチノードLN2の電圧とが等化されれば、パルス信号PSは再び非活性化される。読み取り動作を行う場合には、一対の不揮発性メモリセル12,13のデータを明確にセンシングするために、このように、第1ラッチノードLN1の電圧及び第2ラッチノードLN2の電圧に対する等化動作が先行されねばならない。
【0066】
また、読み取りイネーブル信号RENが活性化されれば、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13は、それぞれ第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2に連結される。これによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に保存されたデータは、それぞれ第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2に伝達されることによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に対する読み取り動作が行われる。
【0067】
図12は、
図8のフリップフロップの書き込み動作を説明するための回路図である。
図12を参照すれば、フリップフロップ200の書き込み動作が行われる場合、書き込みイネーブル信号WENが活性化され、読み取りイネーブル信号REN及びパルス信号PSは活性化されない。したがって、一般動作選択部14の論理ゲート141の出力信号は活性化されず、これによって、第1及び第2接地スイッチ142,143は開放される。一方、読み取り動作選択部15の第1及び第2読み取りスイッチ151,152は開放され、書き込み動作選択部16の第1及び第2書き込み電圧提供部161,162は活性化される。
【0068】
したがって、第1及び第2ラッチノードLN1,LN2のデータは、
図12で矢印で表示された経路によって、第1書き込みスイッチ163,164及び第2書き込みスイッチ165,166に連結されて、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に対する
書き込み動作が行われる。この時、第1ラッチノードLN1のデータと第2ラッチノードLN2のデータとは互いに逆になる論理値を有するので、第3スイッチ163,164または第4スイッチ165,166は選択的に開放される。
【0069】
図13は、
図8のフリップフロップの書き込み動作を説明するためのタイミング図である。
図12及び
図13を参照すれば、クロック信号CLKで二つのクロック区間を経れば、フリップフロップ200に入力されるデータDinがスレーブラッチSLに伝達される。次いで、書き込みイネーブル信号WENが活性化されれば、第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードLN2がそれぞれ第1書き込みスイッチ163,164及び第2書き込みスイッチ165,166に連結される。したがって、第1ラッチノードLN1及び第2ラッチノードN2のデータによって、第1書き込みスイッチ163,164及び第2書き込みスイッチ165,166がオン/オフになって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に第1及び第2書き込み電圧V1,V2が選択的に印加されることによって、第1及び第2不揮発性メモリセル12,13に対する書き込み動作が行われる。
【0070】
具体的に、第1ラッチノードLN1のデータが論理‘ハイ’であり、第2ラッチノードLN2のデータが論理‘ロー’であれば、第1書き込みスイッチ163,164は開放され、第2書き込みスイッチ165,166は閉鎖される。これによって、第2書き込み電圧提供部162の出力端子は、第1不揮発性メモリセル12に連結され、第1書き込み電圧提供部161の出力端子は、第2不揮発性メモリセル13に連結される。したがって、第1不揮発性メモリセル12は、第2書き込み電圧V2であるリセット電圧が印加され、第2不揮発性メモリセル13は、第1書き込み電圧V1であるセット電圧が印加される。
【0071】
一方、第1ラッチノードLN1のデータが論理‘ロー’であり、第2ラッチノードLN2のデータが論理‘ハイ’であれば、第1書き込みスイッチ163,164は閉鎖され、第2書き込みスイッチ165,166は開放される。これによって、第1書き込み電圧提供部161の出力端子は、第1不揮発性メモリセル12に連結され、第2書き込み電圧提供部162の出力端子は、第2不揮発性メモリセル13に連結される。したがって、第1不揮発性メモリセル12は、第1書き込み電圧V1であるセット電圧が印加され、第2不揮発性メモリセル13は、第2書き込み電圧V2であるリセット電圧が印加される。
【0072】
前述した本願の一実施形態による集積回路は、電子機器または電子システムに備えられるが、具体的に、電子機器または電子システムで単一のチップで具現される。このように、電子機器または電子システムに備えられた複数のチップに備えられた論理回路が不揮発性メモリセルを備える。これによって、突然の電源の除去にもかかわらず、電子機器または電子システムのデータを不揮発性メモリセルに保存しておき、電源の復旧時に速いブーティングが可能である。
【0073】
以上で説明した本発明が前述した実施形態及び添付された図面に限定されず、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で色々な置換、変形及び変更が可能であるということは、当業者にとって明白である。