特許 5707453 主磁極とシールドを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッド

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5707453

(24)【登録日】2015年3月6日

(45)【発行日】2015年4月30日

(54)【発明の名称】主磁極とシールドを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッド

(51)【国際特許分類】

   G11B 5/31 20060101AFI20150409BHJP

【ＦＩ】

   G11B5/31 D

   G11B5/31 Q

   G11B5/31 C

【請求項の数】9

【全頁数】35

(21)【出願番号】特願2013-150289(P2013-150289)

(22)【出願日】2013年7月19日

(65)【公開番号】特開2014-35785(P2014-35785A)

(43)【公開日】2014年2月24日

【審査請求日】2013年7月19日

(31)【優先権主張番号】13/569,682

(32)【優先日】2012年8月8日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】500475649

【氏名又は名称】ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド

(73)【特許権者】

【識別番号】500393893

【氏名又は名称】新科實業有限公司

【氏名又は名称原語表記】ＳＡＥ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ（Ｈ．Ｋ．）Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100107559

【弁理士】

【氏名又は名称】星宮 勝美

(72)【発明者】

【氏名】佐々木 芳高

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 浩幸

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 一樹

(72)【発明者】

【氏名】荒木 宏典

(72)【発明者】

【氏名】種村 茂樹

(72)【発明者】

【氏名】清水 達也

【審査官】 斎藤 眞

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−１５７２９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１２３８８６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ１１Ｂ ５／３１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

記録媒体に対向する媒体対向面と、
前記記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生するコイルと、
前記媒体対向面に配置された端面を有し、前記コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって前記情報を前記記録媒体に記録するための記録磁界を発生する主磁極と、
磁性材料よりなり、前記媒体対向面に配置された端面を有する記録シールドと、
非磁性材料よりなり、前記主磁極と前記記録シールドとの間に設けられたギャップ部とを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドであって、
前記記録シールドの端面は、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含み、
前記主磁極は、前記記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、前記上面とは反対側の下端部とを有し、
前記主磁極の上面と下端部の少なくとも一方は、傾斜部を含み、
前記傾斜部は、前記媒体対向面に配置された前端部と、その反対側の後端部とを有し、
前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、前記主磁極の端面の前記記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、前記媒体対向面および前記記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定したとき、
前記傾斜部は、前記後端部が前記前端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記記録シールドは、前記ギャップ部を介して前記傾斜部に対向する第１の傾斜面と、前記第１の傾斜面よりも前記媒体対向面からより遠い位置にある第２の傾斜面とを有し、
前記第１の傾斜面は、前記媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有し、前記第２の端部が前記第１の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第１の傾斜面の全体が前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記第２の傾斜面は、前記第２の端部に接続された第３の端部と、その反対側の第４の端部とを有し、前記第４の端部が前記第３の端部よりも前記第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、前記第２の傾斜面の全体が前記第１および第２の仮想の平面および前記媒体対向面に対して傾斜し、
前記第２の傾斜面が前記媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、前記第１の傾斜面が前記媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度よりも大きく、
前記第２の傾斜面上の任意の位置と前記主磁極との間の距離は、前記第３の端部を起点として、前記任意の位置が前記第４の端部に近づくに従って大きくなっていることを特徴とする垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項2】

前記第１の傾斜面が前記媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、３０°〜４５°の範囲内であり、前記第２の傾斜面が前記媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、５０°〜６５°の範囲内であることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項3】

前記主磁極の下端部が前記傾斜部を含み、
前記記録シールドの端面は、更に、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項4】

更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備え、
前記帰磁路部は、前記主磁極に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、前記空間を通過する部分を含むことを特徴とする請求項３記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項5】

前記主磁極の上面が前記傾斜部を含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項6】

更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備え、
前記帰磁路部は、前記主磁極に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、前記空間を通過する部分を含むことを特徴とする請求項５記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項7】

前記主磁極の下端部と上面が、それぞれ前記傾斜部を含み、
前記記録シールドの端面は、更に、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含むことを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項8】

更に、磁性材料よりなる第１および第２の帰磁路部を備え、
前記第１の帰磁路部は、前記主磁極に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第１の帰磁路部によって囲まれた第１の空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記第２の帰磁路部は、前記主磁極に対して前記記録媒体の進行方向の前側に配置されて、前記主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第２の帰磁路部によって囲まれた第２の空間が形成されるように、前記主磁極のうちの前記媒体対向面から離れた部分と前記記録シールドとを接続し、
前記コイルは、前記第１の空間を通過する第１の部分と、前記第２の空間を通過する第２の部分とを含むことを特徴とする請求項７記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【請求項9】

前記記録シールドの端面は、更に、第２、第３および第４の端面部分を含み、
前記第２の端面部分は、前記主磁極の前記端面に対して前記記録媒体の進行方向の後側に配置され、
前記第３および第４の端面部分は、前記主磁極の前記端面に対してトラック幅方向の両側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録用磁気ヘッド。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、垂直磁気記録方式によって記録媒体に情報を記録するために用いられる垂直磁気記録用磁気ヘッドに関し、特に、主磁極とシールドを備えた垂直磁気記録用磁気ヘッドに関する。

【背景技術】

【0002】

磁気記録再生装置における記録方式には、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがある。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密度を実現することが可能であると言われている。

【0003】

一般的に、垂直磁気記録用の磁気ヘッドとしては、長手磁気記録用の磁気ヘッドと同様に、読み出し用の磁気抵抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistive）素子とも記す。）を有する再生ヘッド部と、書き込み用の誘導型電磁変換素子を有する記録ヘッド部とを、基板の上面上に積層した構造のものが用いられる。記録ヘッド部は、記録媒体の面に対して垂直な方向の記録磁界を発生する主磁極を備えている。主磁極は、例えば、一端部が記録媒体に対向する媒体対向面に配置されたトラック幅規定部と、このトラック幅規定部の他端部に連結され、トラック幅規定部よりも大きな幅を有する幅広部とを有している。トラック幅規定部は、ほぼ一定の幅を有している。垂直磁気記録方式の記録ヘッド部には、高記録密度化のために、トラック幅の縮小と、記録特性、例えば重ね書きの性能を表わすオーバーライト特性の向上が求められる。

【0004】

ところで、ハードディスク装置等の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドは、一般的に、スライダに設けられる。スライダは、上記媒体対向面を有している。この媒体対向面は、空気流入端（リーディング端）と空気流出端（トレーリング端）とを有している。そして、空気流入端から媒体対向面と記録媒体との間に流入する空気流によって、スライダは記録媒体の表面からわずかに浮上するようになっている。

【0005】

ここで、基準の位置に対して、よりリーディング端に近い位置をリーディング側と定義し、基準の位置に対して、よりトレーリング端に近い位置をトレーリング側と定義する。リーディング側は、スライダに対する記録媒体の進行方向の後側である。トレーリング側は、スライダに対する記録媒体の進行方向の前側である。

【0006】

スライダにおいて、一般的に、磁気ヘッドは媒体対向面におけるトレーリング端近傍に配置される。磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの位置決めは、例えばロータリーアクチュエータによって行なわれる。この場合、磁気ヘッドは、ロータリーアクチュエータの回転中心を中心とした円軌道に沿って記録媒体上を移動する。このような磁気ディスク装置では、磁気ヘッドのトラック横断方向の位置に応じて、スキューと呼ばれる、円形のトラックの接線に対する磁気ヘッドの傾きが生じる。

【0007】

特に、長手磁気記録方式に比べて記録媒体への書き込み能力が高い垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置では、上述のスキューが生じると、あるトラックへの信号の記録時に、記録対象のトラックに隣接する１以上のトラックに記録された信号が消去されたり減衰したりする現象（以下、隣接トラック消去と言う。）が生じる場合がある。高記録密度化のためには、隣接トラック消去の発生を抑制する必要がある。

【0008】

上述のようなスキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制する技術としては、例えば、特許文献１，２に記載されているように、媒体対向面における主磁極の端面の幅を、基板の上面に近づくに従って小さくする技術が知られている。また、特許文献１，２には、媒体対向面の近傍における主磁極の厚みを、媒体対向面に近づくに従って小さくする技術が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0009】

【特許文献1】特開２００２−１３３６１０号公報

【特許文献2】特開２００９−６４５３９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0010】

ところで、スキューに起因した問題の発生を防止するためには、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくすることも効果的である。しかしながら、主磁極全体を薄くすると、磁束の流れる方向に対して垂直な主磁極の断面積が小さくなる。その結果、主磁極は、多くの磁束を媒体対向面まで導くことができなくなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまう。

【0011】

特許文献１，２に記載されているように、媒体対向面の近傍における主磁極の厚みを、媒体対向面に近づくに従って小さくすることにより、媒体対向面における主磁極の厚みを小さくすることができ、且つ主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分の厚みを大きくして、主磁極によって多くの磁束を媒体対向面まで導くことが可能になる。

【0012】

また、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制すると共に記録密度を向上させるためには、特許文献２に記載されているように、媒体対向面において主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された端面を有する記録シールドを設けることが有効である。

【0013】

以上のことから、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制すると共に記録密度を向上させるための磁気ヘッドの構造としては、媒体対向面の近傍における主磁極の上面の一部と媒体対向面の近傍における主磁極の下端部の一部の少なくとも一方を、媒体対向面に垂直な方向に対して傾いた傾斜部にすると共に、この傾斜部に対向する傾斜面を有する記録シールドを設けた構造が考えられる。

【0014】

しかし、上記の構造では、主磁極の傾斜部と記録シールドの傾斜面とが広い領域において小さな間隔で対向していると、主磁極から記録シールドへの磁束の漏れが多くなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまうという問題が発生する。

【0015】

これを防止するために、媒体対向面に垂直な方向についての傾斜面の長さを小さくすることが考えられる。しかし、そうすると、記録シールドの体積が小さくなって、記録シールドの機能が損なわれてしまう。すなわち、記録シールドの体積が小さくなると、記録シールドにおいて磁束の飽和が生じやすくなる。すると、記録シールドから媒体対向面に向けて磁束が漏れて、この漏れた磁束によって、記録媒体に記録された情報が誤って消去されるという問題が発生する。

【0016】

このように、従来は、記録シールドを備えた磁気ヘッドにおいて、記録シールドの機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが難しかった。

【0017】

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、記録シールドの機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることができるようにした垂直磁気記録用磁気ヘッドを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0018】

本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面と、コイルと、主磁極と、磁性材料よりなる記録シールドと、非磁性材料よりなるギャップ部とを備えている。コイルは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。主磁極は、媒体対向面に配置された端面を有し、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。記録シールドは、媒体対向面に配置された端面を有している。ギャップ部は、主磁極と記録シールドとの間に設けられている。

【0019】

記録シールドの端面は、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の端面部分を含んでいる。主磁極は、記録媒体の進行方向の前側の端に位置する面である上面と、上面とは反対側の下端部とを有している。主磁極の上面と下端部の少なくとも一方は、傾斜部を含んでいる。傾斜部は、媒体対向面に配置された前端部と、その反対側の後端部とを有している。

【0020】

本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドでは、主磁極の端面の記録媒体の進行方向の前側に配置された端部を通り、媒体対向面および記録媒体の進行方向に垂直な第１の仮想の平面と、主磁極の端面の記録媒体の進行方向の後側に配置された端部を通り、媒体対向面および記録媒体の進行方向に垂直な第２の仮想の平面とを想定する。傾斜部は、後端部が前端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。

【0021】

記録シールドは、ギャップ部を介して傾斜部に対向する第１の傾斜面と、第１の傾斜面よりも媒体対向面からより遠い位置にある第２の傾斜面とを有している。第１の傾斜面は、媒体対向面に配置された第１の端部と、その反対側の第２の端部とを有し、第２の端部が第１の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。第２の傾斜面は、第２の端部に接続された第３の端部と、その反対側の第４の端部とを有し、第４の端部が第３の端部よりも第１および第２の仮想の平面からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面および媒体対向面に対して傾斜している。第２の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、第１の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度よりも大きい。第２の傾斜面上の任意の位置と主磁極との間の距離は、任意の位置が第４の端部に近づくに従って大きくなっている。

【0022】

本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、第１の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、３０°〜４５°の範囲内であってもよいし、第２の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、５０°〜６５°の範囲内であってもよい。

【0023】

また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の下端部が傾斜部を含み、記録シールドの端面は、更に、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含んでいてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備えていてもよい。この帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、上記空間を通過する部分を含んでいてもよい。

【0024】

また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の上面が傾斜部を含んでいてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、磁性材料よりなる帰磁路部を備えていてもよい。この帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび帰磁路部によって囲まれた空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、上記空間を通過する部分を含んでいてもよい。

【0025】

また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極の下端部と上面が、それぞれ傾斜部を含み、記録シールドの端面は、更に、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の後側に配置された第２の端面部分を含んでいてもよい。この場合、磁気ヘッドは、更に、磁性材料よりなる第１および第２の帰磁路部を備えていてもよい。第１の帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第１の帰磁路部によって囲まれた第１の空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。第２の帰磁路部は、主磁極に対して記録媒体の進行方向の前側に配置されて、主磁極、ギャップ部、記録シールドおよび第２の帰磁路部によって囲まれた第２の空間が形成されるように、主磁極のうちの媒体対向面から離れた部分と記録シールドとを接続している。コイルは、第１の空間を通過する第１の部分と、第２の空間を通過する第２の部分とを含んでいてもよい。

【0026】

また、本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドにおいて、記録シールドの端面は、更に、第２、第３および第４の端面部分を含んでいてもよい。第２の端面部分は、主磁極の端面に対して記録媒体の進行方向の後側に配置されている。第３および第４の端面部分は、主磁極の端面に対してトラック幅方向の両側に配置されている。

【発明の効果】

【0027】

本発明の垂直磁気記録用磁気ヘッドでは、第２の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度は、第１の傾斜面が媒体対向面に垂直な方向に対してなす角度よりも大きい。また、第２の傾斜面上の任意の位置と主磁極との間の距離は、任意の位置が第４の端部に近づくに従って大きくなっている。これらのことから、本発明によれば、記録シールドにおいて磁束の飽和が生じることを抑制しながら、主磁極から記録シールドへの磁束の漏れを抑制することができる。従って、本発明によれば、記録シールドの機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【0028】

【図1】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。

【図2】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。

【図3】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。

【図4】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分を示す平面図である。

【図5】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第１層を示す平面図である。

【図6】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第２層を示す平面図である。

【図7】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法における一工程を示す断面図である。

【図8】図７に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図9】図８に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図10】図９に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図11】図１０に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図12】図１１に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図13】図１２に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図14】図１３に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図15】図１４に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図16】図１５に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図17】図１６に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図18】図１７に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図19】図１８に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図20】図１９に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図21】図２０に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図22A】図２１に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図22B】図２１に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図23】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。

【図24】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。

【図25】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。

【図26】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法における一工程を示す断面図である。

【図27】図２６に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図28】図２７に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図29】図２８に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図30】図２９に示した工程に続く工程を示す断面図である。

【図31】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。

【図32】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0029】

［第１の実施の形態］
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図１ないし図６を参照して、本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドの構成について説明する。図１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。図２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。図１および図２において記号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。図３は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。図４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第１の部分を示す平面図である。図５は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第１層を示す平面図である。図６は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおけるコイルの第２の部分の第２層を示す平面図である。図３ないし図６において記号ＴＷで示す矢印は、トラック幅方向を表している。

【0030】

図２および図３に示したように、本実施の形態に係る垂直磁気記録用磁気ヘッド（以下、単に磁気ヘッドと記す。）は、アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド（Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなり、上面１ａを有する基板１と、この基板１の上面１ａ上に配置されたアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）等の絶縁材料よりなる絶縁層２と、この絶縁層２の上に配置された磁性材料よりなる第１の再生シールド層３と、第１の再生シールド層３を覆うように配置された絶縁膜である第１の再生シールドギャップ膜４と、この第１の再生シールドギャップ膜４の上に配置された再生素子としてのＭＲ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子５の上に配置された絶縁膜である第２の再生シールドギャップ膜６と、この第２の再生シールドギャップ膜６の上に配置された磁性材料よりなる第２の再生シールド層７とを備えている。

【0031】

ＭＲ素子５の一端部は、記録媒体に対向する媒体対向面８０に配置されている。ＭＲ素子５には、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。ＧＭＲ素子としては、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ平行な方向に流すＣＩＰ（Current In Plane）タイプでもよいし、磁気的信号検出用の電流を、ＧＭＲ素子を構成する各層の面に対してほぼ垂直な方向に流すＣＰＰ（Current Perpendicular to Plane）タイプでもよい。

【0032】

第１の再生シールド層３から第２の再生シールド層７までの部分は、再生ヘッド部８を構成する。磁気ヘッドは、更に、第２の再生シールド層７の上に配置された非磁性材料よりなる非磁性層７１と、非磁性層７１の上に配置された磁性材料よりなる中間シールド層７２と、中間シールド層７２の上に配置された非磁性材料よりなる非磁性層７３と、非磁性層７３の上に配置された記録ヘッド部９とを備えている。中間シールド層７２は、記録ヘッド部９で発生する磁界からＭＲ素子５をシールドする機能を有している。非磁性層７１，７３は、例えばアルミナによって形成されている。記録ヘッド部９は、コイルと、主磁極１５と、記録シールド１６と、ギャップ部１７とを有している。

【0033】

コイルは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。コイルは、第１の部分１０と第２の部分２０とを含んでいる。第１の部分１０と第２の部分２０は、いずれも、銅等の導電材料によって形成されている。第１の部分１０と第２の部分２０は、直列または並列に接続されている。主磁極１５は、媒体対向面８０に配置された端面を有し、コイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させると共に、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。図１および図２は、媒体対向面８０に配置された主磁極１５の端面と交差し、媒体対向面８０および基板１の上面１ａに垂直な断面（以下、主断面と言う。）を示している。

【0034】

記録シールド１６は、媒体対向面８０に配置された端面を有している。記録シールド１６の端面は、第１ないし第４の端面部分１６Ａａ，１６Ｂａ，１６Ｃａ，１６Ｄａを含んでいる。第１の端面部分１６Ａａは、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第２の端面部分１６Ｂａは、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。第３および第４の端面部分１６Ｃａ，１６Ｄａは、主磁極１５の端面に対してトラック幅方向ＴＷの両側に配置されている。媒体対向面８０において、第１ないし第４の端面部分１６Ａａ，１６Ｂａ，１６Ｃａ，１６Ｄａは、主磁極１５の端面の周りを囲むように配置されている。

【0035】

記録シールド１６は、磁性材料によって形成されている。記録シールド１６の材料としては、例えばＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。

【0036】

記録ヘッド部９は、更に、第１の帰磁路部３０および第２の帰磁路部４０を有している。第１および第２の帰磁路部３０，４０は、いずれも磁性材料によって形成されている。第１および第２の帰磁路部３０，４０の材料としては、例えばＣｏＦｅＮ、ＣｏＮｉＦｅ、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。第１の帰磁路部３０と第２の帰磁路部４０は、主磁極１５を挟むように基板１の上面１ａに垂直な方向に沿って並んでいる。第１の帰磁路部３０は、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されて、主磁極１５のうちの媒体対向面８０から離れた部分と記録シールド１６とを接続し、これにより、主磁極１５と記録シールド１６とを磁気的に連結している。第２の帰磁路部４０は、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されて、主磁極１５のうちの媒体対向面８０から離れた部分と記録シールド１６とを接続し、これにより、主磁極１５と記録シールド１６とを磁気的に連結している。

【0037】

第１の帰磁路部３０は、磁性層３１，３２，３３，３４，３５，３６を有している。磁性層３１は、非磁性層７３の上に配置されている。磁性層３２，３３は、いずれも磁性層３１の上に配置されている。磁性層３２は、媒体対向面８０の近傍に配置されている。磁性層３３は、磁性層３２に対して、媒体対向面８０からより遠い位置に配置されている。磁性層３１，３２は、それぞれ、媒体対向面８０に向いた端面を有し、これらの端面は、媒体対向面８０から離れた位置に配置されている。図４に示したように、コイルの第１の部分１０は、磁性層３３の周りに約３回巻かれている。

【0038】

磁気ヘッドは、更に、磁性層３１の周囲において非磁性層７３の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５１と、磁性層３１〜３３と第１の部分１０との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜５２と、第１の部分１０の巻線間に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５３と、第１の部分１０および磁性層３２の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５４とを備えている。第１の部分１０、磁性層３２，３３、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面は平坦化されている。絶縁層５１，５４および絶縁膜５２は、例えばアルミナによって形成されている。絶縁層５３は、例えばフォトレジストによって形成されている。

【0039】

磁性層３４は、磁性層３２および絶縁層５４の上に配置されている。磁性層３４は、媒体対向面８０に配置された前端面と、その反対側の後端面と、上面と、上面と後端面とを接続する接続面とを有している。磁性層３４の接続面における任意の位置の媒体対向面８０からの距離は、任意の位置が基板１の上面１ａから離れるに従って小さくなっている。

【0040】

磁性層３５は、磁性層３３の上に配置されている。磁気ヘッドは、更に、第１の部分１０、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５５と、磁性層３４，３５の周囲において絶縁層５５の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５６とを備えている。磁性層３４，３５および絶縁層５６の上面は、平坦化されている。絶縁層５５，５６は、例えばアルミナによって形成されている。

【0041】

図３に示したように、記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、主磁極１５のトラック幅方向ＴＷの両側に配置されている。第１のシールド１６Ａは、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第２のシールド１６Ｂは、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、第１のシールド１６Ａと第２のシールド１６Ｂを磁気的に連結している。

【0042】

図１および図３に示したように、第１のシールド１６Ａは、第１の端面部分１６Ａａと、下面である第１の傾斜面１６Ａｂと、上面１６Ａｃと、第１の端面部分１６Ａａと上面１６Ａｃとを接続する接続面１６Ａｄとを有している。接続面１６Ａｄにおける任意の位置の媒体対向面８０からの距離は、任意の位置が基板１の上面１ａから離れるに従って大きくなっている。第２のシールド１６Ｂは、第２の端面部分１６Ｂａと、第１の傾斜面１６Ｂｂと、第２の傾斜面１６Ｂｃとを有している。第１および第２の傾斜面１６Ｂｂ，１６Ｂｃは、主磁極１５に向いている。第２の傾斜面１６Ｂｃは、第１の傾斜面１６Ｂｂよりも媒体対向面８０からより遠い位置にあり且つ第１の傾斜面１６Ｂｂに連続している。傾斜面１６Ａｂ，１６Ｂｂ，１６Ｂｃの形状および配置については、後で詳しく説明する。図３に示したように、サイドシールド１６Ｃは、第３の端面部分１６Ｃａを有している。サイドシールド１６Ｄは、第４の端面部分１６Ｄａを有している。

【0043】

第２のシールド１６Ｂは、磁性層３４の上に配置されている。磁性層３６は、磁性層３５の上に配置されている。磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなる非磁性層５７を備えている。非磁性層５７は、第２のシールド１６Ｂおよび磁性層３６の周囲において、磁性層３４の上面の一部の上および絶縁層５６の上面の上に配置されている。図１に示したように、非磁性層５７の上面は、第２のシールド１６Ｂの第１の傾斜面１６Ｂｂに連続する平坦部と、この平坦部に連続し平坦部よりも媒体対向面８０からより遠い位置に配置された傾斜面と、この傾斜面に連続し傾斜面よりも媒体対向面８０からより遠い位置に配置された底部とを含んでいる。非磁性層５７は、例えばアルミナによって形成されている。

【0044】

主磁極１５は、記録媒体の進行方向Ｔの前側の端に位置する面である上面１５Ｔ（図１参照）と、上面１５Ｔとは反対側の下端部１５Ｌ（図１参照）と、トラック幅方向ＴＷの両側に配置された第１および第２の側部（図３参照）とを有している。サイドシールド１６Ｃは、主磁極１５の第１の側部に対向する第１の側壁を有している。サイドシールド１６Ｄは、主磁極１５の第２の側部に対向する第２の側壁を有している。

【0045】

ギャップ部１７は、主磁極１５と記録シールド１６との間に設けられている。磁気ヘッドは、更に、非磁性材料よりなり、その一部がギャップ部１７の一部を構成する第１のギャップ層１９と、非磁性材料よりなり、その一部がギャップ部１７の他の一部を構成する第２のギャップ層１８とを備えている。第１のギャップ層１９のうち、ギャップ部１７の一部を構成する部分は、主磁極１５と第１のシールド１６Ａとの間に配置されている。第２のギャップ層１８のうち、ギャップ部１７の他の一部を構成する部分は、主磁極１５と第２のシールド１６Ｂおよびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとの間に配置されている。

【0046】

サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、第２のシールド１６Ｂの上に配置され、第２のシールド１６Ｂの第１の傾斜面１６Ｂｂに接している。第２のギャップ層１８は、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの側壁、第２のシールド１６Ｂの第１の傾斜面１６Ｂｂおよび非磁性層５７の上面に沿って配置されている。第２のギャップ層１８を構成する非磁性材料は、絶縁材料でもよいし、非磁性金属材料でもよい。第２のギャップ層１８を構成する絶縁材料としては、例えばアルミナが用いられる。第２のギャップ層１８を構成する非磁性金属材料としては、例えばＲｕが用いられる。

【0047】

主磁極１５は、第２のシールド１６Ｂの第１の傾斜面１６Ｂｂおよび非磁性層５７の上面と主磁極１５との間に第２のギャップ層１８が介在するように、第２のシールド１６Ｂおよび非磁性層５７の上に配置されている。また、図３に示したように、主磁極１５とサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとの間にも、第２のギャップ層１８が介在している。

【0048】

媒体対向面８０から離れた位置において、主磁極１５の下端部１５Ｌは、磁性層３６の上面に接している。主磁極１５は、金属磁性材料によって形成されている。主磁極１５の材料としては、例えば、ＮｉＦｅ、ＣｏＮｉＦｅ、ＣｏＦｅのいずれかを用いることができる。主磁極１５の形状については、後で詳しく説明する。

【0049】

磁気ヘッドは、更に、主磁極１５およびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの周囲に配置された非磁性材料よりなる図示しない第１の非磁性層を備えている。本実施の形態では、特に、第１の非磁性層は、アルミナ等の非磁性絶縁材料よりなる。

【0050】

磁気ヘッドは、更に、媒体対向面８０から離れた位置において、主磁極１５の上面１５Ｔの一部の上に配置された非磁性金属材料よりなる非磁性金属層５８と、この非磁性金属層５８の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層５９とを備えている。非磁性金属層５８は、例えばＲｕ、ＮｉＣｒまたはＮｉＣｕによって形成されている。絶縁層５９は、例えばアルミナによって形成されている。

【0051】

第１のギャップ層１９は、主磁極１５、非磁性金属層５８および絶縁層５９を覆うように配置されている。第１のギャップ層１９の材料は、アルミナ等の非磁性絶縁材料でもよいし、Ｒｕ、ＮｉＣｕ、Ｔａ、Ｗ、ＮｉＢ、ＮｉＰ等の非磁性導電材料でもよい。

【0052】

第１のシールド１６Ａは、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上に配置され、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上面に接している。媒体対向面８０において、第１のシールド１６Ａの第１の端面部分１６Ａａの一部は、主磁極１５の端面に対して、第１のギャップ層１９の厚みによる所定の間隔を開けて配置されている。第１のギャップ層１９の厚みは、５〜６０ｎｍの範囲内であることが好ましく、例えば３０〜６０ｎｍの範囲内である。主磁極１５の端面は、第１のギャップ層１９に隣接する辺を有し、この辺はトラック幅を規定している。

【0053】

第２の帰磁路部４０は、磁性層４１，４２，４３，４４を有している。磁性層４１は、媒体対向面８０から離れた位置において主磁極１５の上に配置されている。

【0054】

コイルの第２の部分２０は、第１層２１および第２層２２を含んでいる。図５に示したように、第１層２１は、磁性層４１の周りに１回巻かれている。磁気ヘッドは、更に、第１のシールド１６Ａ、第１のギャップ層１９および磁性層４１と第１層２１との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜６１と、第１層２１および第１のシールド１６Ａの周囲に配置された非磁性材料よりなる図示しない第２の非磁性層とを備えている。絶縁膜６１は、例えばアルミナによって形成されている。第２の非磁性層は、例えば無機絶縁材料によって形成されている。この無機絶縁材料としては、例えばアルミナまたはシリコン酸化物が用いられる。第１のシールド１６Ａ、第１層２１、磁性層４１、絶縁膜６１および第２の非磁性層の上面は平坦化されている。

【0055】

磁気ヘッドは、更に、第１層２１および絶縁膜６１の上面ならびに磁性層４１の上面の一部の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６２を備えている。絶縁層６２は、例えばアルミナによって形成されている。

【0056】

磁性層４２は、第１のシールド１６Ａの上に配置されている。また、磁性層４２は、媒体対向面８０に向いた端面を有し、この端面は、媒体対向面８０から離れた位置に配置されている。磁性層４２の端面における任意の位置の媒体対向面８０からの距離は、任意の位置が基板１の上面１ａから離れるに従って大きくなっている。

【0057】

磁性層４３は、磁性層４１の上に配置されている。図６に示したように、第２層２２は、磁性層４３の周りに約２回巻かれている。磁気ヘッドは、更に、磁性層４２，４３および絶縁層６２と第２層２２との間に介在する絶縁材料よりなる絶縁膜６３と、第２層２２の巻線間に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６４と、第２層２２および磁性層４２の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６５とを備えている。第２層２２、磁性層４２，４３、絶縁膜６３および絶縁層６４，６５の上面は平坦化されている。磁気ヘッドは、更に、第２層２２、絶縁膜６３および絶縁層６４の上面の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６６を備えている。絶縁膜６３および絶縁層６５，６６は、例えばアルミナによって形成されている。絶縁層６４は、例えばフォトレジストによって形成されている。

【0058】

磁性層４４は、磁性層４２，４３および絶縁層６６の上に配置され、磁性層４２と磁性層４３とを接続している。磁性層４４は、媒体対向面８０に向いた端面を有し、この端面は、媒体対向面８０から離れた位置に配置されている。磁性層４４の端面における任意の位置の媒体対向面８０からの距離は、任意の位置が基板１の上面１ａから離れるに従って大きくなっている。

【0059】

磁気ヘッドは、更に、磁性層４４の周囲に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６７と、非磁性材料よりなり、記録ヘッド部９を覆うように配置された保護層７０とを備えている。絶縁層６７は、例えばアルミナによって形成されている。保護層７０は、例えば、アルミナ等の無機絶縁材料によって形成されている。

【0060】

以上説明したように、本実施の形態に係る磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面８０と再生ヘッド部８と記録ヘッド部９とを備えている。再生ヘッド部８と記録ヘッド部９は、基板１の上に積層されている。再生ヘッド部８は、記録ヘッド部９に対して、記録媒体の進行方向Ｔの後側（リーディング側）に配置されている。

【0061】

記録ヘッド部９は、第１および第２の部分１０，２０を含むコイルと、主磁極１５と、記録シールド１６と、ギャップ部１７と、第１および第２の帰磁路部３０，４０とを有している。記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。ギャップ部１７は、第１のギャップ層１９の一部および第２のギャップ層１８の一部によって構成されている。第１の帰磁路部３０と第２の帰磁路部４０は、主磁極１５を挟むように基板１の上面１ａに垂直な方向に沿って並んでいる。

【0062】

第１の帰磁路部３０は、磁性層３１〜３６を有し主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されている。図２に示したように、第１の帰磁路部３０は、主磁極１５、ギャップ部１７（ギャップ層１８）、記録シールド１６および第１の帰磁路部３０（磁性層３１〜３６）によって囲まれた第１の空間Ｓ１が形成されるように、主磁極１５のうちの媒体対向面８０から離れた部分と記録シールド１６とを接続している。コイルの第１の部分１０は、第１の空間Ｓ１を通過する。

【0063】

磁性層３１は、第１の空間Ｓ１よりも基板１の上面１ａにより近い位置にある。磁性層３２は、媒体対向面８０に向くと共に媒体対向面８０から離れた位置に配置された端面を有している。磁性層３２の上記端面と媒体対向面８０との間には絶縁層５４の一部が介在している。磁性層３２は、媒体対向面８０に露出することなく、第１の空間Ｓ１と媒体対向面８０との間に位置して、磁性層３１に接続されている。磁性層３４は、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂと磁性層３２とを磁気的に連結している。前記主断面において、磁性層３４は、媒体対向面８０に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きな長さを有している。磁性層３３，３５，３６は、第１の空間Ｓ１よりも媒体対向面８０からより遠い位置にあって、主磁極１５と磁性層３１とを磁気的に連結している。

【0064】

第２の帰磁路部４０は、磁性層４１〜４４を有し、主磁極１５に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されている。第２の帰磁路部４０は、主磁極１５、ギャップ部１７（ギャップ層１９）、記録シールド１６および第２の帰磁路部４０（磁性層４１〜４４）によって囲まれた第２の空間Ｓ２が形成されるように、主磁極１５のうちの媒体対向面８０から離れた部分と記録シールド１６とを接続している。コイルの第２の部分２０は、第２の空間Ｓ２を通過する。

【0065】

以下、図４ないし図６を参照して、コイルの第１および第２の部分１０，２０について詳しく説明する。図４は、第１の部分１０を示す平面図である。第１の部分１０は、第１の帰磁路部３０の一部である磁性層３３の周りに約３回巻かれている。第１の部分１０は、第１の空間Ｓ１内のうち特に磁性層３２と磁性層３３との間を通過するように延びる部分を含んでいる。また、第１の部分１０は、第２の部分２０に電気的に接続されたコイル接続部１０Ｅを有している。

【0066】

図５は、第２の部分２０の第１層２１を示す平面図である。第１層２１は、第２の帰磁路部４０の一部である磁性層４１の周りに１回巻かれている。第１層２１は、第２の空間Ｓ２内のうち特に第１のシールド１６Ａと磁性層４１との間を通過するように延びる部分を含んでいる。また、第１層２１は、第１の部分１０のコイル接続部１０Ｅに電気的に接続されたコイル接続部２１Ｓと、第２層２２に電気的に接続されたコイル接続部２１Ｅとを有している。コイル接続部２１Ｓは、第１層２１と第１の部分１０との間の複数の層を貫通する図示しない柱状の第１ないし第３の接続層を介してコイル接続部１０Ｅに電気的に接続されている。第１ないし第３の接続層は、コイル接続部１０Ｅの上に順に積層されている。コイル接続部２１Ｓは、第３の接続層の上に配置されている。第１ないし第３の接続層は、銅等の導電材料によって形成されている。

【0067】

図６は、第２の部分２０の第２層２２を示す平面図である。第２層２２は、第２の帰磁路部４０の一部である磁性層４３の周りに約２回巻かれている。第２層２２は、第２の空間Ｓ２内のうち特に磁性層４２と磁性層４３との間を通過するように延びる部分を含んでいる。また、第２層２２は、絶縁層６２および絶縁膜６３を貫通して第１層２１のコイル接続部２１Ｅに電気的に接続されたコイル接続部２２Ｓを有している。図４ないし図６に示した例では、第１の部分１０と第２の部分２０は、直列に接続されている。

【0068】

次に、図１、図３ないし図６を参照して、主磁極１５の形状について詳しく説明する。図４ないし図６に示したように、主磁極１５は、媒体対向面８０に配置された端面とその反対側の端部とを有するトラック幅規定部１５Ａと、トラック幅規定部１５Ａの端部に接続された幅広部１５Ｂとを含んでいる。また、図１および図３に示したように、主磁極１５は、記録媒体の進行方向Ｔの前側の端に位置する面である上面１５Ｔと、上面１５Ｔとは反対側の下端部１５Ｌと、第１の側部と、第２の側部とを有している。幅広部１５Ｂにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、トラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅よりも大きい。

【0069】

トラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、媒体対向面８０からの距離によらずにほぼ一定である。幅広部１５Ｂにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅は、例えば、トラック幅規定部１５Ａとの境界位置ではトラック幅規定部１５Ａにおける上面１５Ｔのトラック幅方向ＴＷの幅と等しく、媒体対向面８０から離れるに従って、徐々に大きくなった後、一定の大きさになっている。ここで、媒体対向面８０に垂直な方向についてのトラック幅規定部１５Ａの長さをネックハイトと呼ぶ。ネックハイトは、例えば０〜０．３μｍの範囲内である。ネックハイトが０の場合は、トラック幅規定部１５Ａがなく、幅広部１５Ｂの端面が媒体対向面８０に配置される。

【0070】

主磁極１５の上面１５Ｔと下端部１５Ｌの少なくとも一方は、傾斜部を含んでいる。この傾斜部は、媒体対向面８０に配置された前端部と、その反対側の後端部とを有している。本実施の形態では特に、上面１５Ｔと下端部１５Ｌの両方が、上記の傾斜部に対応する第１の傾斜部を含んでいる。本実施の形態では、上面１５Ｔと下端部１５Ｌは、それぞれ、媒体対向面８０に近い順に、第１の傾斜部に連続するように配置された第１の平坦部、第２の傾斜部および第２の平坦部を含んでいる。以下、上面１５Ｔにおける第１の傾斜部、第１の平坦部、第２の傾斜部および第２の平坦部を、それぞれ記号１５Ｔ１，１５Ｔ２，１５Ｔ３，１５Ｔ４で表し、下端部１５Ｌにおける第１の傾斜部、第１の平坦部、第２の傾斜部および第２の平坦部を、それぞれ記号１５Ｌ１，１５Ｌ２，１５Ｌ３，１５Ｌ４で表す。

【0071】

上面１５Ｔの第１の平坦部１５Ｔ２は、第１の傾斜部１５Ｔ１の後端部に接続されている。第２の傾斜部１５Ｔ３は、第１の平坦部１５Ｔ２に接続された前端部と、この前端部よりも媒体対向面８０からより遠い位置に配置された後端部とを有している。第２の平坦部１５Ｔ４は、第２の傾斜部１５Ｔ３の後端部に接続されている。

【0072】

下端部１５Ｌの第１の平坦部１５Ｌ２は、第１の傾斜部１５Ｌ１の後端部に接続されている。第２の傾斜部１５Ｌ３は、第１の平坦部１５Ｌ２に接続された前端部と、この前端部よりも媒体対向面８０からより遠い位置に配置された後端部とを有している。第１の傾斜部１５Ｌ１、第１の平坦部１５Ｌ２および第２の傾斜部１５Ｌ３は、２つの面が交わってできるエッジでもよいし、２つの面を連結する面でもよい。第２の平坦部１５Ｌ４は、第２の傾斜部１５Ｌ３の後端部に接続された面である。

【0073】

主磁極１５の端面は、記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部と記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部とを有している。主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部は、上面１５Ｔの第１の傾斜部１５Ｔ１の前端部でもある。主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部は、下端部１５Ｌの第１の傾斜部１５Ｌ１の前端部でもある。ここで、図１に示したように、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部（第１の傾斜部１５Ｔ１の前端部）を通り、媒体対向面８０および記録媒体の進行方向Ｔに垂直な第１の仮想の平面Ｐ１と、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置された端部（第１の傾斜部１５Ｌ１の前端部）を通り、媒体対向面８０および記録媒体の進行方向Ｔに垂直な第２の仮想の平面Ｐ２とを想定する。

【0074】

上面１５Ｔの第１および第２の傾斜部１５Ｔ１，１５Ｔ３は、それぞれ、その後端部がその前端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第１および第２の傾斜部１５Ｔ１，１５Ｔ３は、それぞれ、その後端部がその前端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。第１および第２の平坦部１５Ｔ２，１５Ｔ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。

【0075】

下端部１５Ｌの第１および第２の傾斜部１５Ｌ１，１５Ｌ３は、それぞれ、その後端部がその前端部よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第１および第２の傾斜部１５Ｌ１，１５Ｌ３は、その後端部がその前端部に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。第１および第２の平坦部１５Ｌ２，１５Ｌ４は、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行である。

【0076】

媒体対向面８０に配置された主磁極１５の端面は、第１のギャップ層１９に隣接する第１の辺と、第１の辺の一端部に接続された第２の辺と、第１の辺の他端部に接続された第３の辺とを有している。第１の辺は、主磁極１５の端面の記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置された端部でもあり、上面１５Ｔの第１の傾斜部１５Ｔ１の前端部でもある。第１の辺はトラック幅を規定する。記録媒体に記録される記録ビットの端部の位置は、第１の辺の位置によって決まる。媒体対向面８０に配置された主磁極１５の端面のトラック幅方向ＴＷの幅は、第１の辺から離れるに従って、すなわち第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。第２の辺と第３の辺がそれぞれ第１の仮想の平面Ｐ１に垂直な方向に対してなす角度は、例えば７°〜１７°の範囲内であり、１０°〜１５°の範囲内であることが好ましい。第１の辺の長さは、例えば０．０５〜０．２０μｍの範囲内である。

【0077】

次に、図１を参照して、第１の傾斜面１６Ａｂ、第１の傾斜面１６Ｂｂおよび第２の傾斜面１６Ｂｃの形状および配置について詳しく説明する。第１の傾斜面１６Ａｂは、ギャップ部１７（第１のギャップ層１９）を介して上面１５Ｔの第１の傾斜部１５Ｔ１に対向している。また、第１の傾斜面１６Ａｂは、媒体対向面８０に配置された第１の端部ＥＡ１と、その反対側の第２の端部ＥＡ２とを有している。第１の傾斜面１６Ａｂは、第２の端部ＥＡ２が第１の端部ＥＡ１よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第１の傾斜面１６Ａｂは、第２の端部ＥＡ２が第１の端部ＥＡ１に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。

【0078】

また、第１の傾斜面１６Ｂｂは、ギャップ部１７（第２のギャップ層１８）を介して下端部１５Ｌの第１の傾斜部１５Ｌ１に対向している。また、第１の傾斜面１６Ｂｂは、媒体対向面８０に配置された第１の端部ＥＢ１と、その反対側の第２の端部ＥＢ２とを有している。第１の傾斜面１６Ｂｂは、第２の端部ＥＢ２が第１の端部ＥＢ１よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第１の傾斜面１６Ｂｂは、第２の端部ＥＢ２が第１の端部ＥＢ１に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。

【0079】

第２の傾斜面１６Ｂｃは、第２の端部ＥＢ２に接続された第３の端部ＥＢ３と、その反対側の第４の端部ＥＢ４とを有している。第２の傾斜面１６Ｂｃは、第４の端部ＥＢ４が第３の端部ＥＢ３よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第２の傾斜面１６Ｂｃは、第４の端部ＥＢ４が第３の端部ＥＢ３に対して記録媒体の進行方向Ｔの後側に配置されるように傾斜している。

【0080】

ここで、図１に示したように、第１の傾斜面１６Ｂｂが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度を記号θ１で表し、第２の傾斜面１６Ｂｃが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度を記号θ２で表す。角度θ２は、角度θ１よりも大きい。角度θ１は、３０°〜４５°の範囲内であることが好ましい。角度θ２は、５０°〜６５°の範囲内であることが好ましい。第２の傾斜面１６Ｂｃ上の任意の位置と主磁極１５との間の距離は、任意の位置が第４の端部ＥＢ４に近づくに従って大きくなっている。

【0081】

次に、本実施の形態に係る磁気ヘッドの作用および効果について説明する。この磁気ヘッドでは、記録ヘッド部９によって記録媒体に情報を記録し、再生ヘッド部８によって、記録媒体に記録されている情報を再生する。記録ヘッド部９において、第１および第２の部分１０，２０を含むコイルは、記録媒体に記録する情報に応じた磁界を発生する。第１の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束は、第１の帰磁路部３０と主磁極１５を通過する。第２の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束は、第２の帰磁路部４０と主磁極１５を通過する。従って、主磁極１５は、第１の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束と第２の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束とを通過させる。

【0082】

なお、第１および第２の部分１０，２０は、直列に接続されていてもよいし、並列に接続されていてもよい。いずれにしても、主磁極１５において、第１の部分１０によって発生された磁界に対応する磁束と第２の部分２０によって発生された磁界に対応する磁束が同じ方向に流れるように、第１および第２の部分１０，２０は接続される。

【0083】

主磁極１５は、上述のようにコイルによって発生された磁界に対応する磁束を通過させて、垂直磁気記録方式によって情報を記録媒体に記録するための記録磁界を発生する。

【0084】

記録シールド１６は、磁気ヘッドの外部から磁気ヘッドに印加された外乱磁界を取り込む。これにより、外乱磁界が主磁極１５に集中して取り込まれることによって記録媒体に対して誤った記録が行なわれることを防止することができる。また、記録シールド１６は、主磁極１５の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込んで、この磁束が記録媒体に達することを阻止する機能を有している。

【0085】

また、記録シールド１６と第１および第２の帰磁路部３０，４０は、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束を還流させる機能を有している。具体的に説明すると、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束の一部は、記録シールド１６と第１の帰磁路部３０を通過して主磁極１５に還流する。また、主磁極１５の端面より発生されて、記録媒体を磁化した磁束の他の一部は、記録シールド１６と第２の帰磁路部４０を通過して主磁極１５に還流する。

【0086】

記録シールド１６は、第１のシールド１６Ａと、第２のシールド１６Ｂと、２つのサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄとを有している。これにより、本実施の形態によれば、主磁極１５の端面に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側および後側ならびにトラック幅方向ＴＷの両側において、主磁極１５の端面より発生されて記録媒体の面に垂直な方向以外の方向に広がる磁束を取り込んで、この磁束が記録媒体に達することを抑制することができる。その結果、本実施の形態によれば、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。第１および第２のシールド１６Ａ，１６Ｂは、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することに寄与する他に、記録磁界の勾配を大きくすることに寄与する。サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄは、特に隣接トラック消去を抑制することへの寄与が大きい。このような記録シールド１６の機能により、本実施の形態によれば、記録密度を高めることができる。

【0087】

また、本実施の形態では、図３に示したように、媒体対向面８０において、トラック幅方向ＴＷにおける主磁極１５の第１および第２の側部の間隔すなわち主磁極１５の端面の幅は、第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。本実施の形態によれば、この特徴によっても、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。

【0088】

また、本実施の形態では、媒体対向面８０において、トラック幅方向ＴＷにおけるサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄにおける第１および第２の側壁の間隔は、主磁極１５の第１および第２の側部の間隔と同様に、第１の仮想の平面Ｐ１から離れるに従って小さくなっている。従って、本実施の形態によれば、媒体対向面８０において、第１の側部と第１の側壁との間隔、ならびに第２の側部と第２の側壁との間隔を、小さく、且つ均一にすることが可能になる。これにより、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄによって、主磁極１５の端面より発生されてトラック幅方向ＴＷの両側に広がる磁束を、効果的に取り込むことができる。その結果、本実施の形態によれば、特にサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの機能を高めることが可能になり、スキューに起因した隣接トラック消去の発生をより効果的に抑制することが可能になる。

【0089】

ところで、記録シールド１６で取り込んだ磁束を吸収できるような、体積が大きい磁性層が記録シールド１６に磁気的に接続されていないと、記録シールド１６によって多くの磁束を取り込むことはできない。本実施の形態では、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂと主磁極１５とを磁気的に連結する第１の帰磁路部３０（磁性層３１〜３６）と、記録シールド１６の第１のシールド１６Ａと主磁極１５とを磁気的に連結する第２の帰磁路部４０（磁性層４１〜４４）を備えている。このような構成により、記録シールド１６で取り込んだ磁束は、第１および第２の帰磁路部３０，４０を経由して主磁極１５に流れ込む。本実施の形態では、記録シールド１６に対して、体積が大きい磁性層である第１および第２の帰磁路部３０，４０と主磁極１５が磁気的に接続されている。従って、本実施の形態によれば、記録シールド１６によって多くの磁束を取り込むことが可能になり、その結果、前述の記録シールド１６の効果を効果的に発揮させることができる。

【0090】

また、もし、第１の帰磁路部が、媒体対向面８０において広い面積にわたって露出した端面を有していると、記録シールド１６の端面から記録シールド１６内へ取り込まれて第１の帰磁路部に到達した磁束の一部が、第１の帰磁路部の端面から記録媒体に向けて漏れ出すおそれがある。そして、これにより、隣接トラック消去が生じるおそれがある。また、コイルの第１の部分１０が発生する熱によって、第１の帰磁路部の一部が膨張し、その結果、媒体対向面８０の一部である第１の帰磁路部の端面が記録媒体に向けて突出するおそれがある。そして、これにより、主磁極１５の端面や再生ヘッド部８における媒体対向面８０に位置する端部が記録媒体から遠ざかってしまい、記録特性や再生特性が劣化するおそれがある。

【0091】

これに対し、本実施の形態では、第１の帰磁路部３０は、媒体対向面８０において広い面積にわたって露出した端面を有していない。すなわち、本実施の形態では、第１の帰磁路部３０の一部である磁性層３２は、媒体対向面８０に露出することなく、第１の空間Ｓ１と媒体対向面８０との間に位置して、磁性層３１に接続されている。磁性層３４は、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂと磁性層３２とを磁気的に連結している。特に、本実施の形態では、前記主断面において、磁性層３４は、媒体対向面８０に垂直な方向について第２のシールド１６Ｂよりも大きな長さを有している。これにより、第１の帰磁路部３０の媒体対向面８０に露出した端面の面積を小さくしながら、第１の帰磁路部３０を記録シールド１６に接続することができる。その結果、本実施の形態によれば、第１の帰磁路部の端面が媒体対向面８０において広い面積にわたって露出することによる上述の問題を回避することができる。すなわち、本実施の形態によれば、第１の帰磁路部３０から記録媒体に向けて磁束が漏れ出すことと、磁性層３２の近傍における媒体対向面８０の一部が突出することを抑制することができる。

【0092】

本実施の形態では特に、磁性層３２と媒体対向面８０との間に、磁性層３２よりも硬い絶縁層５４が存在している。この絶縁層５４は、磁性層３２よりも広い領域に存在している。そのため、絶縁層５４は、第１の部分１０が発生する熱による磁性層３２の位置の変化を抑制する機能を有する。よって、本実施の形態によれば、磁性層３２の近傍における媒体対向面８０の一部が突出することを、より効果的に抑制することができる。

【0093】

また、本実施の形態では、主磁極１５の上面１５Ｔは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜した第１および第２の傾斜部１５Ｔ１，１５Ｔ３を含み、主磁極１５の下端部１５Ｌは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜した第１および第２の傾斜部１５Ｌ１，１５Ｌ３を含んでいる。これにより、本実施の形態によれば、媒体対向面８０における主磁極１５の厚みを小さくすることができることから、スキューに起因した隣接トラック消去の発生を抑制することができる。また、媒体対向面８０から離れた位置では主磁極１５の厚みを大きくすることができることから、主磁極１５によって多くの磁束を媒体対向面８０まで導くことができ、その結果、オーバーライト特性等の記録特性を向上させることができる。

【0094】

また、本実施の形態では、記録シールド１６の第２のシールド１６Ｂは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜した第１および第２の傾斜面１６Ｂｂ，１６Ｂｃを有している。第２の傾斜面１６Ｂｃが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度θ２は、第１の傾斜面１６Ｂｂが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度θ１よりも大きい。もし、角度θ２が角度θ１と等しい場合には、広い領域において、第１および第２の傾斜部１５Ｌ１，１５Ｌ３と第１および第２の傾斜面１６Ｂｂ，１６Ｂｃとが小さな間隔で対向し、その結果、主磁極１５から第２のシールド１６Ｂへの磁束の漏れが多くなり、オーバーライト特性等の記録特性が低下してしまうという問題が発生する。これを防止するために、角度θ２を９０°にすると、第２のシールド１６Ｂの体積が小さくなって、記録シールド１６の機能が損なわれてしまう。すなわち、第２のシールド１６Ｂの体積が小さくなると、第２のシールド１６Ｂで磁束の飽和が生じやすくなる。すると、第２のシールド１６Ｂから媒体対向面８０に向けて磁束が漏れて、この漏れた磁束によって、記録媒体に記録された情報が誤って消去されるという問題が発生する。

【0095】

本実施の形態では、第２の傾斜面１６Ｂｃを第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜させることにより、角度θ２が９０°の場合に比べて、第２のシールド１６Ｂの体積を大きくすることができ、その結果、記録シールド１６において磁束の飽和が生じることを抑制することができる。また、本実施の形態では、角度θ２が角度θ１よりも大きく、且つ、第２の傾斜面１６Ｂｃ上の任意の位置と主磁極１５との間の距離は、任意の位置が第４の端部ＥＢ４に近づくに従って大きくなっている。これにより、上述のように記録シールド１６において磁束の飽和が生じることを抑制しながら、主磁極１５から第２のシールド１６Ｂへの磁束の漏れを抑制することが可能になる。従って、本実施の形態によれば、記録シールド１６（第２のシールド１６Ｂ）の機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になる。

【0096】

次に、図７ないし図２１、図２２Ａおよび図２２Ｂを参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図７ないし図２１、図２２Ａおよび図２２Ｂは、磁気ヘッドの製造過程における積層体を示している。なお、図１６ないし図２１では、非磁性層７３よりも下の部分を省略している。図７ないし図２１の（ａ）および図２２Ａは、それぞれ、前記主断面を表している。図７ないし図２１の（ｂ）および図２２Ｂは、それぞれ、媒体対向面８０が形成される予定の位置の断面を示している。図７ないし図２１の（ａ）および図２２Ａにおいて、記号“ＡＢＳ”は、媒体対向面８０が形成される予定の位置を表している。

【0097】

本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法では、まず、図７に示したように、基板１の上に、絶縁層２、第１の再生シールド層３、第１の再生シールドギャップ膜４を順に形成する。次に、第１の再生シールドギャップ膜４の上にＭＲ素子５と、このＭＲ素子５に接続される図示しないリードとを形成する。次に、ＭＲ素子５およびリードを、第２の再生シールドギャップ膜６で覆う。次に、第２の再生シールドギャップ膜６の上に第２の再生シールド層７、非磁性層７１、中間シールド層７２を順に形成する。

【0098】

図８は、次の工程を示す。この工程では、まず、中間シールド層７２の上に非磁性層７３を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、非磁性層７３の上に磁性層３１を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層５１を形成する。次に、例えば化学機械研磨（以下、ＣＭＰと記す。）によって、磁性層３１が露出するまで、絶縁層５１を研磨して、磁性層３１および絶縁層５１の上面を平坦化する。次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層３１の上に磁性層３２，３３を形成する。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁膜５２を形成する。絶縁膜５２の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜５２を形成する。

【0099】

図９は、次の工程を示す。この工程では、まず、例えばフレームめっき法によって、コイルの第１の部分１０を形成する。次に、第１の部分１０の巻線間に絶縁層５３を形成する。第１の部分１０および絶縁層５３は、その上面が絶縁膜５２のうち磁性層３２，３３の上に配置された部分よりも上方に配置されるように形成される。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層５４を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層３２，３３が露出するまで、第１の部分１０、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４を研磨して、第１の部分１０、磁性層３２，３３、絶縁膜５２および絶縁層５３，５４の上面を平坦化する。

【0100】

次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層５５を形成する。次に、例えばイオンビームエッチング（以下、ＩＢＥと記す。）によって、磁性層３２，３３の上面、絶縁層５４の上面の一部および第１の部分１０のコイル接続部１０Ｅ（図４参照）が露出するように、絶縁層５５を選択的にエッチングする。

【0101】

図１０は、次の工程を示す。この工程では、まず、例えばフレームめっき法によって、磁性層３２および絶縁層５４の上に磁性層３４を形成し、磁性層３３の上に磁性層３５を形成し、第１の部分１０のコイル接続部１０Ｅの上に図示しない第１の接続層を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、磁性層３４に前述の接続面が形成されるように、磁性層３４の一部をテーパーエッチングする。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層５６を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層３４，３５および第１の接続層が露出するまで、絶縁層５６を研磨して、磁性層３２，３３、第１の接続層および絶縁層５６の上面を平坦化する。

【0102】

図１１は、次の工程を示す。この工程では、例えばフレームめっき法によって、磁性層３４の上に、後に第２のシールド１６Ｂとなる磁性層１６ＢＰを形成し、磁性層３５の上に磁性層３６を形成し、第１の接続層の上に図示しない第２の接続層を形成する。

【0103】

図１２は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１６ＢＰに、後に第２の傾斜面１６Ｂｃとなる部分を含む傾斜面１６ＢＰａが形成されるように、例えばＩＢＥを用いて、磁性層１６ＢＰの一部をテーパーエッチングする。次に、積層体の上面全体の上に非磁性層５７を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層１６ＢＰ，３６および第２の接続層が露出するまで非磁性層５７を研磨して、磁性層１６ＢＰ，３６、第２の接続層および非磁性層５７の上面を平坦化する。

【0104】

図１３は、次の工程を示す。この工程では、磁性層１６ＢＰの傾斜面１６ＢＰａのうち、後に第１の傾斜面１６Ｂｂが形成される領域が露出するように、例えば反応性イオンエッチング（以下、ＲＩＥと記す。）を用いて、非磁性層５７の一部をエッチングする。

【0105】

図１４は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１６ＢＰに第１の傾斜面１６Ｂｂが形成されるように、例えばＩＢＥを用いて、磁性層１６ＢＰの傾斜面１６ＢＰａの一部をテーパーエッチングする。傾斜面１６ＢＰａのうち、エッチング後に残った部分は、第２の傾斜面１６Ｂｃとなる。これにより、磁性層１６ＢＰは第２のシールド１６Ｂとなる。次に、磁性層３６の上面の縁に位置する角が面取りされるように、例えばＲＩＥを用いて、磁性層３６の一部をエッチングする。

【0106】

図１５は、次の工程を示す。この工程では、まず、第２のシールド１６Ｂおよび第２の接続層と、第２のシールド１６Ｂの第１の傾斜面１６Ｂｂに連続する非磁性層５７の上面の一部を覆うように、図示しないフォトレジストマスクを形成する。このフォトレジストマスクは、フォトレジスト層をパターニングして形成される。なお、これ以降の工程で形成されるフォトレジストマスクも、このフォトレジストマスクと同様の方法で形成される。次に、このフォトレジストマスクをエッチングマスクとして用いて、例えばＲＩＥによって、非磁性層５７に前述の傾斜面および底部が形成されるように、非磁性層５７の一部をテーパーエッチングする。第１の傾斜面１６Ｂｂに連続する非磁性層５７の上面のうち、フォトレジストマスクによって覆われた部分は、前述の平坦部となる。これにより、主磁極１５の下端部１５Ｌの形状が決定される。次に、フォトレジストマスクを除去する。

【0107】

図１６は、次の工程を示す。この工程では、まず、例えばフレームめっき法によって、第２のシールド１６Ｂの上に、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを形成する。次に、第２のシールド１６Ｂおよびサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄを覆うように、第２のギャップ層１８を形成する。第２のギャップ層１８の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、第２のギャップ層１８を形成する。第２のギャップ層１８の材料としてＲｕを用いる場合には、例えば化学的気相成長法によって、第２のギャップ層１８を形成する。

【0108】

次に、第２のギャップ層１８を選択的にエッチングして、第２のギャップ層１８に、磁性層３６の上面を露出させる開口部と、図示しない第２の接続層の上面を露出させる開口部とを形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、後に主磁極１５となる磁性層１５Ｐと図示しない第３の接続層を形成する。磁性層１５Ｐおよび第３の接続層は、その上面が第２のギャップ層１８のうちサイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上に配置された部分よりも上方に配置されるように形成される。

【0109】

図１７は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、図示しない第１の非磁性層を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第２のギャップ層１８が露出するまで、磁性層１５Ｐ、第３の接続層および第１の非磁性層を研磨する。

【0110】

図１８は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１５Ｐの上にフォトレジストマスク８１を形成する。フォトレジストマスク８１は、磁性層１５Ｐの上面のうち、後に第２の平坦部１５Ｔ４となる部分を覆っているが、媒体対向面８０が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍の一部は覆っていない。

【0111】

次に、フォトレジストマスク８１をエッチングマスクとして用いて、媒体対向面８０が形成される予定の位置ＡＢＳの近傍において、磁性層１５Ｐおよび第２のギャップ層１８のそれぞれの一部をエッチングする。このエッチングは、図１７（ａ）に示したように、磁性層１５Ｐに、第２の傾斜部１５Ｔ３が形成されるように行う。具体的には、例えば、ＩＢＥを用いて、イオンビームの進行方向を基板１の上面１ａに垂直な方向に対して傾けて磁性層１５Ｐをエッチングする。このようなＩＢＥを行うことにより、第２の傾斜部１５Ｔ３が、後に形成される媒体対向面８０に垂直な方向に対して傾いた面となる。次に、フォトレジストマスク８１を除去する。

【0112】

図１９は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１５Ｐの上に、非磁性金属層５８および絶縁層５９を形成する。次に、絶縁層５９の上に、フォトレジストマスク８２を形成する。フォトレジストマスク８２は、媒体対向面８０が形成される予定の位置ＡＢＳには存在せず、絶縁層５９の一部を覆う。次に、フォトレジストマスク８２をエッチングマスクとして用いて、例えばＩＢＥによって、磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄ、第２のギャップ層１８、非磁性金属層５８および絶縁層５９のそれぞれの一部をエッチングする。これにより、磁性層１５Ｐは主磁極１５となる。次に、フォトレジストマスク８２を除去する。

【0113】

ＩＢＥによって磁性層１５Ｐ、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄ、第２のギャップ層１８、非磁性金属層５８および絶縁層５９のそれぞれの一部をエッチングする場合には、イオンビームの進行方向が基板１の上面１ａに垂直な方向に対してなす角度が４０°〜７５°の範囲内となり、且つ基板１の上面１ａに垂直な方向に見たときにイオンビームの進行方向が回転するようにする。このようなＩＢＥを行うことにより、磁性層１５Ｐの上面には、第１の傾斜部１５Ｔ１および第１の平坦部１５Ｔ２が形成される。

【0114】

図２０は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に、例えばスパッタ法または化学的気相成長法によって、第１のギャップ層１９を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、主磁極１５の上面１５Ｔの一部、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上面の一部および第３の接続層の上面が露出するように、第１のギャップ層１９、非磁性金属層５８および絶縁層５９を選択的にエッチングする。

【0115】

図２１は、次の工程を示す。この工程では、まず、例えばフレームめっき法によって、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄおよび第１のギャップ層１９の上に第１のシールド１６Ａを形成し、主磁極１５の上に磁性層４１を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁膜６１を形成する。絶縁膜６１の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜６１を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第３の接続層の上面が露出するように、絶縁膜６１を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、コイルの第２の部分２０の第１層２１を形成する。第１層２１は、その上面が絶縁膜６１のうち第１のシールド１６Ａおよび磁性層４１の上に配置された部分よりも上方に配置されるように形成される。次に、積層体の上面全体の上に、図示しない第２の非磁性層を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、第１のシールド１６Ａおよび磁性層４１が露出するまで、第１層２１、絶縁膜６１および第２の非磁性層を研磨して、第１のシールド１６Ａ、第１層２１、磁性層４１、絶縁膜６１および第２の非磁性層の上面を平坦化する。

【0116】

図２２Ａおよび図２２Ｂは、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に絶縁層６２を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第１のシールド１６Ａの上面および磁性層４１の上面の一部が露出するように、絶縁層６２を選択的にエッチングする。次に、例えばフレームめっき法によって、第１のシールド１６Ａの上に磁性層４２を形成し、磁性層４１の上に磁性層４３を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁膜６３を形成する。絶縁膜６３の材料としてアルミナを用いる場合には、例えば原子層堆積法によって、絶縁膜６３を形成する。次に、例えばＩＢＥによって、第１層２１のコイル接続部２１Ｅ（図５参照）が露出するように、絶縁層６２および絶縁膜６３を選択的にエッチングする。

【0117】

次に、コイルの第２の部分２０の第２層２２と絶縁層６４を形成する。第２層２２と絶縁層６４の形成方法は、コイルの第１の部分１０と絶縁層５３の形成方法と同様である。次に、積層体の上面全体の上に、絶縁層６５を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層４２，４３が露出するまで、第２層２２、絶縁膜６３および絶縁層６４，６５を研磨して、磁性層４２，４３、第２層２２、絶縁膜６３および絶縁層６４，６５の上面を平坦化する。

【0118】

次に、第２層２２、絶縁膜６３および絶縁層６４の上面の上に、絶縁層６６を形成する。次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層４２，４３および絶縁層６６の上に、磁性層４４を形成する。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層６７を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層４４が露出するまで、絶縁層６７を研磨して、磁性層４４および絶縁層６７の上面を平坦化する。

【0119】

次に、積層体の上面の上に図示しないフォトレジストマスクを形成する。このフォトレジストマスクは、媒体対向面８０が形成される予定の位置ＡＢＳには存在せず、積層体のうち磁気ヘッドとして残る部分（図２２Ａにおける位置ＡＢＳよりも右側の部分）の上に存在して磁性層４４の一部を覆う。次に、このフォトレジストマスクをエッチングマスクとして用いて、例えばＩＢＥによって、第１のシールド１６Ａおよび磁性層４２，４４のそれぞれの一部をエッチングする。次に、フォトレジストマスクを除去する。

【0120】

次に、積層体の上面全体を覆うように保護層７０を形成する。次に、保護層７０の上に配線や端子等を形成し、媒体対向面８０が形成される予定の位置の近傍で基板１を切断し、この切断によって形成された面を研磨して媒体対向面８０を形成し、更に浮上用レールの作製等を行って、磁気ヘッドが完成する。

【0121】

［第２の実施の形態］
次に、図２３ないし図２５を参照して、本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図２３は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。図２４は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図２３および図２４は、前記主断面を示している。図２５は、本実施の形態に係る磁気ヘッドの媒体対向面を示す正面図である。

【0122】

本実施の形態に係る磁気ヘッドは、以下の点で第１の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、磁性層３４，３５、絶縁層５６および第１の接続層が設けられていない。第２のシールド１６Ｂは、磁性層３２および絶縁層５４の上に配置されている。磁性層３６は、磁性層３３の上に配置されている。非磁性層５７は、絶縁層５５の上に配置されている。第２の接続層は、コイルの第１の部分１０のコイル接続部１０Ｅ（図４参照）の上に配置されている。

【0123】

また、本実施の形態では、第２のシールド１６Ｂは、ベース部１６Ｂ１と、ベース部１６Ｂ１から主磁極１５に向けて突出する突出部１６Ｂ２とを含んでいる。図２３では、ベース部１６Ｂ１と突出部１６Ｂ２の境界を点線で示している。ベース部１６Ｂ１は、磁性層３２の上面に接し、磁性層３２に磁気的に接続されている。前記主断面において、ベース部１６Ｂ１は、媒体対向面８０に垂直な方向について突出部１６Ｂ２よりも大きな長さを有している。

【0124】

また、ベース部１６Ｂ１は、第２のシールド１６Ｂの第２の端面部分１６Ｂａの一部を構成する前端面１６Ｂａ１と、主磁極１５に向いた上面１６Ｂｄとを有している。突出部１６Ｂ２は、第２のシールド１６Ｂの第２の端面部分１６Ｂａの他の一部を構成する前端面１６Ｂａ２と、第１の実施の形態で説明した第１および第２の傾斜面１６Ｂｂ，１６Ｂｃとを有している。ベース部１６Ｂ１の上面１６Ｂｄは、突出部１６Ｂ２の第２の傾斜面１６Ｂｃよりも媒体対向面８０からより遠い位置にあり且つ第２の傾斜面１６Ｂｃに連続している。ベース部１６Ｂ１の上面１６Ｂｄは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜していてもよいし、実質的に第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２に平行であってもよい。上面１６Ｂｄが第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜する場合には、上面１６Ｂｄにおける任意の位置の基板１の上面１ａからの距離が、任意の位置が媒体対向面８０から離れるに従って小さくなるように傾斜することが好ましい。

【0125】

ここで、ベース部１６Ｂ１の上面１６Ｂｄが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度を記号θ３で表す。第２の傾斜面１６Ｂｃが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度θ２は、角度θ３よりも大きい。角度θ３は、０°〜２０°の範囲内であることが好ましい。

【0126】

次に、本実施の形態による効果について説明する。本実施の形態では、第１の帰磁路部３０は、媒体対向面８０に露出した端面を有していない。すなわち、本実施の形態では、磁性層３４が設けられておらず、第１の帰磁路部３０の一部である磁性層３２は、媒体対向面８０に露出することなく、第１の空間Ｓ１と媒体対向面８０との間に位置して、第２のシールド１６Ｂと磁性層３１とを磁気的に連結している。特に、本実施の形態では、第２のシールド１６Ｂは、ベース部１６Ｂ１と突出部１６Ｂ２とを含み、前記主断面において、ベース部１６Ｂ１は、媒体対向面８０に垂直な方向について突出部１６Ｂ２よりも大きな長さを有している。これにより、磁性層３２は、媒体対向面８０に露出することなく、第２のシールド１６Ｂのベース部１６Ｂ１と磁性層３１とを磁気的に連結することができる。その結果、本実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様に、第１の帰磁路部の端面が媒体対向面８０において広い面積にわたって露出することによる問題を回避することができる。

【0127】

また、本実施の形態では、第２のシールド１６Ｂがベース部１６Ｂ１と突出部１６Ｂ２とを含むことにより、第２のシールド１６Ｂと磁性層３２を磁気的に連結する磁性層３４が不要になり、第１の実施の形態に比べて磁気ヘッドを少ない工程数で製造することができる。また、磁性層３４が存在すると、第２のシールド１６Ｂの第２の端面部分１６Ｂａと磁性層３４との間に、第２のシールド１６Ｂをめっき法によって形成するためのシード層の端部が存在し、第２のシールド１６Ｂおよび磁性層３４の内部から外部へ磁界が漏れやすくなる。その結果、隣接トラック消去が発生するおそれがある。本実施の形態によれば、磁性層３４が不要になることから、シード層に起因する隣接トラック消去の発生を防止することができる。

【0128】

以下、図２６ないし図３０を参照して、本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。図２６ないし図３０は、磁気ヘッドの製造過程における積層体を示している。図２６ないし図３０は、それぞれ、前記主断面を表している。図２６ないし図３０において、記号“ＡＢＳ”は、媒体対向面８０が形成される予定の位置を表している。なお、図２６ないし図３０では、非磁性層７３よりも下の部分を省略している。

【0129】

本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法は、絶縁層５５を形成する工程までは、第１の実施の形態と同様である。図２６に示したように、本実施の形態では、次に、例えばフレームめっき法によって、磁性層３４の上に、後に第２のシールド１６Ｂとなる磁性層１６ＢＰを形成し、磁性層３３の上に磁性層３６を形成し、第１の部分１０のコイル接続部１０Ｅ（図４参照）の上に図示しない第２の接続層を形成する。

【0130】

図２７は、次の工程を示す。この工程では、磁性層１６ＢＰに、後に第２の傾斜面１６Ｂｃとなる部分を含む傾斜面１６ＢＰａと、ベース部１６Ｂ１の上面１６Ｂｄが形成されるように、例えばＩＢＥを用いて、磁性層１６ＢＰの一部をテーパーエッチングする。

【0131】

図２８は、次の工程を示す。この工程では、まず、積層体の上面全体の上に非磁性層５７を形成する。次に、例えばＣＭＰによって、磁性層１６ＢＰ，３６および第２の接続層が露出するまで非磁性層５７を研磨して、磁性層１６ＢＰ，３６、第２の接続層および非磁性層５７の上面を平坦化する。

【0132】

図２９は、次の工程を示す。この工程では、磁性層１６ＢＰの傾斜面１６ＢＰａのうち、後に第１の傾斜面１６Ｂｂが形成される領域が露出するように、例えばＲＩＥを用いて、非磁性層５７の一部をエッチングする。

【0133】

図３０は、次の工程を示す。この工程では、まず、磁性層１６ＢＰに第１の傾斜面１６Ｂｂが形成されるように、例えばＩＢＥを用いて、磁性層１６ＢＰの傾斜面１６ＢＰａの一部をテーパーエッチングする。傾斜面１６ＢＰａのうち、エッチング後に残った部分は、第２の傾斜面１６Ｂｃとなる。これにより、磁性層１６ＢＰは第２のシールド１６Ｂとなる。次に、磁性層３６の上面の縁に位置する角が面取りされるように、例えばＲＩＥを用いて、磁性層３６の一部をエッチングする。その後の工程は、第１の実施の形態と同様である。

【0134】

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。

【0135】

［第３の実施の形態］
次に、図３１および図３２を参照して、本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドについて説明する。図３１は、本実施の形態に係る磁気ヘッドにおける主磁極の媒体対向面の近傍の部分と記録シールドを示す断面図である。図３２は、本実施の形態に係る磁気ヘッドを示す断面図である。なお、図３１および図３２は、前記主断面を示している。

【0136】

本実施の形態に係る磁気ヘッドは、以下の点で第２の実施の形態と異なっている。本実施の形態に係る磁気ヘッドは、媒体対向面８０から離れた位置において第１のギャップ層１９の上に配置された絶縁材料よりなる絶縁層６０を備えている。絶縁層６０は、第１のギャップ層１９と第１のシールド１６Ａおよび絶縁膜６１との間に介在している。また、絶縁層６０は、媒体対向面８０に向いた端面を有し、この端面は、媒体対向面８０から離れた位置に配置されている。絶縁層６０の端面における任意の位置の媒体対向面８０からの距離は、任意の位置が基板１の上面１ａから離れるに従って大きくなっている。絶縁層６０は、例えばアルミナによって形成されている。

【0137】

また、図３１に示したように、本実施の形態では、第１のシールド１６Ａは、第１の端面部分１６Ａａ、第１の傾斜面１６Ａｂ、上面１６Ａｃおよび接続面１６Ａｄに加えて、第２の傾斜面１６Ａｅを有している。第２の傾斜面１６Ａｅは、第１の傾斜面１６Ａｂよりも媒体対向面８０からより遠い位置にあり且つ第１の傾斜面１６Ａｂに連続している。第２の傾斜面１６Ａｅと第１のギャップ層１９との間には、絶縁層６０が介在している。

【0138】

また、第２の傾斜面１６Ａｅは、第１の傾斜面１６Ａｂの第２の端部ＥＡ２に接続された第３の端部ＥＡ３と、その反対側の第４の端部ＥＡ４とを有している。第２の傾斜面１６Ａｅは、第４の端部ＥＡ４が第３の端部ＥＡ３よりも第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２からより遠い位置に配置されるように、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜している。すなわち、第２の傾斜面１６Ａｅは、第４の端部ＥＡ４が第３の端部ＥＡ３に対して記録媒体の進行方向Ｔの前側に配置されるように傾斜している。

【0139】

ここで、図３１に示したように、第１の傾斜面１６Ａｂが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度を記号θ４で表し、第２の傾斜面１６Ａｅが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度を記号θ５で表す。角度θ５は、角度θ４よりも大きい。角度θ４は、例えば３０°〜４５°の範囲内であることが好ましい。角度θ５は、例えば５０°〜６５°の範囲内であることが好ましい。第２の傾斜面１６Ａｅ上の任意の位置と主磁極１５との間の距離は、任意の位置が第４の端部ＥＡ４に近づくに従って大きくなっている。

【0140】

次に、本実施の形態における絶縁層６０と第１のシールド１６Ａの形成方法の一例について簡単に説明する。絶縁層６０を形成する工程は、第１の実施の形態で説明した、積層体の上面全体の上に第１のギャップ層１９を形成する工程の後に行われる。絶縁層６０を形成する工程では、まず、第１のギャップ層１９の上にフォトレジストマスクを形成する。このフォトレジストマスクは、少なくとも媒体対向面８０が形成される予定の位置の近傍を覆っている。次に、積層体の上面全体の上に絶縁層６０を形成する。次に、フォトレジストマスクをリフトオフする。次に、例えばＩＢＥによって、絶縁層６０に前述の端面が形成されるように、絶縁層６０の一部をテーパーエッチングする。次に、例えばＩＢＥによって、主磁極１５の上面１５Ｔの一部、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄの上面の一部および第３の接続層の上面が露出するように、第１のギャップ層１９、非磁性金属層５８および絶縁層５９，６０を選択的にエッチングする。

【0141】

次に、第１のシールド１６Ａを形成する工程が行われる。具体的には、例えばフレームめっき法によって、サイドシールド１６Ｃ，１６Ｄ、第１のギャップ層１９および絶縁層６０の上に第１のシールド１６Ａを形成する。これにより、第１のシールド１６Ａに、前述の第１および第２の傾斜面１６Ａｂ，１６Ａｅが形成される。

【0142】

本実施の形態では、記録シールド１６の第１のシールド１６Ａは、第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜した第１および第２の傾斜面１６Ａｂ，１６Ａｅを有している。第２の傾斜面１６Ａｅが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度θ５は、第１の傾斜面１６Ａｂが媒体対向面８０に垂直な方向に対してなす角度θ４よりも大きく、且つ、第２の傾斜面１６Ａｅ上の任意の位置と主磁極１５との間の距離は、任意の位置が第４の端部ＥＡ４に近づくに従って大きくなっている。これにより、主磁極１５から第１のシールド１６Ａへの磁束の漏れを抑制することが可能になる。また、第２の傾斜面１６Ａｅを第１および第２の仮想の平面Ｐ１，Ｐ２および媒体対向面８０に対して傾斜させることにより、角度θ５が９０°の場合に比べて、第１のシールド１６Ａの体積を大きくすることができ、その結果、記録シールド１６において磁束の飽和が生じることを抑制することができる。従って、本実施の形態によれば、記録シールド１６（第１のシールド１６Ａ）の機能を損なうことなく、スキューに起因した問題の発生を防止し、且つ記録特性を向上させることが可能になる。

【0143】

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第２の実施の形態と同様である。

【0144】

なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、磁気ヘッドは、第１および第２の帰磁路部３０，４０のうち、いずれか一方のみを備えていてもよい。また、主磁極１５の上面１５Ｔおよび下端部１５Ｌのうち、いずれか一方のみが傾斜部（第１の傾斜部）を有していてもよい。

【符号の説明】

【0145】

１５…主磁極、１６…記録シールド、１６Ａ…第１のシールド、１６Ｂ…第２のシールド、１６Ｂｂ…第１の傾斜面、１６Ｂｃ…第２の傾斜面、１６Ｃ，１６Ｄ…サイドシール、８０…媒体対向面。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22A】

【図22B】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】