特許 5714892 ガラス基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5714892

(24)【登録日】2015年3月20日

(45)【発行日】2015年5月7日

(54)【発明の名称】ガラス基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G11B 5/73 20060101AFI20150416BHJP

   G11B 5/84 20060101ALI20150416BHJP

【ＦＩ】

   G11B5/73

   G11B5/84 A

【請求項の数】3

【全頁数】20

(21)【出願番号】特願2010-293352(P2010-293352)

(22)【出願日】2010年12月28日

(65)【公開番号】特開2012-142046(P2012-142046A)

(43)【公開日】2012年7月26日

【審査請求日】2013年7月5日

(73)【特許権者】

【識別番号】000113263

【氏名又は名称】ＨＯＹＡ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001195

【氏名又は名称】特許業務法人深見特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】遠藤 毅

(72)【発明者】

【氏名】福本 直之

【審査官】 臼井 卓巳

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−０５９４６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−０２７１５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００５／０４３５１２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００７−２１３７２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−１０２５１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０５７３３６２２（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特開２００４−２９０７８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２３１９３０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−１１４７８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−０５０５０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−２０７７３０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ１１Ｂ ５／７３

Ｇ１１Ｂ ５／８４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

情報記録装置に情報記録媒体として内蔵されるガラス基板の製造方法であって、
主表面を有するガラス基板を準備する工程と、
前記ガラス基板を化学強化処理液に浸漬することにより、前記主表面を含む前記ガラス基板の表面全体に化学強化層を形成する工程と、
前記化学強化層を研磨する工程と、を備え、
前記主表面は、前記ガラス基板が前記情報記録媒体として前記情報記録装置に内蔵された状態において、前記情報記録媒体を固定するために押圧される被クランプ領域と、前記被クランプ領域よりも前記主表面の外周側に位置し、磁気記録層が形成される磁気記録層形成領域と、を含み、
前記化学強化層を研磨する工程においては、前記被クランプ領域に前記化学強化層を残存させるとともに、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層のすべてが除去されるか、若しくは、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層の厚さが前記被クランプ領域における前記化学強化層の厚さよりも薄くなるように、前記化学強化層が研磨される、
ガラス基板の製造方法。

【請求項2】

前記化学強化層を研磨する工程においては、前記被クランプ領域が覆われた状態で、研磨粒子を含む流体と前記磁気記録層形成領域に形成された前記化学強化層とを相対移動させることによって、前記磁気記録層形成領域における前記化学強化層が研磨される、
請求項１に記載のガラス基板の製造方法。

【請求項3】

前記ガラス基板を準備する工程においては、前記磁気記録層形成領域に対して前記被クランプ領域が凹設された前記ガラス基板が準備され、
前記主表面に前記化学強化層を形成する工程においては、前記被クランプ領域および前記磁気記録層形成領域のそれぞれに対して均一な厚さを有する前記化学強化層が形成され、
前記化学強化層を研磨する工程においては、前記ガラス基板の全体が一様な厚さとなるように前記磁気記録層形成領域に対して平行な方向に沿って前記化学強化層が研磨される、
請求項１に記載のガラス基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ガラス基板およびその製造方法、ならびに情報記録装置に関し、特に、情報記録装置に情報記録媒体として内蔵されるガラス基板およびその製造方法、ならびにその情報記録装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ＨＤＤ（Hard Disk Drive）などの情報記録装置には、円板状の磁気ディスクまたは光磁気ディスクなどの情報記録媒体が内蔵される。従来、情報記録媒体を構成する基板としては、アルミニウム合金製の基板が用いられていた。しかしながら、アルミニウム合金製の基板は変形しやすく、平滑度および平坦度の高い基板表面（主表面ともいう）を得ることが困難である。近年、アルミニウム合金製に代わってガラス製の基板（以下、ガラス基板という）が広く用いられている。

【0003】

一般的に、ガラス基板には化学強化処理が施される。いわゆるイオン交換法によって、ガラス基板の表面（表層）付近のアルカリ元素が他のアルカリ元素と置換される。当該置換によって、ガラス基板の表面に化学強化層（圧縮応力層ともいう）が形成される。化学強化処理によって、情報記録媒体としての耐衝撃性が向上する。近年、情報記録媒体は、ノートパソコンなどに組み込まれた状態で持ち運ばれる機会が増加している。情報記録媒体の耐衝撃性に対する要求はますます高くなっている。

【0004】

ここで、磁気ディスク等の情報記録媒体は、情報記録装置の内部において高速で回転する。情報の記録および再生のために、情報記録媒体の表面に形成された磁気記録層上を磁気ヘッドが回転するディスク上を浮上走行する。近年、記録密度の増加に伴って、磁気ヘッドと情報記録媒体（磁気記録層）との間の浮上距離を小さくする必要がある。特に、近年開発が進んだＤＦＨ（Dynamic Flying Height）技術によってダイナミックに磁気ヘッドの浮上量を精密制御することが可能となり、一層浮上量が小さくなる傾向にある。ガラス基板の主表面に形成された磁気記録層と磁気ヘッドとの接触（いわゆるヘッドクラッシュ現象）を抑制するために、ガラス基板の主表面の平滑度および平坦度に対する要求はますます高くなっている。さらには、基板における数ナノメートルオーダーでの局所的な平滑性不良が磁気記録層の成膜状態に悪影響を及ぼして、ヘッドクラッシュまで至らなくとも磁気性能の劣化によりデータの書き込みや読み出しにおいてエラーとなることがある。

【0005】

図３２を参照して、国際公開第２００５／０４３５１２号（特許文献１）に開示されるガラス基板と同様の構成を備える一般的なガラス基板１Ｙについて説明する。ガラス基板１Ｙは、環状の円板形状を呈している。ガラス基板１Ｙは、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４を備える。ガラス基板１Ｙの中心に、孔５が形成される。化学強化層６は、内周端面３および外周端面４の各々に形成され、磁気記録層（図示せず）が形成される表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆには形成されていない。

【0006】

特許文献１は、内周端面３および外周端面４のそれぞれに化学強化層６が形成されるため、内周端面３および外周端面４を起点とする破壊および損傷（破損）が発生しにくい旨を述べている。また、特許文献１は、表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆに化学強化層６が形成されていないため、表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆの平坦度および平滑度が高く、情報を高い密度で記録することが可能な磁気記録層を表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆに形成することができる旨も述べている。

【0007】

図３３を参照して、特開２００４−２５３０７４号公報（特許文献２）に開示されるガラス基板と同様の構成を備える他の一般的なガラス基板１Ｚについて説明する。ガラス基板１Ｚにおいては、化学強化層６が、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４のそれぞれに形成される。特許文献２は、ガラス基板１Ｚの表面の全体にわたって化学強化層６が形成されるため、情報記録媒体としての耐衝撃性を向上させることができる旨を述べている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】国際公開第２００５／０４３５１２号

【特許文献2】特開２００４−２５３０７４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

ガラス基板１Ｙ（図３２および特許文献１参照）とガラス基板１Ｚ（図３３および特許文献２参照）とを比較する。耐衝撃性の観点からは、全面にわたって化学強化層６が形成されるガラス基板１Ｚの方が、内周端面３および外周端面４にのみ化学強化層６が形成されるガラス基板１Ｙよりも優れている。

【0010】

一方、平坦度および平滑度の観点からは、表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆに化学強化層６が形成されていないガラス基板１Ｙの方が、全面にわたって化学強化層６が形成されるガラス基板１Ｚよりも優れている。ガラス基板１Ｚにおいては、表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆにそれぞれ形成された化学強化層６に、化学強化処理に起因するナノメーターオーダーの局所的な形状うねり（ムラ）が発生しやすいからである。よって、ガラス基板１Ｙの方が、ガラス基板１Ｚよりも、情報を高い密度で記録可能な磁気記録層が形成されることが可能となる。

【0011】

化学強化層をより多く形成してガラス基板の耐衝撃性を高めようとすると、ガラス基板の主表面の平坦度および平滑度が低くなる。化学強化層を減らしてガラス基板の主表面の平坦度および平滑度を高めようとすると、ガラス基板の耐衝撃性が低くなる。上記の対比においては、耐衝撃性と平坦度および平滑度との間に、いわゆるトレードオフの関係が存在している。

【0012】

ここで、上記の対比におけるガラス基板の耐衝撃性は、ガラス基板を単体で落下させることによって判断される。具体的には、ガラス基板を所定の高さから落下させることによって、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、または外周端面４と地面等とが接触する。上記の対比におけるガラス基板の耐衝撃性は、当該接触によってガラス基板に割れまたは欠け等が発生したか否かに基づいて判断される。

【0013】

ガラス基板を単体で落下させたときには、地面に直接接触する可能性がある表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、または外周端面４の耐衝撃性が要求される。したがって、上記の対比においては、全面にわたって化学強化層６が形成されるガラス基板１Ｚの方が、内周端面３および外周端面４にのみ化学強化層６が形成されるガラス基板１Ｙよりも優れている。

【0014】

これに対して本発明者らは、ガラス基板を情報記録媒体として情報記録装置に組み込んだ状態で、この情報記録装置を所定の高さから落下させた。その結果、本発明者らは、ガラス基板を単体で落下させた場合と、ガラス基板を情報記録媒体として情報記録装置に組み込んだ状態で落下させた場合とでは、要求される耐衝撃性の性質（課題）が異なることを発見した。

【0015】

本発明は、上記の実情に鑑みて為されたものであって、主表面の平坦度および平滑度を
向上させることによって情報を高い密度で記録可能な磁気記録層が形成されることができ、さらにガラス基板が情報記録媒体として情報記録装置に組み込まれた状態において、そのガラス基板の耐衝撃性を向上させることが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0020】

本発明に基づくガラス基板の製造方法は、情報記録装置に情報記録媒体として内蔵されるガラス基板の製造方法であって、主表面を有するガラス基板を準備する工程と、上記ガラス基板を化学強化処理液に浸漬することにより、上記主表面を含む上記ガラス基板の表面全体に化学強化層を形成する工程と、上記化学強化層を研磨する工程と、を備え、上記主表面は、上記ガラス基板が上記情報記録媒体として上記情報記録装置に内蔵された状態において、上記情報記録媒体を固定するために押圧される被クランプ領域と、上記被クランプ領域よりも上記主表面の外周側に位置し、磁気記録層が形成される磁気記録層形成領域と、を含み、上記化学強化層を研磨する工程においては、上記被クランプ領域に上記化学強化層を残存させるとともに、上記磁気記録層形成領域における上記化学強化層のすべてが除去されるか、若しくは、上記磁気記録層形成領域における上記化学強化層の厚さが上記被クランプ領域における上記化学強化層の厚さよりも薄くなるように、上記化学強化層が研磨される。

【0021】

好ましくは、上記化学強化層を研磨する工程においては、上記被クランプ領域が覆われた状態で、研磨粒子を含む流体と上記磁気記録層形成領域に形成された上記化学強化層とを相対移動させることによって、上記磁気記録層形成領域における上記化学強化層が研磨される。

【0022】

好ましくは、上記ガラス基板を準備する工程においては、上記磁気記録層形成領域に対して上記被クランプ領域が凹設された上記ガラス基板が準備され、上記主表面に上記化学強化層を形成する工程においては、上記被クランプ領域および上記磁気記録層形成領域のそれぞれに対して均一な厚さを有する上記化学強化層が形成され、上記化学強化層を研磨する工程においては、上記ガラス基板の全体が一様な厚さとなるように上記磁気記録層形成領域に対して平行な方向に沿って上記化学強化層が研磨される。

【発明の効果】

【0023】

本発明によれば、主表面の平坦度および平滑度を向上させることによって情報を高い密度で記録可能な磁気記録層が形成されることができ、さらにガラス基板が情報記録媒体として情報記録装置に組み込まれた状態において、そのガラス基板の耐衝撃性を向上させることが可能なガラス基板の製造方法を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】実施の形態１におけるガラス基板を示す平面図である。

【図2】図１中のＩＩ−ＩＩ線矢視断面図である。

【図3】実施の形態１におけるガラス基板のクランプ領域付近を示す拡大断面図である。

【図4】実施の形態１におけるガラス基板を含む情報記録媒体を示す断面図である。

【図5】実施の形態１におけるガラス基板が情報記録媒体として内蔵された情報記録装置を示す斜視図である。

【図6】図５中のＶＩ−ＶＩ線矢視断面図である。

【図7】実施の形態１の変形例におけるガラス基板のクランプ領域付近を示す拡大断面図である。

【図8】実施の形態１の変形例におけるガラス基板が情報記録媒体として内蔵された情報記録装置を示す断面図である。

【図9】実施の形態２におけるガラス基板のクランプ領域付近を示す拡大断面図である。

【図10】実施の形態２の変形例におけるガラス基板のクランプ領域付近を示す拡大断面図である。

【図11】実施の形態３におけるガラス基板が情報記録媒体として内蔵された情報記録装置を示す断面図である。

【図12】実施の形態４におけるガラス基板（情報記録媒体）の製造方法の各工程を示す図である。

【図13】実施の形態４におけるガラス溶融工程およびプレス成形工程を経て準備されたガラス基板を示す断面図である。

【図14】実施の形態４におけるコアリング工程、粗研磨工程、および第１精密研磨工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図15】実施の形態４における化学強化層形成工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図16】実施の形態４における化学強化層研磨工程を示す斜視図である。

【図17】実施の形態４における化学強化層研磨工程が行なわれている様子を示す第１断面図である。

【図18】実施の形態４における化学強化層研磨工程が行なわれている様子を示す第２断面図である。

【図19】実施の形態４における第２精密研磨工程、洗浄工程、磁気記録層形成工程、および冷却工程を経て得られた情報記録媒体を示す断面図である。

【図20】実施の形態４の変形例におけるガラス基板（情報記録媒体）の製造方法によって製造されたガラス基板および情報記録媒体を示す断面図である。

【図21】実施の形態５におけるガラス溶融工程およびプレス成形工程を経て準備されたガラス基板を示す断面図である。

【図22】実施の形態５におけるコアリング工程、粗研磨工程、および第１精密研磨工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図23】実施の形態５における化学強化層形成工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図24】実施の形態５における化学強化層研磨工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図25】実施の形態５における第２精密研磨工程、洗浄工程、磁気記録層形成工程、および冷却工程を経て得られた情報記録媒体を示す断面図である。

【図26】実施の形態５の第１変形例におけるコアリング工程、粗研磨工程、および第１精密研磨工程を経たガラス基板を示す断面図である。

【図27】実施の形態５の第１変形例におけるガラス基板（情報記録媒体）の製造方法によって製造されたガラス基板および情報記録媒体を示す断面図である。

【図28】実施の形態５の第２変形例におけるガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板を示す断面図である。

【図29】実施の形態５の第２変形例におけるガラス基板情報記録媒体）の製造方法によって製造されたガラス基板および情報記録媒体を示す断面図である。

【図30】実施の形態５の第３変形例におけるガラス溶融工程を示す断面図である。

【図31】実施の形態５の第３変形例におけるプレス成形工程を示す断面図である。

【図32】一般的なガラス基板を示す断面図である。

【図33】他の一般的なガラス基板を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

本発明に基づいた各実施の形態について、以下、図面を参照しながら説明する。各実施の形態の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。各実施の形態の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。

【0026】

［実施の形態１］
（ガラス基板１）
図１は、本実施の形態におけるガラス基板１を示す平面図である。図２は、図１中のＩＩ−ＩＩ線矢視断面図である。図３は、ガラス基板１の被クランプ領域１Ｒ（詳細は後述する）の付近を示す拡大断面図である。図１〜図３を参照して、ガラス基板１について説明する。ガラス基板１の製造方法については、実施の形態４において後述する。ガラス基板１の大きさは、たとえば０．８インチ、１．０インチ、１．８インチ、２．５インチ、または３．５インチである。

【0027】

図１および図２に示すように、円環板状のガラス基板１は、表主表面１Ｆ（第１主表面）、裏主表面２Ｆ（第２主表面）、内周端面３、外周端面４、孔５、および化学強化層６を備える。孔５は、ガラス基板１の中心に形成される。ガラス基板１における化学強化層６は、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４のそれぞれに形成される（図２参照）。

【0028】

表主表面１Ｆは、被クランプ領域１Ｒ（第１被クランプ領域）および磁気記録層形成領域１Ｓ（第１磁気記録層形成領域）を含む。平面視円環状の被クランプ領域１Ｒは、孔５の外側に、ガラス基板１と同心状に設けられる。図４〜図６を参照して後述されるが、被クランプ領域１Ｒは、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に内蔵された状態において、情報記録媒体１０を固定するために上部クランプ部材２４（図６参照）によって押圧される領域である。

【0029】

平面視円環状の磁気記録層形成領域１Ｓは、被クランプ領域１Ｒよりも表主表面１Ｆの外周側に、ガラス基板１と同心状に設けられる。図４を参照して後述されるが、磁気記録層形成領域１Ｓは、ガラス基板１が情報記録媒体１０を構成するために、磁気記録層１Ｋ（図４参照）が形成される領域である。

【0030】

同様に、裏主表面２Ｆは、被クランプ領域２Ｒ（第２被クランプ領域）および磁気記録層形成領域２Ｓ（第２磁気記録層形成領域）を含む。平面視円環状の被クランプ領域２Ｒは、孔５の外側に、ガラス基板１と同心状に設けられる。被クランプ領域２Ｒは、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に内蔵された状態において、情報記録媒体１０を固定するために下部クランプ部材２２（図６参照）によって押圧される領域である。

【0031】

平面視円環状の磁気記録層形成領域２Ｓは、被クランプ領域２Ｒよりも裏主表面２Ｆの外周側に、ガラス基板１と同心状に設けられる。磁気記録層形成領域２Ｓは、ガラス基板１が情報記録媒体１０を構成するために、磁気記録層２Ｋ（図４参照）が形成される領域である。

【0032】

図３を参照して、表主表面１Ｆにおいては、被クランプ領域１Ｒに形成される化学強化層６の厚さＴ１Ｒに比べて、磁気記録層形成領域１Ｓに形成される化学強化層６の厚さＴ１Ｓの方が薄い（厚さＴ１Ｓ＜厚さＴ１Ｒ）。裏主表面２Ｆにおいては、被クランプ領域２Ｒに形成される化学強化層６の厚さＴ２Ｒに比べて、磁気記録層形成領域２Ｓに形成される化学強化層６の厚さＴ２Ｓの方が薄い（厚さＴ２Ｓ＜厚さＴ２Ｒ）。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓを含む部分は厚さＴ１を有し、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒを含む部分は厚さＴ２を有する（厚さＴ１＜厚さＴ２）。厚さＴ１（ガラス基板の厚さ）は、破損防止および損傷（破損）防止、さらには情報記録装置に組み込まれて回転する時のフラッタリング振動抑制等の観点から０．８ｍｍ以上であるとよい。被クランプ領域１Ｒ，２Ｒにおける化学強化層６の厚さは特に制限はないが、圧縮応力により効果的な耐破壊性能を備えるためには数ミクロン以上が望ましく、特に１０ミクロンを超えることがより望ましい。

【0033】

（情報記録媒体１０）
図４は、ガラス基板１を含む情報記録媒体１０を示す断面図である。情報記録媒体１０においては、磁気記録層形成領域１Ｓ上に、磁気記録層１Ｋ（第１磁気記録層）が形成される。磁気記録層形成領域２Ｓ上に、磁気記録層２Ｋ（第２磁気記録層）が形成される。

【0034】

磁気記録層１Ｋ，２Ｋは、所望の記録再生特性を得るために設計された複数の層をスパッタリングすることによって形成される。磁気記録層１Ｋ，２Ｋは、スピンコート法、または無電解めっき法等によって各主表面１Ｆ，２Ｆ上に形成されてもよい。ここではクランプによる摩擦で基板へ形成した磁気記録層の構成部材の一部がパーティクルとして飛散することを防止するために、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓ上のみに磁気記録層１Ｋ，２Ｋをそれぞれ構成しているが、特にそれに限るものではなく、近年はスパッタリング法が磁気記録層構成方法の主流となっていることを鑑みれば、低コストで磁気記録層を形成するために磁気記録層１Ｋ、２Ｋを磁気記録層形成領域１Ｓ、２Ｓ上に加えて被クランプ領域１Ｒ、２Ｒまで構成しても構わない。

【0035】

（情報記録装置１００）
図５は、本実施の形態における情報記録装置１００を示す斜視図である。図６は、図５中のＶＩ−ＶＩ線矢視断面図である。図５および図６に示すように、情報記録装置１００は、ガラス基板１に磁気記録層１Ｋおよび磁気記録層２Ｋ（図６参照）が形成された情報記録媒体１０、筐体２０、スピンドルモータ２１（図６参照）、下部クランプ部材２２（図６参照）、ハブ２３（図６参照）、上部クランプ部材２４、固定ネジ２５、ヘッドスライダ２６（図３参照）、サスペンション２７、アーム２８、垂直軸２９、ボイスコイル３０、およびボイスコイルモータ３１を備える。

【0036】

筐体２０の上面に、スピンドルモータ２１が設置される。スピンドルモータ２１の上面に、円板上の下部クランプ部材２２（クランプ台）が設置される。円柱状のハブ２３は、スピンドルモータ２１上に立設され、下部クランプ部材２２を貫通している（図６参照）。情報記録媒体１０は、孔５がハブ２３に挿通されるように、下部クランプ部材２２の表面２２Ｎ上に配置される。ハブ２３の上端に、上部クランプ部材２４を貫通する固定ネジ２５が螺合される。

【0037】

上部クランプ部材２４は、固定ネジ２５によってハブ２３の上端に固定される。上部クランプ部材２４は、固定ネジ２５に押圧固定される内周側の円板状部分２４Ｂと、円板状部分２４Ｂの外周にスカート状に設けられた環状部分２４Ｍとを有する。

【0038】

固定ネジ２５によって上部クランプ部材２４の円板状部分２４Ｂが下方に押圧される。円板状部分２４Ｂが板バネとして作用することによって、環状部分２４Ｍの表面２４Ｎは、情報記録媒体１０を押圧固定する。下部クランプ部材２２の表面２２Ｎおよび上部クランプ部材２４の環状部分２４Ｍの表面２４Ｎによって、情報記録媒体１０が挟持される。

【0039】

上部クランプ部材２４の環状部分２４Ｍの表面２４Ｎからの押圧力は、ガラス基板１における被クランプ領域１Ｒに作用する。換言すると、被クランプ領域１Ｒは、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に内蔵された状態において、情報記録媒体１０を固定するために上部クランプ部材２４によって押圧される。

【0040】

下部クランプ部材２２の表面２２Ｎからの押圧力は、ガラス基板１における被クランプ領域２Ｒに作用する。換言すると、被クランプ領域２Ｒは、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に内蔵された状態において、情報記録媒体１０を固定するために下部クランプ部材２２（図６参照）によって押圧される。

【0041】

上記構成により、情報記録媒体１０は、下部クランプ部材２２および上部クランプ部材２４によって挟持固定された状態で、スピンドルモータ２１からの回転動力を受けて回転することができる。情報記録媒体１０は、たとえば数千ｒｐｍの回転数で回転駆動される。

【0042】

図５に示すように、アーム２８は、垂直軸２９回りに揺動可能に取り付けられる。アーム２８の先端に、板バネ（片持ち梁）状のサスペンション２７が取り付けられる。サスペンション２７の先端に、ヘッドスライダ２６が情報記録媒体１０を挟み込むように取り付けられる。

【0043】

アーム２８のヘッドスライダ２６とは反対側に、ボイスコイル３０が取り付けられる。ボイスコイル３０は、筐体２０上に設けられたマグネット（図示せず）によって挟持される。ボイスコイル３０およびこのマグネットにより、ボイスコイルモータ３１が構成される。

【0044】

ボイスコイル３０に、所定の電流が供給される。アーム２８は、ボイスコイル３０に流れる電流と上記マグネットの磁場とによって発生する力に基づいて、垂直軸２９回りに揺動する。アーム２８の揺動によって、サスペンション２７およびヘッドスライダ２６も矢印ＡＲ１方向に揺動する。ヘッドスライダ２６は、情報記録媒体１０の半径方向に往復移動する。ヘッドスライダ２６に設けられた磁気ヘッド（図示せず）は、ボイスコイル３０に対してシーク動作を行なう。

【0045】

当該シーク動作が行なわれる一方で、ヘッドスライダ２６は、情報記録媒体１０の回転に伴って発生する空気流により浮揚力を受ける。当該浮揚力とサスペンション２７の弾性力（押圧力）とのバランスによって、ヘッドスライダ２６は情報記録媒体１０の表面に対して一定の浮上量で走行する。当該走行によって、情報記録媒体１０の所定のトラックに対して、情報（データ）の記録および再生が行なわれることが可能となる。

【0046】

（作用・効果）
図６を参照して、ガラス基板１においては、化学強化層６が、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４のそれぞれに形成される。ここで、ガラス基板１を情報記録媒体１０として情報記録装置１００に組み込んだ状態で、この情報記録装置１００を所定の高さから落下させたとする。所定の高さとは、たとえば情報記録装置１００への落下衝撃が１１００Ｇとなるような値である。

【0047】

ガラス基板１を単体で落下させた場合とは異なり、落下によるガラス基板１への応力は、被クランプ領域１Ｒまたは被クランプ領域２Ｒに集中的に作用する。ガラス基板１においては、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒには、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓよりも厚い化学強化層６が形成されている。ガラス基板１によれば、各主表面１Ｆ，２Ｆに化学強化層６が形成されていないガラス基板１Ｙ（図３２参照）に比べて、耐衝撃性を向上させることができる。

【0048】

ここで、情報記録媒体１０への情報の書き込みおよび読み取りの早さを向上させようとした場合、情報記録媒体１０をより高い回転数で駆動させる必要がる。情報記録媒体１０をより高い回転数で駆動させると、ガラス基板１および上部クランプ部材２４の間と、ガラス基板１および下部クランプ部材２２の間とにおいて、すべりが発生しやすくなる。

【0049】

すべりの発生を抑制するためには、ガラス基板１の被クランプ領域１Ｒ，２Ｒがより強い押圧力で固定される。これに伴って、情報記録装置１００が落下した際におけるガラス基板１の被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに作用する応力も増大する。これに対して、ガラス基板１によれば、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓよりも厚い化学強化層６が形成されている。ガラス基板１によれば、ガラス基板１Ｙ（図３２参照）に比べて、高回転（たとえば７０００ｒｐｍ以上）で駆動される場合に、特にその効果（耐衝撃性）が発揮されることが可能となる。

【0050】

一方、ガラス基板１においては、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６が、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６よりも薄い。化学強化層６の厚さが薄いため、ガラス基板１においては、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに比べて、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓには化学強化処理に起因するナノメーターオーダーの局所的な形状うねり（ムラ）が発生しにくい。被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに比べて、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓの平坦度および平滑度が高い。

【0051】

したがって、ガラス基板１によれば、全面にわたって化学強化層６が一様な厚さで形成されているガラス基板１Ｚ（図３３参照）に比べて、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける平坦度および平滑度を向上させることができる。ガラス基板１によれば、情報を高い密度で記録可能な磁気記録層１Ｋ，２Ｋが、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにそれぞれ形成されることができる。

【0052】

磁気記録層形成領域１Ｓにおける化学強化層６と、磁気記録層形成領域２Ｓにおける化学強化層６とは、同一の厚さであるとよい。化学強化層６によってガラス基板１に作用する圧縮応力が、磁気記録層形成領域１Ｓと磁気記録層形成領域２Ｓとにおいて互いに相殺される。ガラス基板１は、化学強化層６の圧縮応力によって撓むことがなく、平坦度をさらに向上させることが可能となる。

【0053】

以上説明したように、ガラス基板１によれば、各主表面１Ｆ，２Ｆにおける磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓの平坦度および平滑度を向上させることによって、情報を高い密度で記録可能な磁気記録層１Ｋ，２Ｋがそれぞれ形成されることができ、さらに、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に組み込まれた状態において、そのガラス基板１の耐衝撃性を向上させることができる。

【0054】

［実施の形態１の変形例］
（ガラス基板１Ａ）
図７を参照して、本変形例におけるガラス基板１Ａについて説明する。ここでは、上述の実施の形態１におけるガラス基板１との相違点について説明する。ガラス基板１Ａの製造方法については、実施の形態４の変形例として後述する。ガラス基板１Ａにおいては、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒおよび内周端面３に化学強化層６が形成され、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに化学強化層６が存在していない（形成されていない）。

【0055】

図８を参照して、情報記録装置１００Ａは、ガラス基板１Ａに磁気記録層１Ｋ，２Ｋが形成された情報記録媒体１０Ａを備える。情報記録装置１００に備えられるガラス基板１Ａによっても、各主表面１Ｆ，２Ｆに化学強化層６が形成されていないガラス基板１Ｙ（図３２参照）に比べて、耐衝撃性を向上させることができる。

【0056】

化学強化層６が磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに存在していないため、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓには化学強化処理に起因するうねり（ムラ）がほとんど発生しない。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓの平坦度および平滑度は、上述の実施の形態１におけるガラス基板１に比べて、ガラス基板１Ａの方が高い。ガラス基板１Ａによれば、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓのそれぞれに、情報を高い密度で記録可能な磁気記録層１Ｋ，２Ｋがより良好に形成されることができる。

【0057】

［実施の形態２］
（ガラス基板１Ｂ）
図９を参照して、本実施の形態におけるガラス基板１Ｂについて説明する。ここでは、上述の実施の形態１におけるガラス基板１との相違点について説明する。ガラス基板１Ｂの製造方法については、実施の形態５として後述する。ガラス基板１Ｂにおいては、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６に比べて、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒにおける化学強化層６の方が、ガラス基板１Ｂの（厚さ方向における）内部深くに入り込むように形成されている。ガラス基板１Ｂは、表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆが平坦に形成され、一様な厚さＴ１を有する。

【0058】

被クランプ領域１Ｒにおける化学強化層６の厚さＴ１Ｒに比べて、磁気記録層形成領域１Ｓにおける化学強化層６の厚さＴ１Ｓの方が薄いという点は、上述の実施の形態１におけるガラス基板１と同様である。また、被クランプ領域２Ｒに形成される化学強化層６の厚さＴ２Ｒに比べて、磁気記録層形成領域２Ｓに形成される化学強化層６の厚さＴ２Ｓの方が薄いという点も、上述の実施の形態１におけるガラス基板１と同様である。

【0059】

ガラス基板１Ｂによれば、上述の実施の形態１におけるガラス基板１と同様の作用および効果に加えて、ガラス基板１Ｂが配置される空間をより小さくすることができる。ガラス基板１Ｂが情報記録媒体として情報記録装置に組み込まれた場合において、情報記録装置としての小型化を図ることが可能となる。

【0060】

［実施の形態２の変形例］
（ガラス基板１Ｃ）
図１０を参照して、本変形例におけるガラス基板１Ｃについて説明する。ここでは、上述の実施の形態２におけるガラス基板１Ｂとの相違点について説明する。ガラス基板１Ｃにおいては、上述の実施の形態１の変形例におけるガラス基板１Ａ（図７参照）と同様に、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに化学強化層６が存在していない（形成されていない）。

【0061】

ガラス基板１Ｃによれば、上述の実施の形態２におけるガラス基板１Ｂと同様の作用および効果に加えて、上述の実施の形態１の変形例におけるガラス基板１Ａ（図７参照）と同様に、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓのそれぞれに、情報を高い密度で記録可能な磁気記録層１Ｋ，２Ｋがより良好に形成されることができる。

【0062】

［実施の形態３］
（ガラス基板１Ｄ）
図１１を参照して、本実施の形態におけるガラス基板１Ｄを情報記録媒体１０Ｄとして内蔵する情報記録装置１００Ｄについて説明する。ここでは、上述の実施の形態１，２（各変形例を含む）との相違点について説明する。上述のガラス基板１，１Ａ〜１Ｃにおいては、化学強化層６が被クランプ領域１Ｒおよび被クランプ領域２Ｒの双方に形成される。

【0063】

ガラス基板１Ｄにおいては、被クランプ領域１Ｒに化学強化層６が形成され、被クランプ領域２Ｒには化学強化層６が存在していない。ガラス基板１Ｄによっても、上部クランプ部材２４によって押圧される部分に化学強化層６が形成されているため、当該部分を起点とする割れの発生を抑制することができる。ガラス基板１Ｄによっても、各主表面１Ｆ，２Ｆに化学強化層６が形成されていないガラス基板１Ｙ（図３２参照）に比べて、情報記録装置１００Ｄの落下時における耐衝撃性を向上させることができる。

【0064】

上述のガラス基板１，１Ａ〜１Ｃにおいては、磁気記録層形成領域１Ｓに磁気記録層１Ｋが形成され、磁気記録層形成領域２Ｓに磁気記録層２Ｋが形成される（換言すると、ガラス基板の両面に磁気記録層が形成される）。

【0065】

一方、ガラス基板１Ｄにおいては、磁気記録層２Ｋが形成されず、磁気記録層１Ｋのみが磁気記録層形成領域１Ｓに形成される（換言すると、ガラス基板の片面にのみ磁気記録層が形成される）。ガラス基板１Ｄにおいては、片面にのみ磁気記録層が形成されるため、ヘッドスライダ２６（図５参照）に取り付けられる磁気ヘッドの数を減らすことができる。一般的に、磁気ヘッドはいわゆるレアアースを含む。ガラス基板１Ｄによれば、情報記録媒体１０Ｄおよび情報記録装置１００Ｄをより安価に構成することが可能となる。

【0066】

［実施の形態４］
（ガラス基板１の製造方法）
図１２〜図１９を参照して、本実施の形態について説明する。ここでは、上述の実施の形態１におけるガラス基板１（図１〜図３）の製造方法、および上述の実施の形態１における情報記録媒体１０（図４参照）の製造方法について説明する。

【0067】

図１２を参照して、ガラス溶融工程（Ｓ１０）において、アルミノシリケートガラス等のガラス素材が溶融される。プレス成形工程（Ｓ１１）において、溶融したガラス素材が下型上に流し込まれた後、上型および下型によってプレス成形される。

【0068】

図１２および図１３を参照して、プレス成形工程（Ｓ１１）を経ることによって、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、および外周端面４を有する円板状のガラス基板１が準備される。表主表面１Ｆと外周端面４との間および裏主表面２Ｆと外周端面４との間には面取り加工が施されてもよい。ガラス基板１は、プレス成形によらずに、カッターなどを使用して所定の厚さを有するガラス板から切り出される、あるいは削り出されることによって準備されてもよい。

【0069】

図１２および図１４を参照して、コアリング工程（Ｓ１２）において、円筒状のダイヤモンドドリルなどを用いて、ガラス基板１の中央に孔５が形成される。孔５に対して、所定の面取り加工が施されてもよい。

【0070】

粗研磨工程（Ｓ１３）において、遊星歯車機構を有する両面ラッピング装置などのラップ定盤を使用して、ガラス基板１の各主表面１Ｆ，２Ｆが大まかに研磨される。ガラス基板１のおおよその平行度、平坦度、反り、および厚みなどが予備調整される。粗研磨工程（Ｓ１３）においてガラス基板１の各主表面１Ｆ，２Ｆに形成された微細なキズまたは突起物なども除去される。研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒などの遊離砥粒が用いられるが、それに限るものではなく、たとえばダイヤモンド砥粒が研磨パッドに埋め込まれた固定砥粒を用いることで研磨することもできる。また、効率よく所望のガラス基板形状を得るためには粗研磨工程を２段階あるいはそれ以上にわけて段階的に行うことも有効である。

【0071】

第１精密研磨工程（Ｓ１４）において、ガラス基板１の表面が精密に研磨される。ガラス基板１の各主表面１Ｆ，２Ｆに残留したキズを除去しつつ、ガラス基板１の反りが矯正される。第１精密研磨工程（Ｓ１４）においても、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置などが使用される。研磨剤としては、コロイダルシリカなどが使用される。ガラス基板１の研磨後に、ガラス基板１は洗浄される。

【0072】

化学強化層形成工程（Ｓ１５）において、ガラス基板１は、約３００℃に加熱された化学強化処理液に約３０分間浸漬される。化学強化処理液としては、たとえば、硝酸カリウム（含有率７０％）と硝酸ナトリウム（含有率３０％）との混合溶液が使用される。ガラス基板１に含まれるナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンは、これらのイオンに比べてイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換される（イオン交換法）。

【0073】

図１５に示すように、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４に化学強化層６がそれぞれ形成される。イオン半径の違いによって生じる歪みより、化学強化層６（イオン交換された領域）には圧縮応力が発生する。圧縮応力の発生によって、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、内周端面３、および外周端面４が強化される。

【0074】

図１２および図１６を参照して、化学強化層研磨工程（Ｓ１６）において、回転駆動装置５１、鉛直方向に延びる回転軸５２、容器５３、および流体５４が準備される。ガラス基板１は、回転軸５２に保持された状態で、容器５３に貯留された流体５４内に浸漬される。

【0075】

図１７に示すように、流体５４は、研磨粒子５５を含む。研磨粒子としては酸化セリウム、酸化ジルコニウムなど一般にガラス研磨に用いるものであればよいが、特に酸化セリウムを用いれば化学作用による研磨と物理作用による研磨との相乗効果により、高い研磨効果を得ることができる。ガラス基板１が流体５４内に浸漬された状態において、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒは回転軸５２によって覆われている。被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６と流体５４とは相互に接触していない。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓおよび外周端面４に形成された化学強化層６と流体５４とは相互に接触している。この状態で、回転駆動装置５１は、矢印ＡＲ２方向に沿って回転軸５２およびガラス基板１を回転させる。

【0076】

流体５４内でガラス基板１が回転することによって、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓおよび外周端面４に形成された化学強化層６と流体５４（研磨粒子５５）とは矢印ＡＲ２方向に相対移動する。ガラス基板１を高速で回転させ、矢印ＡＲ２方向に沿って化学強化層６と研磨粒子５５とを高速で相対移動させることにより、化学強化層６と研磨粒子５５とが相互に接触し衝突して研磨作用が発生する。

【0077】

図１８に示すように、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓおよび外周端面４に形成された化学強化層６が徐々に削り取られる。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６が所定の厚さに到達するまで研磨されたあと、ガラス基板１は容器５３から取り出される。

【0078】

図１２を再び参照して、第２精密研磨工程（Ｓ１７）において、容器５３から取り出されたガラス基板１の表面が精密に研磨される。第２精密研磨工程（Ｓ１７）は、上述の第１精密研磨工程（Ｓ１４）と同様に行なわれる。洗浄工程（Ｓ１８）において、ガラス基板１が洗浄される。以上のようにして、情報記録媒体１０用の基板として適用可能なガラス基板１が得られる。第２精密研磨工程（Ｓ１７）によって、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒの微小クラック除去と磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓの微小クラック除去とが行われるが、特に磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓの平滑性を得るためには、図１８で示した工程を完了した段階における被クランプ領域１Ｒと磁気記録層形成領域１Ｓとの残存化学強化層６の厚さの差異、および同様に被クランプ領域２Ｒと磁気記録層形成領域２Ｓとの残存化学強化層６の厚さの差異は、ともに５ミクロン以下であることが望ましい。

【0079】

図１２および図１９を参照して、磁気記録層形成工程（Ｓ１９）において、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに磁気記録層１Ｋ，２Ｋがそれぞれ形成される。磁気記録層１Ｋ，２Ｋは、Ｃｒ合金からなる密着層、ＣｏＦｅＺｒ合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる配向制御下地層、ＣｏＣｒＰｔ合金からなる垂直磁気記録層、Ｃ系からなる保護層、およびＦ系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。

【0080】

図１２を参照して、冷却工程（Ｓ２０）において、磁気記録層１Ｋ，２Ｋが形成されたガラス基板１が冷却される。以上のようにして、図１９に示す情報記録媒体１０を得ることができる。情報記録媒体１０は、情報記録装置１００（図５参照）に組み込まれることができる。

【0081】

［実施の形態４の変形例］
（ガラス基板１Ａの製造方法）
上述の実施の形態４においては、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６が所定の厚さに到達するまで研磨されたあと、ガラス基板１は容器５３から取り出される。

【0082】

図２０を参照して、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６が完全に除去されるまで研磨されたあと、ガラス基板１Ａが容器５３から取り出されてもよい。当該方法によって、上述の実施の形態１の変形例におけるガラス基板１Ａ（図７参照）、情報記録媒体１０Ａ（図８参照）、および情報記録装置１００Ａ（図８参照）を得ることができる。

【0083】

［実施の形態５］
（ガラス基板１Ｂの製造方法）
図２１〜図２５を参照して、本実施の形態について説明する。ここでは、上述の実施の形態２におけるガラス基板１Ｂ（図９参照）の製造方法、および情報記録媒体１０Ｂの製造方法について説明する。

【0084】

図２１を参照して、上述の実施の形態４と同様に、ガラス溶融工程（Ｓ１０Ａ）およびプレス成形工程（Ｓ１１Ａ）を経て、表主表面１Ｆ、裏主表面２Ｆ、および外周端面４を有する円板状のガラス基板１Ｂが準備される。ガラス基板１Ｂは、所定の厚さを有するガラス板から削り出されることによって準備されてもよい。

【0085】

図２２を参照して、コアリング工程（Ｓ１２Ａ）において、ガラス基板１Ｂの中央に孔５が形成される。本実施の形態においては、孔５の周りに、平面視円環状の凹部５Ｇも併せて形成される。本実施の形態における凹部５Ｇは、孔５に繋がっている（連通している）。

【0086】

凹部５Ｇは、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒ内に含まれるように形成される。当該形成によって、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに対して、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒは凹設されることとなる。その後、上述の実施の形態４と同様に、ガラス基板１Ｂに対して、粗研磨工程（Ｓ１３Ａ）および第１精密研磨工程（Ｓ１４Ａ）を行なう。

【0087】

図２３を参照して、上述の実施の形態４と同様に、ガラス基板１Ｂに対して化学強化層形成工程（Ｓ１５Ａ）を行なう。ガラス基板１Ｂの表主表面１Ｆ（凹部５Ｇを含む）、裏主表面２Ｆ（凹部５Ｇを含む）、内周端面３、および外周端面４に、均一な厚さを有する化学強化層６がそれぞれ形成される。

【0088】

図２４を参照して、化学強化層研磨工程（Ｓ１６Ａ）において、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６の厚さが徐々に薄くなるように、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに対して平行な方向に沿って化学強化層６が研磨される。化学強化層６は、たとえば遊星歯車機構を備えた両面研磨装置を用いて所定の厚さに到達するまで研磨される。

【0089】

磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに対して平行な方向に沿って化学強化層６が研磨されるため、しばらくの間は、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６のみが優先的に削り取られる。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６に比べて、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６はガラス基板１Ｂの厚さ方向の内側に位置する。したがって、しばらくの間は、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６は削り取られない。

【0090】

図２５を参照して、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６の厚さが所定の値となった後、上述の実施の形態４と同様に、ガラス基板１Ｂに対して、第２精密研磨工程（Ｓ１７Ａ）、および洗浄工程（Ｓ１８Ａ）が行なわれる。その後、磁気記録層形成工程（Ｓ１９Ａ）において、上述の実施の形態４と同様に、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに磁気記録層１Ｋ，２Ｋがそれぞれ形成される。

【0091】

冷却工程（Ｓ２０Ａ）において、磁気記録層１Ｋ，２Ｋが形成されたガラス基板１Ｂは、上述の実施の形態４と同様に冷却される。以上のようにして、図２５に示す情報記録媒体１０Ｂを得ることができる。情報記録媒体１０Ｂは、上述の実施の形態４と同様にして、情報記録装置に組み込まれることができる。

【0092】

［実施の形態５の第１変形例］
（ガラス基板１Ｂ１の製造方法）
上述の実施の形態５におけるコアリング工程（Ｓ１２Ａ）では、凹部５Ｇが、孔５に繋がるように形成される（図２２参照）。図２６を参照して、凹部５Ｇは、孔５の周りに孔５と間隔を空けて平面視円環状に形成されてもよい。

【0093】

当該構成によっても、均一な厚さを有する化学強化層６が磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに対して平行な方向に沿って研磨されることで、しばらくの間は、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６のみが削り取られる。磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６に比べて、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６はガラス基板１Ｂ１の厚さ方向の内側に位置する。しばらくの間は、被クランプ領域１Ｒ，２Ｒに形成された化学強化層６は削り取られない。

【0094】

図２７を参照して、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに形成された化学強化層６の厚さが所定の値となった後、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓに磁気記録層１Ｋ，２Ｋがそれぞれ形成される。冷却工程等を経ることによって、情報記録媒体１０Ｂ１が得られる。ガラス基板１Ｂ１の製造方法および情報記録媒体１０Ｂ１の製造方法においては、上述の実施の形態５に比べて凹部５Ｇを削り取る量が少ないため、製造時間の短縮化を図ることができる。

【0095】

［実施の形態５の第２変形例］
（ガラス基板１Ｃの製造方法）
上述の実施の形態５においては、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６が所定の厚さに到達するまで研磨される。

【0096】

図２８に示すように、磁気記録層形成領域１Ｓ，２Ｓにおける化学強化層６は完全に除去されるまで研磨されてもよい。当該方法によって、上述の実施の形態２の変形例におけるガラス基板１Ｃ（図１０参照）、情報記録媒体１０Ｃ（図２９参照）、およびこれらを備えた情報記録装置（図示せず）を得ることができる。

【0097】

［実施の形態５の第３変形例］
上述の実施の形態５においては、コアリング工程（Ｓ１２Ａ）において、孔５の周りに、平面視円環状の凹部５Ｇが形成される（図２２参照）。

【0098】

図３０を参照して、上型６１および下型６２を用いて溶融ガラス６５をプレス成形する際に、凹部５Ｇ（図２２参照）が予め形成されてもよい。上型６１は、凹部５Ｇに対応する位置に凸部６３を有する。下型６２は、凹部５Ｇに対応する位置に凸部６４を有する。

【0099】

図３１を参照して、下型６２上に形成された溶融ガラス６５は、上型６１および下型６２によってプレス成形される。溶融ガラス６５が固化してガラス基板となった際には、凸部６３，６４によって凹部５Ｇが形成される。

【0100】

以上、本発明に基づいた各実施の形態について説明したが、今回開示された各実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

【符号の説明】

【0101】

１，１Ａ，１Ａ〜１Ｄ，１Ｂ１，１Ｄ，１Ｙ，１Ｚ ガラス基板、１Ｆ 表主表面（第１主表面）、１Ｋ 磁気記録層（第１磁気記録層）、１Ｒ 被クランプ領域（第１被クランプ領域）、１Ｓ 磁気記録層形成領域（第１磁気記録層形成領域）、２Ｆ 裏主表面（第２主表面）、２Ｋ 磁気記録層（第２磁気記録層）、２Ｒ 被クランプ領域（第２被クランプ領域）、２Ｓ 磁気記録層形成領域（第２磁気記録層形成領域）、３ 内周端面、４ 外周端面、５ 孔、５Ｇ 凹部、６ 化学強化層、１０，１０Ａ〜１０Ｄ，１０Ｂ１ 情報記録媒体、２０ 筐体、２１ スピンドルモータ、２２ 下部クランプ部材、２２Ｎ，２４Ｎ 表面、２３ ハブ、２４ 上部クランプ部材、２４Ｂ 円板状部分、２４Ｍ 環状部分、２５ 固定ネジ、２６ ヘッドスライダ、２７ サスペンション、２８ アーム、２９ 垂直軸、３０ ボイスコイル、３１ ボイスコイルモータ、５１ 回転駆動装置、５２ 回転軸、５３ 容器、５４ 流体、５５ 研磨粒子、６１ 上型、６２ 下型、６３，６４ 凸部、６５ 溶融ガラス、７０ 含有率、１００，１００Ａ，１００Ｄ 情報記録装置、ＡＲ１，ＡＲ２ 矢印、Ｔ１，Ｔ１Ｒ，Ｔ１Ｓ，Ｔ２，Ｔ２Ｒ，Ｔ２Ｓ 厚さ。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】

【図31】

【図32】

【図33】