特許 5716968 物品保管設備

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5716968

(24)【登録日】2015年3月27日

(45)【発行日】2015年5月13日

(54)【発明の名称】物品保管設備

(51)【国際特許分類】

   B65G 1/00 20060101AFI20150423BHJP

   H01L 21/673 20060101ALI20150423BHJP

【ＦＩ】

   B65G1/00 521D

   H01L21/68 T

【請求項の数】8

【全頁数】22

(21)【出願番号】特願2012-205(P2012-205)

(22)【出願日】2012年1月4日

(65)【公開番号】特開2013-139319(P2013-139319A)

(43)【公開日】2013年7月18日

【審査請求日】2013年11月7日

(73)【特許権者】

【識別番号】000003643

【氏名又は名称】株式会社ダイフク

(74)【代理人】

【識別番号】100107308

【弁理士】

【氏名又は名称】北村 修一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100120352

【弁理士】

【氏名又は名称】三宅 一郎

(74)【代理人】

【識別番号】100149331

【弁理士】

【氏名又は名称】木村 昌人

(72)【発明者】

【氏名】高原 正裕

(72)【発明者】

【氏名】上田 俊人

【審査官】 大谷 光司

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−１８２７４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０１６１９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１１９４８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１００８０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−１８３５１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−３３８９７１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ６５Ｇ １／００− １／２０

Ｈ０１Ｌ ２１／６７−２１／６８３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を密閉状態で収容する搬送容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部に対して前記搬送容器を搬送自在な搬送装置とが設けられ、
前記複数の収納部の夫々について、不活性気体を吐出する吐出口と、前記吐出口から吐出する前記不活性気体の流量を調節自在な流量調節装置とを備えて前記収納部に収納された前記搬送容器の内部に前記不活性気体を供給自在な不活性気体供給部が設けられ、
前記搬送装置と前記流量調節装置との作動を制御する制御手段が設けられた物品保管設備であって、
複数の前記不活性気体供給部のうちの一部又は全部を特定供給部として選択自在な特定供給部選択手段が設けられ、
前記制御手段が、前記搬送容器が収納された前記収納部における前記不活性気体供給部にて、前記搬送容器に対して所定の供給形態で前記不活性気体を供給する容器保管モードにて前記流量調節装置を作動させるように構成され、
前記収納部に前記搬送容器が収納される前に、当該収納部における前記不活性気体の供給が停止している前記吐出口に、吐出口浄化用の目標流量により吐出口浄化用の設定時間継続して前記不活性気体を供給するように前記流量調節装置を作動させ、当該収納部に前記搬送容器が収納されている間は、前記容器保管モードにて前記流量調節装置を作動させるように構成され、且つ、
前記特定供給部選択手段によって選択された前記特定供給部にて、前記吐出口から特定供給部用供給形態で前記不活性気体を供給する特定供給部用供給モードにて前記流量調節装置の作動を制御するように構成された物品保管設備。

【請求項2】

前記特定供給部選択手段が、前記不活性気体を通流させて前記不活性気体供給部を清掃する清掃用供給形態とすべく不活性気体を供給する清掃指令を人為操作で指令する清掃指令手段である請求項１記載の物品保管設備。

【請求項3】

前記制御手段が、前記搬送容器が収納された収納部における前記不活性気体供給部に対して供給する前記不活性気体の目標流量を第１目標流量値とすべく前記流量調節装置を作動させる第１供給状態と、前記目標流量を前記第１目標流量値より小さな第２目標流量値とすべく前記流量調節装置を作動させる第２供給状態とを、前記搬送容器が前記収納部に収納された時点を始点に前記第１供給状態とし、その後、前記第１目標流量値より小さな第２目標流量値とすべく前記流量調節装置を作動させる第２供給状態に切換える節約供給パターンにて前記不活性気体を供給するように前記流量調節装置の作動を制御する請求項１記載の物品保管設備。

【請求項4】

前記制御手段が、複数種の前記節約供給パターンを記憶自在に構成され、
前記搬送容器の収納状態において、前記複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを選択自在なパターン選択手段が設けられ、
前記制御手段が、前記複数種の節約供給パターンのうち前記パターン選択手段にて選択された節約供給パターンで前記搬送容器内に前記不活性気体を供給すべく前記流量調節装置の作動を制御する請求項３記載の物品保管設備。

【請求項5】

前記パターン選択手段が、前記複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを人為的に選択自在に構成されている請求項４記載の物品保管設備。

【請求項6】

前記節約供給パターンを特定するパターン特定パラメータとして、前記不活性気体供給部から前記不活性気体を前記搬送容器に供給する供給時間と、前記不活性気体供給部から前記不活性気体を前記搬送容器に供給する供給流量とが変更設定自在であり、前記パターン特定パラメータを人為的に設定入力自在な設定入力手段が設けられている請求項４記載の物品保管設備。

【請求項7】

前記複数の収納部のうち一群の収納部についての前記不活性気体供給部を対象として前記不活性気体を供給する供給源が設けられ、
前記供給源から前記一群の不活性気体供給部に対して供給可能な最大許容流量が設定され、
前記制御手段が、前記一群の不活性気体供給部に供給する前記不活性気体の前記目標流量の合計が前記最大許容流量以上になる場合には、前記一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される前記不活性気体の前記目標流量を低減させるべく流量抑制処理を実行するように構成されている請求項３〜６のいずれか１項記載の物品保管設備。

【請求項8】

前記制御手段が、前記流量抑制処理において、前記一群の不活性気体供給部の全てについての前記目標流量を一定の低減率で低減させるように構成されている請求項７記載の物品保管設備。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を密閉状態で収容する搬送容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部に対して前記搬送容器を搬送自在な搬送装置とが設けられ、前記複数の収納部の夫々について、不活性気体を吐出する吐出口と、前記吐出口から吐出する前記不活性気体の流量を調節自在な流量調節装置とを備えて前記収納部に収納された前記搬送容器の内部に前記不活性気体を供給自在な不活性気体供給部が設けられ、前記搬送装置と前記流量調節装置との作動を制御する制御手段が設けられた物品保管設備に関する。

【背景技術】

【0002】

かかる物品保管設備の従来例として、半導体ウェハーを収容するＦＯＵＰ等の搬送容器を収納自在な複数の収納部を備えた保管棚が設けられ、収納部の夫々に、例えば窒素ガスやアルゴンガス等の不活性気体を搬送容器の内部に供給自在な不活性気体供給部としての供給ノズルが備えられたパージ機能付きの物品保管棚を備えたものが知られている。

【0003】

このような物品保管棚の一例として、例えば、搬送容器が収納部に収納されている場合と収納されていない場合とで、供給ノズルから吐出する不活性気体の流量を変更自在に構成されたものがある（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

上記特許文献１では、搬送容器が収納部に収納されていない場合の不活性気体の流量を搬送容器が収納部に収納されている場合の流量よりも小さくするように構成されている。すなわち、搬送容器が収納部に収納されている場合における不活性気体の流量が、搬送容器内に十分な不活性気体を供給するために必要な流量（第１流量と称する）として設定され、搬送容器が収納部に収納されていない場合における吐出流量が、上記供給ノズルに不純物粒子が蓄積することを防止すべく、上記第１流量よりも小さい値に設定された流量（第２流量と称する）に設定されている。これにより、搬送容器が収納部に収納されていない場合においても供給ノズルから第１流量の不活性気体を吐出する場合に較べて、パージに要する不活性気体のコストを低減することができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１０−１６１９９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、上記特許文献１の場合においては、物品保管棚の全ての収納部に対して、収納部に搬送容器が収納されているときの不活性気体の供給流量と収納部に搬送容器が収納されていないときの不活性気体の供給流量とを切換えるという１つの供給形態（通常供給形態と称する）を備えるのみであり、複数の収納部のうちの一部の収納部について、上記通常供給形態以外の供給形態で不活性気体を供給することはできなかった。
なお、上記通常供給形態以外の供給形態を必要とする場合として、例えば、不活性気体を供給する不活性気体供給部としての供給ノズル等を交換した後にその不活性気体供給部に付着した不純物粒子を除去すべく不活性気体の供給を行う場合が考えられる。この場合、収納部に搬送容器が収納されていないときの不活性気体の供給形態では流量が小さいため十分な清掃ができないか、またはできたとしても、不純物粒子を十分に除去するまでに長い時間を要する虞がある。

【0007】

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、複数の不活性気体供給部のうちの選択された不活性気体供給部における不活性気体の供給形態を変更できる物品保管設備を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するための本発明に係る物品保管設備の第１特徴構成は、基板を密閉状態で収容する搬送容器を収納自在な複数の収納部と、前記複数の収納部に対して前記搬送容器を搬送自在な搬送装置とが設けられ、前記複数の収納部の夫々について、不活性気体を吐出する吐出口と、前記吐出口から吐出する前記不活性気体の流量を調節自在な流量調節装置とを備えて前記収納部に収納された前記搬送容器の内部に前記不活性気体を供給自在な不活性気体供給部が設けられ、前記搬送装置と前記流量調節装置との作動を制御する制御手段が設けられたものであって、
複数の前記不活性気体供給部のうちの一部又は全部を特定供給部として選択自在な特定供給部選択手段が設けられ、前記制御手段が、前記搬送容器が収納された前記収納部における前記不活性気体供給部にて、前記搬送容器に対して所定の供給形態で前記不活性気体を供給する容器保管モードにて前記流量調節装置を作動させるように構成され、前記収納部に前記搬送容器が収納される前に、当該収納部における前記不活性気体の供給が停止している前記吐出口に、吐出口浄化用の目標流量により吐出口浄化用の設定時間継続して前記不活性気体を供給するように前記流量調節装置を作動させ、当該収納部に前記搬送容器が収納されている間は、前記容器保管モードにて前記流量調節装置を作動させるように構成され、且つ、前記特定供給部選択手段によって選択された前記特定供給部にて、前記吐出口から特定供給部用供給形態で前記不活性気体を供給する特定供給部用供給モードにて前記流量調節装置の作動を制御するように構成されている点にある。

【0009】

すなわち、複数の不活性気体供給部のうちの一部又は全部を特定供給部として、その特定供給部にて、吐出口から特定供給部用供給形態で不活性気体を供給することができるから、複数の不活性気体供給部のうち、特定供給部においては容器保管モードとは別の供給形態に変更して、複数の不活性気体供給部のうちの特定供給部に対して適切な供給形態で不活性気体を供給することができる。

【0010】

説明を加えると、例えば、前述した従来の構成のように、搬送容器に対して容器保管モードで不活性気体供給部を作動させて不活性気体を供給することしかできないものである場合、ある不活性気体供給部にて必要とされる不活性気体の流量が容器保管モードにおける流量よりも大きい場合には、必要な流量の不活性気体を供給できないこととなる。

【0011】

これに対して、第１特徴構成によれば、特定供給部に対して特定供給部用供給形態で不活性気体を供給することができるので、特定供給部用供給形態として特定供給部にて必要とされる不活性気体の供給形態を設定しておけば、上記のように特定供給部において必要な流量の不活性気体を供給できない状況の発生を抑制することができる。

【0012】

すなわち、第１特徴構成によれば、複数の不活性気体供給部のうちの選択された不活性気体供給部における不活性気体の供給形態を変更できる物品保管設備を提供することができる。

【0013】

本発明に係る物品保管設備の第２特徴構成は、上記第１特徴構成に加えて、前記特定供給部選択手段が、前記不活性気体を通流させて前記不活性気体供給部を清掃する清掃用供給形態とすべく不活性気体を供給する清掃指令を人為操作で指令する清掃指令手段である点にある。

【0014】

すなわち、清掃指令手段により指令されたときには、選択された特定供給部を清掃対象の不活性気体供給部として、当該特定供給部に対して不活性気体供給部に付着した除去対象物を適切に清掃する流量の不活性気体を供給することができるから、適切に不活性気体供給部を清掃することができるものとなる。

【0015】

本発明に係る物品保管設備の第３特徴構成は、上記第１特徴構成に加えて、前記制御手段が、前記搬送容器が前記収納部に収納された時点を始点に第１供給状態とし、その後、第２供給状態に切換える節約供給パターンにて不活性気体を供給するように前記流量調節装置の作動を制御する点にある。

【0016】

すなわち、搬送容器が前記収納部に収納された時点を始点に第１供給状態とすることにより、搬送容器を収納部に収納した初期段階において、搬送容器内に存在する不活性気体以外の気体を迅速に不活性気体に置換し、その後、第２供給状態に切換えることによって、高価な不活性気体（例えば窒素ガス等）の使用量を低減することができる。
このように、第３特徴構成によれば、不活性気体の使用量を抑制しつつ、基板が汚損するリスクが低い状態を適切に維持することができる。

【0017】

本発明に係る物品保管設備の第４特徴構成は、上記第３特徴構成に加えて、前記制御手段が、複数種の前記節約供給パターンを記憶自在に構成され、前記搬送容器の収納状態において、前記複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを選択自在なパターン選択手段が設けられ、前記制御手段が、前記複数種の節約供給パターンのうち前記パターン選択手段にて選択された節約供給パターンで前記搬送容器内に前記不活性気体を供給すべく前記流量調節装置の作動を制御する点にある。

【0018】

すなわち、複数種の節約供給パターンを予め記憶しておくものであるから、不活性気体の供給パターンとして単一のパターンのみを備える場合に較べて、収納部に収納された搬送容器の種別や収納される基板の状態に応じて適切なパターンで不活性気体を供給することができるものになる。
なお、上記の如く複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを選択する構成として、制御手段によって自動的に選択する構成と、人為手段によって選択する構成とが考えられる。

【0019】

制御手段によって自動的に選択する場合として、例えば搬送容器の種別や収容している基板の状態によって、上記複数の節約供給パターンのうち適切な節約供給パターンに選択的に変更することが考えられる。また、人為手段によって選択する場合には、複数の節約供給パターンのうち、搬送容器内の環境を汚損リスクの低い内部環境とするために適切な節約供給パターンに設定するために、試験的に節約供給パターンを変更することが考えられる。
このように、第４特徴構成によれば、上記第３特徴構成による作用効果に加えて、複数種の節約供給パターンを選択して切換えることができるため、不活性気体の使用量を極力抑制しつつ、搬送容器の内部に収容されている基板にとって有利な節約供給パターンで不活性気体を供給することが可能になり、搬送容器内に収容した基板を、極力劣化しない状態で保管可能な物品保管設備を提供することができる。

【0020】

本発明に係る物品保管設備の第５特徴構成は、上記第４特徴構成に加えて、前記パターン選択手段が、前記複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを人為的に選択自在に構成されている点にある。

【0021】

すなわち、複数種の節約供給パターンのうちいずれを使用するかを人為的に選択することができるので、上述のように、作業者が必要なタイミングで節約供給パターンを変更することが可能になり、節約供給パターンと基板の汚損との関係を調べる等の試験が行い易いものとなって、搬送容器内に収容した基板を、極力劣化しない状態で保管可能な物品保管設備を提供することができる。

【0022】

本発明に係る物品保管設備の第６特徴構成は、上記第４特徴構成に加えて、前記節約供給パターンを特定するパターン特定パラメータとして、前記不活性気体供給部から前記不活性気体を前記搬送容器に供給する供給時間と、前記不活性気体供給部から前記不活性気体を前記搬送容器に供給する供給流量とが変更設定自在であり、前記パターン特定パラメータを人為的に設定入力自在な設定入力手段が設けられている点にある。

【0023】

すなわち、不活性気体供給部から不活性気体を搬送容器に供給する供給時間と供給流量とを変更設定することができるから、複数種の節約供給パターンについて供給流量と供給時間とを変更したい場合にはそれらのパラメータを変更設定することによって、単に複数種の節約供給パターンのうちから目的の節約供給パターンを選択するよりも適切に節約供給パターンを設定することができる。

【0024】

本発明に係る物品保管設備の第７特徴構成は、上記第３〜第６特徴構成のいずれかに加えて、前記複数の収納部のうち一群の収納部についての前記不活性気体供給部を対象として前記不活性気体を供給する供給源が設けられ、前記供給源から前記一群の不活性気体供給部に対して供給可能な最大許容流量が設定され、前記制御手段が、前記一群の不活性気体供給部に供給する前記不活性気体の前記目標流量の合計が前記最大許容流量以上になる場合には、前記一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される前記不活性気体の前記目標流量を低減させるべく流量抑制処理を実行するように構成されている点にある。

【0025】

すなわち、例えば一群の不活性気体供給部に属する不活性気体供給部の夫々について設定されている目標流量の合計が、供給源から一群の不活性気体供給部に対して供給可能な最大許容流量以上になる場合には、実際に一群の不活性気体供給部の夫々が供給可能な不活性気体の流量は設定された目標流量より低い状態となる虞がある。
また、例えば、供給源から不活性気体供給部に至るまでの配管抵抗が大きい不活性気体供給部と小さい不活性気体供給部とが存在する場合、供給源から供給される不活性気体は供給源から不活性気体供給部に至るまでの配管抵抗が小さい不活性気体供給部に優先的に通流し、配管抵抗が大きい不活性気体供給部の流量が目標流量に対して不足する虞がある。
第７特徴構成によれば、上記のような場合において、一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される不活性気体の目標流量を低減させるように流量調節装置に従前の目標流量よりも小さい新たな目標流量を指令することになる。これにより、不活性気体供給部の一部又は全部から吐出される不活性気体の吐出流量を低減させるから、各不活性気体供給部からの不活性気体の吐出流量が吐出流量調節装置に対して制御手段が指令している目標流量を下回る事態を防止できる。

【0026】

なお、流量調節装置は、制御手段により指令された目標流量の不活性気体を供給すべく制御されるように構成されており、実際に供給する流量が目標流量よりも低い状態が設定時間継続した状態（流量不足状態と称する）に陥ったときにエラーを出力する機能を備えたものがあるが、流量不足状態に陥るまでに制御手段が一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される不活性気体の目標流量を低減させるように流量調節装置に指令することによって、エラーの発生を抑制して設備を正常に運転することができる。

【0027】

つまり、上記のような流量調節装置では、装置事態に障害が生じていなくても、供給源の供給能力を超える流量が要求されたことに起因する流量不足状態によってエラーを発生する虞があるが、第７特徴構成によれば、一群の不活性気体供給部について節約供給パターンにて供給する不活性気体の目標流量の合計が供給源から一群の不活性気体供給部に対して供給可能な最大許容流量以下となるように構成することによって、流量調節装置が不要なエラーを出力することを防止し、装置の運転が円滑に行える物品保管設備を提供することができる。

【0028】

また、上記の構成に代えて、一群の不活性気体供給部について節約供給パターンにて供給する不活性気体の目標流量の合計が、供給源から一群の不活性気体供給部に対して供給可能な最大許容流量以上になってエラーが出力された場合に、そのエラーをリセットすると共に制御手段が一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される不活性気体の目標流量を低減させるように流量調節装置に指令するように構成してもよい。

【0029】

なお、複数種の節約供給パターンを選択して切換えたり、またはそのパターン特定パラメータを変更設定した場合、一群の不活性気体供給部に属する不活性気体供給部の夫々について設定されている目標流量の合計が切換え又は変更前よりも大となるように変更設定される可能性がある。このようなときにおいては、切換え又は変更前には目標流量の合計が最大許容流量以下に収まっていたにしても、切換え又は変更後には目標流量の合計が最大許容流量以上となる虞がある。このような場合、第７特徴構成の如く一群の不活性気体供給部の一部又は全部から供給される不活性気体の目標流量を低減させる構成は特に有効である。

【0030】

このように、第７特徴構成によれば、単一の供給源から不活性気体を供給される複数の不活性気体供給部が設定された吐出パターンにて吐出する不活性気体の吐出量の総和が最大許容流量以上になる場合には、不活性気体供給部の一部又は全部から吐出される不活性気体の吐出流量を低減させるから、各不活性気体供給部からの不活性気体の吐出流量が吐出流量調節装置に対して制御手段が指令している目標流量を下回る事態を防止して、設備の円滑な運転が行える。

【0031】

本発明に係る物品保管設備の第８特徴構成は、上記第７特徴構成に加えて、前記制御手段が、前記流量抑制処理において、前記一群の不活性気体供給部の全てについての前記目標流量を一定の低減率で低減させるように構成されている点にある。

【0032】

すなわち、流量抑制処理において、一群の不活性気体供給部の全てについての目標流量を一定の低減率で低減させるものであるから、不活性気体供給部における不活性気体の供給状態を考慮することなく、簡易な構成で各不活性気体供給部からの不活性気体の吐出流量が吐出流量調節装置に対して制御手段が指令している目標流量を下回る事態を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【0033】

【図1】物品保管設備の縦断側面図

【図2】同設備の一部を示す縦断正面図

【図3】収納部の斜視図

【図4】収納部と搬送容器との関係を示す概略構成図

【図5】複数の収納部への不活性気体の供給形態を表す図

【図6】制御手段の接続構成図

【図7】不活性気体の供給量の制御形態を示す説明図

【図8】パージパターン設定処理を表すフローチャート

【図9】設備の運転処理を表すフローチャート

【発明を実施するための形態】

【0034】

本発明をパージ機能付きの物品保管設備に適用した場合の実施形態を図面に基づいて説明する。
（全体構成）
物品保管設備は、図１及び図２に示すように、基板を密閉状態で収容する搬送容器５０（以下、容器５０と略称する）を保管する保管棚１０、搬送手段としてのスタッカークレーン２０、及び、容器５０の入出庫部としての入出庫コンベヤＣＶを備えている。
保管棚１０及びスタッカークレーン２０が、壁体Ｋにて外周部が覆われた設置空間内に配設され、入出庫コンベヤＣＶが、壁体Ｋを貫通する状態で配設されている。

【0035】

保管棚１０は、容器５０を支持する支持部としての収納部１０Ｓを、上下方向及び左右方向に並べる状態で複数備えて、複数の収納部１０Ｓの夫々に、容器５０を収納するように構成されており、その詳細は後述する。

【0036】

そして、本実施形態においては、図１に示すように、物品保管設備が設置されたクリーンルームの天井部に敷設のガイドレールＧに沿って走行するホイスト式の搬送車Ｄが装備されて、このホイスト式の搬送車Ｄによって、入出庫コンベヤＣＶに対して容器５０が搬入及び搬出されるように構成されている。

【0037】

（容器５０の構成）
容器５０は、ＳＥＭＩ（Semiconductor Equipment and Materials Institute）規格に準拠した合成樹脂製の気密容器であり、基板としての半導体ウェハーＷ（図４参照）を収納するために用いられ、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）と呼称されている。そして、詳細な説明は省略するが、容器５０の前面には、着脱自在な蓋体にて開閉される基板出入用の開口が形成され、容器５０の上面には、ホイスト式の搬送車Ｄにより把持されるトップフランジ５２が形成され、そして、容器５０の底面には、位置決めピン１０ｂ（図３参照）が係合する３つの係合溝（図示せず）が形成されている。

【0038】

すなわち、容器５０は、図４に示すように、内部に上下方向に複数の半導体ウェハーＷを載置自在な基板支持体５３を備えたケーシング５１と、図示しない蓋体とから構成されて、ケーシング５１に蓋体を装着した状態においては、内部空間が気密状態に密閉されるように構成され、そして、収納部１０Ｓに収納された状態においては、位置決めピン１０ｂによって位置決めされるように構成されている。

【0039】

また、図４に示すように、容器５０の底部には、後述の如く、不活性気体としての窒素ガスを注入するために、給気口５０ｉ、及び、排気口５０ｏが設けられ、そして、図示は省略するが、給気口５０ｉには、注入側開閉弁が設けられ、また、排気口５０ｏには、排出側開閉弁が設けられている。

【0040】

注入側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、給気口５０ｉに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作されるように構成されている。
また、排出側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、容器５０内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となったときに開き操作されるように構成されている。

【0041】

（スタッカークレーン２０の構成）
スタッカークレーン２０は、保管棚１０の前面側の床部に設けられた走行レールＥに沿って走行移動自在な走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２に案内される状態で昇降移動自在な昇降台２４とを備えている。
尚、図示はしないが、マスト２２の上端に設けられた上部枠２３が、壁体Ｋにて外周部が覆われた設置空間の天井側に設けた上部ガイドレールに係合して移動するように構成されている。

【0042】

昇降台２４には、収納部１０Ｓに対して容器５０を移載する移載装置２５が装備されている。
移載装置２５は、容器５０を載置支持する板状の載置支持体２５Ａを、収納部１０Ｓの内部に突出する突出位置と昇降台２４側に引退した引退位置とに出退自在に備えて、載置支持体２５Ａの出退作動及び昇降台２４の昇降作動により、載置支持体２５Ａに載置した容器５０を収納部１０Ｓに降ろす降し処理、及び、収納部１０Ｓに収納されている容器５０を取出す掬い処理を行うように構成されている。
つまり、容器５０は、搬送車Ｄによって入出庫コンベヤＣＶ上に載置され、当該入出庫コンベヤＣＶによって壁体Ｋの外部から内部に搬送された後、スタッカークレーン２０によって複数の収納部１０Ｓのいずれかに搬送される。
すなわち、搬送装置としてのスタッカークレーン２０が、複数の収納部１０Ｓに対して容器５０を搬送自在に構成されている。

【0043】

スタッカークレーン２０には、図示はしないが、走行経路上の走行位置を検出する走行位置検出手段、及び、昇降台２４の昇降位置を検出する昇降位置検出手段が装備されており、スタッカークレーン２０の作動を制御する制御手段ＨとしてのクレーンコントローラＨ３が、走行位置検出手段及び昇降位置検出手段の検出情報に基づいて、スタッカークレーン２０の作動を制御するように構成されている。

【0044】

すなわち、クレーンコントローラＨ３が、入出庫コンベヤＣＶに搬入された容器５０を収納部１０Ｓに収納する入庫作業、及び、収納部１０Ｓに収納されている容器５０を入出庫コンベヤＣＶに取出す出庫作業を行うように、走行台車２１の走行作動及び昇降台２４の昇降作動、並びに、移載装置２５における載置支持体２５Ａの出退作動を制御するように構成されている。

【0045】

（収納部１０Ｓの構成）
図３及び図４に示すように、複数の収納部１０Ｓの夫々は、容器５０を載置支持する板状の載置支持部１０ａを備えている。
この載置支持部１０ａは、移載装置２５の載置支持体２５Ａが上下に通過する空間を形成すべく、平面視形状がＵ字状となるように形成され、そして、その上面には、上述の位置決めピン１０ｂが起立状態で装備されている。
また、載置支持部１０ａには、容器５０が載置されているか否か（つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されているか否か）を検出する２個の在荷センサ１０ｚが設けられ、それらの検出情報は、後述する流量調節装置としてのマスフローコントローラ４０の運転を管理する制御手段ＨとしてのパージコントローラＨ１（図６参照）に入力されるように構成されている。

【0046】

載置支持部１０ａには、不活性気体としての窒素ガスを容器５０の内部に供給する吐出口としての吐出ノズル１０ｉと、容器５０の内部から排出される気体を通流する排出用通気体１０ｏが設けられている。そして、吐出ノズル１０ｉには、マスフローコントローラ４０からの窒素ガスを流動させる供給配管Ｌｉが接続され、排出用通気体１０ｏには、端部が開口された排出管Ｌｏが接続されている。
また、図１及び図２に示すように、平面視において各収納部１０Ｓの奥側、つまり、容器５０が出し入れされる開口に対向する端部側で、かつ、棚左右方向において容器５０の端部近傍となる位置に、窒素ガスの供給を制御するマスフローコントローラ４０が装備されている。

【0047】

マスフローコントローラ４０は、保管棚１０における上下方向に並べて備える収納部１０Ｓの各層について、平面視で重複する位置に設けられている。マスフローコントローラ４０の配設される箇所は、平面視で載置支持部１０ａ及びそれを支持する柱材等の存在しない箇所であり、かつ、容器５０の収納時においても、容器５０の存在しない箇所である。したがって、マスフローコントローラ４０近傍には、保管棚１０の下端から上端に亘って連通し、上下方向に気流が通流可能な空間が形成されることになる。
これにより、マスフローコントローラ４０が発生する熱によって生じる気流は、保管棚１０の下端から上端に至るまで障害物に阻害されることなく流動することになり、マスフローコントローラ４０から放散される熱が滞留することを抑制して、マスフローコントローラ４０の熱暴走等の障害を抑制することができる。
なお、上記した気流が通流可能な空間は、例えば保管棚１０が不活性気体又はクリーンエアのダウンフローにより清浄に保たれる場合においても、そのダウンフローを抵抗の小さい状態で通流させることができるものとなる。この場合においても、マスフローコントローラ４０がダウンフローによって適切に冷却されることになる。

【0048】

つまり、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持されると、吐出ノズル１０ｉが容器５０の給気口５０ｉに嵌合状態に接続され、かつ、排出用通気体１０ｏが容器５０の排気口５０ｏに嵌合状態に接続されるように構成されている。
そして、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持された状態において、吐出ノズル１０ｉから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器５０の排気口５０ｏより容器内の気体を外部に排出させる状態で、容器５０の給気口５０ｉより窒素ガスを容器５０の内部に注入できるように構成されている。

【0049】

本実施形態においては、主にマスフローコントローラ４０、供給配管Ｌｉ、及び吐出ノズル１０ｉより不活性気体供給部Ｆが構成される。
すなわち、複数の収納部１０Ｓの夫々について、不活性気体を吐出する吐出ノズル１０ｉと、その吐出ノズル１０ｉから供給する不活性気体の流量を調節自在なマスフローコントローラ４０とを備えて、収納部１０Ｓに収納された容器５０の内部に不活性気体を供給自在な不活性気体供給部Ｆが設けられている。

【0050】

尚、図３に示すように、供給配管Ｌｉには、手動操作式の開閉弁Ｖｉが装備されており、マスフローコントローラ４０が故障する緊急時等においては、窒素ガスの供給を停止する状態に切り替えることができるように構成されている。

【0051】

（窒素ガスの供給構成）
図５に示すように、保管棚１０における不活性気体供給部Ｆの夫々に窒素ガスを供給するための窒素ガスの供給源として元ガス供給配管Ｌｍが備えられ、その元ガス供給配管Ｌｍから２分岐する状態で第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２が備えられている。元ガス供給配管Ｌｍには元ガス開閉弁Ｖ１が設けられ、保管棚１０単位で窒素ガスの供給及び供給停止を切換えることができる。

【0052】

第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２の夫々は、さらに１２本の供給配管Ｌｓに分岐されており、これら供給配管Ｌｓの夫々が、マスフローコントローラ４０の流入側ポート４０ｉに接続される。以下、第１分岐供給配管Ｌｂ１から窒素ガスを供給される一群の不活性気体供給部Ｆをチャネル１（ＣＨ１）と呼称し、第２分岐供給配管Ｌｂ２から窒素ガスを供給される一群の不活性気体供給部Ｆをチャネル２（ＣＨ２）と呼称する。

【0053】

第１分岐供給配管Ｌｂ１には第１電磁開閉弁Ｖ２１が設けられ、第２分岐供給配管Ｌｂ２には第２電磁開閉弁Ｖ２２が設けられている。そして、これら第１電磁開閉弁Ｖ２１及び第２電磁開閉弁Ｖ２２は、後述するＩＯ拡張モジュールＡを介して後述するパージコントローラＨ１に電気的に接続されており、パージコントローラＨ１が第１電磁開閉弁Ｖ２１及び第２電磁開閉弁Ｖ２２の開閉を制御するようになっている。

【0054】

さらに、第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２の夫々は、第１電磁開閉弁Ｖ２１及び第２電磁開閉弁Ｖ２２の下流側でバイパス配管Ｌｂｐにて相互に接続され、バイパス配管Ｌｂｐには手動で開閉操作自在なバイパス弁Ｖｂが設けられている。したがって、バイパス弁Ｖｂを開放すると、ＣＨ１とＣＨ２とは互いに窒素ガスを供給可能に接続されることになる。

【0055】

本実施形態において、チャネルＣＨ１、ＣＨ２の夫々が、複数の収納部のうち一群の収納部についての不活性気体供給部Ｆに相当し、第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２の夫々が、一群の不活性気体供給部Ｆを対象として窒素ガスを供給する供給源に相当する。

【0056】

（マスフローコントローラ４０の構成）
図３及び図４に示すように、マスフローコントローラ４０は、流入側ポート４０ｉと吐出側ポート４０ｏとを備えており、吐出側ポート４０ｏには、上述した供給配管Ｌｉが接続され、流入側ポート４０ｉには、窒素ガスの供給源としての第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２からの窒素ガスを導く供給配管Ｌｓが接続されている。
尚、窒素ガス供給源には、窒素ガスの供給圧力を大気圧よりも設定値以上高い設定圧力に調整するガバナや、窒素ガスの供給を断続する手動操作式の開閉弁等が装備される。

【0057】

マスフローコントローラ４０には、流入側ポート４０ｉから吐出側ポート４０ｏに向かう内部流路を流動する窒素ガスの流量を変更調節する流量調節弁、内部流路を流動する窒素ガスの流量を計測する流量センサ、及び、流量調節弁の作動を制御する内部制御部が装備されている。

【0058】

そして、内部制御部が、流量センサの検出情報に基づいて、容器５０への供給流量を上述したパージコントローラＨ１から指令される目標流量に調整すべく、流量調節弁を制御するように構成されている。すなわち、パージコントローラＨ１が、マスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。

【0059】

（制御手段Ｈの構成）
図６に示すように、制御手段Ｈは、マスフローコントローラ４０を制御するパージコントローラＨ１、保管棚１０における容器５０の在庫状態等を管理するストッカコントローラＨ２、及び、スタッカークレーン２０の作動を制御するクレーンコントローラＨ３を備えて構成されている。パージコントローラＨ１、ストッカコントローラＨ２、及びクレーンコントローラＨ３は、例えば蓄積プログラム方式で情報を処理自在なコンピュータで構成され、相互にＬＡＮ等のネットワークＣ１で接続され、また、プログラマブルロジックコントローラＰ及びＩＯ拡張モジュールＡが、上記制御手段Ｈと通信自在にネットワークＣ１に接続されている。

【0060】

プログラマブルロジックコントローラＰには、制御バスＣ２経由で１２台のマスフローコントローラ４０が接続されている。また、ＩＯ拡張モジュールＡには、上記１２台のマスフローコントローラ４０が備えられている収納部１０Ｓに対応する在荷センサ１０ｚが、夫々信号線Ｃ３で接続されている。
パージコントローラＨ１は、プログラマブルロジックコントローラＰを経由して、複数の収納部１０Ｓの夫々に対応して設置されたマスフローコントローラ４０に対して目標流量を指令することになる。
尚、パージコントローラＨ１には、各種の情報を入力するための操作卓ＨＳが装備されている。

【0061】

パージコントローラＨ１が指令する目標流量としては、容器５０が収納部１０Ｓに収納されている状態において、容器５０の内部に窒素ガスを注入すべく、マスフローコントローラ４０に対して指令される保管用の目標流量、容器５０が収納部１０Ｓに収納される直前において、吐出ノズル１０ｉを清浄化するために指令されるノズル浄化用の目標流量、及び、保管棚１０の設置時等において、吐出ノズル１０ｉや供給配管Ｌｉ等を清浄化するために指令されるクリーニング用の目標流量がある。

【0062】

すなわち、パージコントローラＨ１が、図７に示すように、目標流量と供給時間とを定めた複数のパージパターンとして、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を記憶している。
そして、パージコントローラＨ１が、保管棚１０の設置時等において、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されると、クリーニングパターンＰ２に応じてクリーニング用の清掃用流量としての目標流量の窒素ガスを清掃用時間だけ通流させて不活性気体供給部Ｆを清掃する清掃用供給形態とすべくマスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。
なお、操作卓ＨＳは、清掃が必要な不活性気体供給部Ｆを選択自在に構成され、選択された不活性気体供給部Ｆに対してクリーニング開始指令を指令自在に構成されている。
つまり、操作卓ＨＳが、窒素ガスを通流させて不活性気体供給部Ｆを清掃する清掃指令を人為操作で指令する清掃指令手段として機能し、当該操作卓ＨＳから、複数の不活性気体供給部Ｆのうちの一部又は全部を特定供給部としてクリーニング開始指令を指令自在に構成されている。すなわち、本実施形態では操作卓ＨＳが特定供給部選択手段に相当する。

【0063】

すなわち、本実施形態においては、操作卓ＨＳが不活性気体を通流させて不活性気体供給部Ｆを清掃する清掃指令を人為操作で指令する清掃指令手段に相当し、パージコントローラＨ１が、操作卓ＨＳにて清掃指令が指令されたときに、容器５０が収納部１０Ｓに収納されていない状態で、不活性気体供給部Ｆに清掃用時間だけ清掃用流量の不活性気体を供給するように構成されている。

【0064】

また、制御手段Ｈが、容器５０が入出庫コンベヤＣＶに搬入されると、ノズルパージパターンＰ１に応じてノズル浄化用の目標流量を指令するように構成されている。
本実施形態においては、制御手段Ｈは、容器５０が入出庫コンベヤＣＶに搬入された時点を、ホイスト式の搬送車Ｄの運転を制御する搬送車コントローラ（図示せず）から収納指令が通信されることによって判別するように構成されている。
つまり、搬送車コントローラが、容器５０を入出庫コンベヤＣＶに搬入したときに、収納指令を制御手段Ｈに指令するように構成されている。

【0065】

さらに、制御手段Ｈが、２個の在荷センサ１０ｚが容器５０を検出しているときには、節約供給パターンとしての４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうち、操作卓ＨＳにて予め選択された一つのパターンに基づいて保管用の目標流量（供給流量）を指令するように構成されている。

【0066】

ちなみに、ノズルパージパターンＰ１及びクリーニングパターンＰ２における目標流量と供給時間とは、予め基準状態に設定されているが、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々の目標流量と供給時間とは、設備の設置時に、使用者が設定することになる。なお、上記基準状態は、設定入力手段としての操作卓ＨＳから変更設定自在に構成されている。

【0067】

つまり、使用者は、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々について、パターン特定パラメータとして、不活性気体供給部Ｆから不活性気体を容器５０に供給する目標流量と不活性気体供給部Ｆから不活性気体を容器５０に供給する供給時間とを操作卓ＨＳにて変更設定しながら、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々を試験的に使用して、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちの好適なパターンについての目標流量と供給時間とを設定し、かつ、その好適なパターンを選択することになる。すなわち、本実施形態では、操作卓ＨＳがパターン特定パラメータを人為的に設定入力自在な設定入力手段に相当する。

【0068】

（パージパターン）
次に、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々について、図７に基づいて説明する。

【0069】

ノズルパージパターンＰ１は、上述の収納指令が指令された時点から収納前供給時間として設定された供給時間ｔ１の間、ノズル浄化用の目標流量として設定された目標流量Ｌ１にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ１は、例えば、５秒に設定され、そして、目標流量Ｌ１は、例えば、３０リットル／分に設定されている。

【0070】

クリーニングパターンＰ２は、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されてから設置初期供給時間として設定された供給時間ｔ２の間、クリーニング用の目標流量として設定された目標流量Ｌ２にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ２は、例えば、１８００秒に設定され、そして、目標流量Ｌ２は、例えば、２０リットル／分に設定されている。

【0071】

４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々については、保管用の目標流量として、初期目標流量値Ｌαと、その初期目標流量よりも少ない定常目標流量値Ｌβとが設定されている。
初期目標流量値Ｌαは、例えば、５０リットル／分に設定され、そして、定常目標流量値Ｌβは、例えば、５リットル／分に設定されることになるが、上述の如く、使用者によって変更設定されることになる。

【0072】

そして、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々は、容器５０に窒素ガスを供給する際には、先ず、保管用の目標流量値を初期目標流量値Ｌαとし、その後、保管用の目標流量値を定常目標流量値Ｌβに変更する点が共通するが、互いに異なるパターンに定められている。
以下、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を、第１の保管用パージパターンＰ３、第２の保管用パージパターンＰ４、第３の保管用パージパターンＰ５、及び、第４の保管用パージパターンＰ６と記載して、各パターンについて説明を加える。

【0073】

第１の保管用パージパターンＰ３は、容器５０を収納部１０Ｓに収納することが完了した容器収納完了時点を始点とし、容器収納完了時点から設定供給時間ｔ３の間、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ３１にて窒素ガスを供給し、その後、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ３２にて窒素ガスを供給することを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンとして定められている。
なお、設定供給時間ｔ３は初期値として例えば５分に設定されることになるが、上述の如く、使用者によって変更設定されることになる。

【0074】

第２の保管用パージパターンＰ４は、容器収納完了時点から設定供給時間ｔ４１の間、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ４１にて窒素ガスを供給し、その後は、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ４２にて窒素ガスを間欠的供給することを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。

【0075】

すなわち、第２の保管用パージパターンＰ４は、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ４１から定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ４２に変更した後は、設定供給時間ｔ４３が経過すると、設定休止時間の間は窒素ガスの供給を停止することを繰り返すパターンに定められている。

【0076】

つまり、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ４１から定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ４２に変更した後は、インターバル時間ｔ４２のうちの、設定供給時間ｔ４３の間は、供給流量Ｌ４２にて窒素ガスが供給され、設定休止時間ｔ４２−ｔ４３の間は、窒素ガスの供給を停止することが、一対の在荷センサ１０ｚにて容器５０を検出している間は繰り返されることになる。
なお、設定供給時間ｔ４１は初期値として例えば５分に設定され、インターバル時間ｔ４２は初期値として例えば１０分に設定され、設定供給時間ｔ４３は初期値として例えば５分に設定されることになるが、上述の如く、使用者によって変更設定されることになる。

【0077】

第３の保管用パージパターンＰ５は、容器収納完了時点から設定供給時間ｔ５１の間、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ５１にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間ｔ５２の間、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ５２にて窒素ガスを供給することを基本パターンとして、この基本パターンを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は繰り返すパターンに定められている。
なお、設定供給時間ｔ５１は初期値として例えば５分に設定され、設定供給時間ｔ５２は初期値として例えば５分に設定されることになるが、上述の如く、使用者によって変更設定されることになる。

【0078】

第４の保管用パージパターンＰ６は、容器収納完了時点から設定供給時間ｔ６１の間、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ６１にて窒素ガスを供給し、続いて、設定供給時間ｔ６３の間、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ６２にて窒素ガスを間欠的に供給することを基本パターンとして、この基本パターンを、一対の在荷センサ１０ｚが容器５０の存在を検出している間は継続するパターンに定められている。

【0079】

すなわち、第４の保管用パージパターンＰ６には、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ６１にて窒素ガスを供給することを繰り返すための大インターバル時間ｔ６４、及び、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ６２にて窒素ガスを間欠的に供給することを繰り返すための小インターバル時間ｔ６２が設定されている。

【0080】

そして、容器収納完了時点及び大インターバル時間ｔ６４が経過した時点においては、設定供給時間ｔ６１の間、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ６１にて窒素ガスが供給されることになり、また、初期目標流量値Ｌαとしての供給流量Ｌ６１での窒素ガスの供給が終了した後は、設定供給時間ｔ６３の間、定常目標流量値Ｌβとしての供給流量Ｌ４２にて窒素ガスを供給することと、設定休止時間ｔ６２−ｔ６３の間、窒素ガスの供給を停止することが繰り返されることになる。

【0081】

なお、設定供給時間ｔ４１は初期値として例えば５分に設定され、大インターバル時間ｔ６４は初期値として例えば３０分に設定され、小インターバル時間ｔ６２は初期値として例えば５分に設定されることになる。
この第４の保管用パージパターンＰ６においては、大インターバル時間ｔ６４、及び、小インターバル時間ｔ６２も、使用者によって変更設定されることになる。

【0082】

本実施形態においては、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のいずれかのパージパターンでパージを実行する形態が、搬送容器に対して所定の供給形態で前記不活性気体を供給する容器保管モードに相当する。
すなわち、パージコントローラＨ１は、容器５０が収納された収納部１０Ｓにおける不活性気体供給部Ｆにて、容器５０に対して所定の供給形態で不活性気体を供給する容器保管モードにてマスフローコントローラ４０を作動させるように構成されている。

【0083】

また、本実施形態においては、清掃指令手段としての操作卓ＨＳによって選択された清掃対象の不活性気体供給部Ｆが特定供給部に相当し、クリーニングパターンＰ２でパージを実行する形態が、吐出ノズル１０ｉから特定供給部用供給形態で不活性気体を供給する特定供給部用供給モードに相当する。
すなわち、操作卓ＨＳによって選択された特定供給部にて、吐出ノズル１０ｉから特定供給部用供給形態で不活性気体を供給する特定供給部用供給モードにてマスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。

【0084】

さらに、本実施形態では、初期目標流量値Ｌαが第１目標流量値に相当し、定常目標流量値Ｌβが第２目標流量値に相当する。
すなわち、制御手段Ｈが、収納部１０Ｓに収納された容器５０に対して供給する不活性気体の目標流量を初期目標流量値Ｌαとすべくマスフローコントローラ４０を作動させる第１供給状態と、目標流量を初期目標流量値より小さな定常目標流量値Ｌβとすべくマスフローコントローラ４０を作動させる第２供給状態とを切換える形態でマスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。
そして、制御手段Ｈが、容器５０が収納部１０Ｓに収納された時点を始点に第１供給状態とし、その後、第２供給状態に切換える不活性気体節約供給パターンにて不活性気体を供給するようにマスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。

【0085】

（制御手段Ｈによるパージパターンの選択）
本実施形態では、制御手段ＨとしてのパージコントローラＨ１が、前記複数のパージパターン（Ｐ１〜Ｐ６）を記憶自在に構成されている。そして、複数のパージパターンＰ１〜Ｐ６のうち、節約供給パターンとして保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を記憶自在に構成されている。
操作卓ＨＳは、容器５０を収納部１０Ｓに収納した収納状態において、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６に係る情報を表示し、図示しない入力手段（マウス、キーボード等）によってそのいずれを選択するかを人為的に選択自在に構成されている。すなわち、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちいずれを使用するかを人為的に選択自在な供給パターン選択手段が設けられ、パージコントローラＨ１が、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうち操作卓ＨＳにて予め選択された節約供給パターンで容器５０内に活性気体を供給すべくマスフローコントローラ４０の作動を制御するように構成されている。

【0086】

次に、制御手段Ｈが実行する制御について、図８及び図９に基づいて説明する。
物品保管設備が設置されてシステムが起動されたときにおいて、パージコントローラＨ１は、まず、使用者にパージパターンの選択及び設定をさせるべくパージパターン設定処理を実行する。

【0087】

このパージパターン設定処理は、図８に示すように、まず「ノズルパージパターンＰ１に対してパターン特定パラメータの設定入力が必要か否か」を使用者に確認する（＃１１）。＃１１にてＹｅｓが選択されると、パージコントローラＨ１は、操作卓ＨＳにノズルパージパターンＰ１についてのパターン特定パラメータとして目標流量（供給流量）と供給時間との入力を促す入力画面表示指令を指令し、使用者は、表示された入力画面において、目標流量（供給流量）と供給時間とを設定入力する（＃１２）。

【0088】

＃１１においてＮｏが選択された場合、または、＃１２の設定入力の完了に引き続いて、パージコントローラＨ１は、「クリーニングパターンＰ２に対してパターン特定パラメータの設定入力が必要か否か」を使用者に確認する（＃１３）。＃１３にてＹｅｓが選択されると、パージコントローラＨ１は、操作卓ＨＳにクリーニングパターンＰ２についてのパターン特定パラメータとして目標流量（供給流量）と供給時間との入力を促す入力画面を表示させるべく表示指令を指令し、使用者は、表示された入力画面において、目標流量（供給流量）と供給時間とを設定入力する（＃１４）。

【0089】

＃１３においてＮｏが選択された場合、または、＃１４の設定入力の完了に引き続いて、パージコントローラＨ１は、保管用パージパターンについて、Ｐ３〜Ｐ６のいずれを使用するかが選択されているかを確認する選択確認処理を実行する（＃１５）。＃１５にてＰ３〜Ｐ６のいずれを使用するかが選択されていないと判別されると、パージコントローラＨ１は、操作卓ＨＳに保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のいずれを使用するかの選択を促す選択入力画面を表示させるべく表示指令を指令し、使用者は、表示された選択入力画面において、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうち使用するパージパターンを選択入力する（＃１６）。

【0090】

＃１５においてＹｅｓと判別された場合、または、＃１６の設定入力の完了に引き続いて、パージコントローラＨ１は、「＃１６で選択された保管用パージパターンに対してパターン特定パラメータの設定入力が必要か否か」を使用者に確認する（＃１７）。＃１７にてＹｅｓが選択されると、パージコントローラＨ１は、操作卓ＨＳに選択されたパージパターン（Ｐ３〜Ｐ６のいずれか）についてのパターン特定パラメータとして目標流量（供給流量）と供給時間との入力を促す入力画面表示指令を指令し、使用者は、表示された入力画面において、目標流量（供給流量）と供給時間とを設定入力する（＃１８）。

【0091】

なお、上記パージパターン設定処理は、物品保管設備が設置されてシステムが起動されたときのほか、使用者の更新設定指令によっても実行される。

【0092】

次に、図９のフローチャートに基づいて、物品保管設備の設置後における設備の運転を表す処理の流れを説明する。
まず、パージコントローラＨ１は、清掃指令手段により清掃開始が指令されたか否かを判別する（＃２１）。＃２１において清掃開始が指令されていないと判別されると、引き続き容器５０を収納する収納指令が指令されたか否かを判別する（＃２２）。＃２２において収納指令が指令されたと判別されると、パージコントローラＨ１は、ノズルパージパターンＰ１として設定されたパターンにしたがって窒素ガスを供給するようにマスフローコントローラ４０を制御する（＃２３）。ノズルパージパターンＰ１によるパージは収納前用設定時間としての供給時間ｔ１の間継続される（＃２４）。そして、供給時間ｔ１が経過したと判別されると、続いてマスフローコントローラ４０にパージを終了するパージ終了指令を指令し、パージ完了信号をストッカコントローラＨ２に出力する（＃２５）。

【0093】

続いて、パージコントローラＨ１は、＃１６で選択されたパージパターンで窒素ガスを供給するように容器５０が収納された収納部１０Ｓに対応するマスフローコントローラ４０を制御する（＃２６）。＃２６で指令されたパージは、収納部１０Ｓに容器５０が存在する間継続される（＃２７）。＃２７において、収納部１０Ｓに容器５０が存在しない状態と判別されると、その収納部１０Ｓに対応するマスフローコントローラ４０パージを終了するパージ終了指令を指令し、パージ完了信号をストッカコントローラＨ２に出力する（＃２８）。

【0094】

また、＃２１において、清掃開始が指令されたと判別されると、クリーニングパターンＰ２として設定されたパターンにしたがって窒素ガスを供給するようにマスフローコントローラ４０を制御する（＃２９）。
＃２８の処理の完了若しくは＃２９の処理の完了に引き続き、又は＃２２において収納指令が指令されていないと判別された場合には、上記フローを完了しリターンする。

【0095】

（流量抑制処理について）
本実施形態において、パージコントローラＨ１は、ＣＨ１に属する全ての不活性気体供給部Ｆに対して供給可能な最大許容流量Ｌｍａｘを記憶するように構成されている。
そして、パージコントローラＨ１は、一群の不活性気体供給部Ｆについて節約供給パターンにて供給する窒素ガスの流量の合計Ｌｔｏｔａｌが最大許容流量以上になる場合には、一群の不活性気体供給部Ｆの全てについての目標流量を低減させるべく、次の式１のように目標流量を更新する流量抑制処理を実行する。
目標流量＝目標流量×（最大許容流量Ｌｍａｘ）／（流量の合計Ｌｔｏｔａｌ） ・・・（式１）
すなわち、パージコントローラＨ１が、例えば一群の不活性気体供給部Ｆについて節約供給パターンにて供給する窒素ガスの流量の合計が最大許容流量以上になる場合、または、第１分岐供給配管Ｌｂ１から不活性気体供給部Ｆに至るまでの配管抵抗が大きい不活性気体供給部Ｆと小さい不活性気体供給部Ｆとが存在し、第１分岐供給配管Ｌｂ１から供給される不活性気体が第１分岐供給配管Ｌｂ１から不活性気体供給部Ｆに至るまでの配管抵抗が小さい不活性気体供給部に優先的に通流することによって配管抵抗が大きい不活性気体供給部Ｆの流量が目標流量に対して不足する場合には、一群の不活性気体供給部Ｆの全てから供給される不活性気体の目標流量を一定の低減率で低減させるべく流量抑制処理を実行するように構成されている。
本実施形態の場合、上記低減率は、一群の不活性気体供給部Ｆの全ての目標流量の合計が最大許容流量Ｌｍａｘとなるように設定される。
なお、上記説明ではＣＨ１を対象とした場合を説明したが、ＣＨ２についても同様である。

【0096】

〔別実施形態〕
（１）上記実施形態では、搬送容器５０をＦＯＵＰとし、収容する物品を半導体ウェハーＷとし、不活性気体として搬送容器に窒素ガスを供給する構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、収容する物品をレチクルとし、搬送容器５０をレチクル容器としてもよい。また、搬送容器に供給する不活性気体としては、窒素ガス以外にもアルゴンガス等、収容される基板に対して反応性の低い各種の気体を使用することができる。

【0097】

（２）上記実施形態では、流量検出手段をマスフローコントローラ４０に内蔵する状態で設ける構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、流量検出手段を供給配管Ｌｉに備える構成としてもよい。

【0098】

（３）上記実施形態では、特定供給部選択手段を、不活性気体を通流させて不活性気体供給部Ｆを清掃する清掃指令を人為操作で指令する清掃指令手段として構成したが、特定供給部選択手段としては、清掃指令手段以外にも各種の選択手段を適用可能である。例えば、試験対象の不活性気体供給部を特定供給部として、当該特定供給部における不活性気体の通流状態を試験するための試験用供給選択手段を特定供給部選択手段とするなど、各種の構成が考えられる。

【0099】

（４）上記実施形態では、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちいずれを使用するかを、供給パターン選択手段としての操作卓ＨＳから人為的に選択する構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、パージコントローラＨ１が、収納される容器５０の種別や収納される容器５０に収容される基板の状態に応じて保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちいずれを使用するかを判別し、その判別結果にしたがって保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうちいずれを使用するかを選択するように構成してもよい。この場合、供給パターン選択手段は、パージコントローラＨ１にプログラムモジュールとして備えられることになる。

【0100】

（５）上記実施形態においては、保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６に対して、パターン特定パラメータとして、不活性気体供給部Ｆから不活性気体を容器５０に供給する供給時間と、不活性気体供給部Ｆから不活性気体を容器５０に供給する供給流量とを変更設定自在に構成したが、上記保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６に加えて、ノズルパージパターンＰ１及びクリーニングパターンＰ２についても、パターン特定パラメータとしての供給時間及び供給流量を変更設定自在に構成することができる。

【0101】

（６）上記実施形態では、パージコントローラＨ１が、流量抑制処理において、一群の不活性気体供給部Ｆの全てについての目標流量を一定の低減率で低減させるように構成したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、供給流量値として初期目標流量値が設定されている不活性気体供給部Ｆについてのみ目標流量を低減させるように構成したり、容器５０に収容されている半導体ウェハーＷの状態を管理し、不活性気体の供給量を低減させても半導体ウェハーＷの汚損や劣化が進行する虞の少ない容器５０が収納されている収納部１０Ｓに対応する不活性気体供給部Ｆを選択して目標流量を低減させる等、目標流量を低減させる不活性気体供給部Ｆの選択方法については容器５０に収容される半導体ウェハーＷへの影響が許容限度内におさまる限りにおいて様々な方法を設定することができる。

【0102】

（７）上記実施形態では、流量抑制処理として、式１に基づいて目標流量を更新する構成としたが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、低減率を一定値（例えば１５％）に固定し、一群の不活性気体供給部Ｆについて節約供給パターンにて供給する窒素ガスの流量の合計Ｌｔｏｔａｌが最大許容流量以上になる場合には、一群の不活性気体供給部Ｆの全てについての目標流量を上記一定値だけ低減させるように構成してもよい。

【0103】

（８）上記実施形態では、容器５０に対して供給する不活性気体の目標流量を第１目標流量値と当該第１目標流量値より小さな第２目標流量値との２段階とするように構成したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば不活性気体の目標流量を３段階又はそれ以上設定し、第１目標流量値の後に第２目標流量値、第３目標流量値（或いはそれ以上の目標流量値）を切換える状態でマスフローコントローラ４０を作動させるように構成してもよい。

【0104】

（９）上記実施形態では、パージコントローラＨ１が、一群の不活性気体供給部Ｆについて節約供給パターンにて供給する窒素ガスの流量の合計Ｌｔｏｔａｌが最大許容流量Ｌｍａｘ以上になる場合には、一群の不活性気体供給部Ｆの全てについての目標流量を低減させる流量抑制処理を実行するように構成したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、目標流量を変更しない状態で窒素ガスを供給し、マスフローコントローラ４０が流量不足状態としてエラーを出力した場合に、そのエラーをリセットすると共に、パージコントローラＨ１によって一群の不活性気体供給部Ｆの一部又は全部から供給される不活性気体の目標流量を低減させるようにマスフローコントローラ４０に指令するように構成してもよい。

【0105】

（１０）上記実施形態では、第１分岐供給配管Ｌｂ１から窒素ガスを供給される１２個の不活性気体供給部ＦをＣＨ１とし、第２分岐供給配管Ｌｂ２から窒素ガスを供給される１２個の不活性気体供給部ＦをＣＨ２とする状態で、パージコントローラＨ１が、それらＣＨ１又はＣＨ２を対象として、節約供給パターンにて供給する窒素ガスの流量の合計Ｌｔｏｔａｌが最大許容流量Ｌｍａｘ以上になる場合には、一群の不活性気体供給部Ｆの全てについての目標流量を低減させる流量抑制処理を実行するように構成したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば第１分岐供給配管Ｌｂ１から窒素ガスを供給される１２個の不活性気体供給部Ｆと第２分岐供給配管Ｌｂ２から窒素ガスを供給される１２個の不活性気体供給部Ｆとの双方を一群の不活性気体供給部Ｆとしてもよい。また、上記実施形態では、チャネルを２つ備える構成を説明したが、チャネルを単一又は３つ以上備える構成としてもよい。さらに、チャネルと１つのみ備える構成である場合、元ガス供給配管Ｌｍから供給配管Ｌｓが分岐する構成としてもよい。

【0106】

（１１）上記実施形態では、容器５０を収納する収納部として、保管棚１０の収納部１０Ｓを例示したが、収納部としては、例えば、ホイスト式の搬送車ＤのガイドレールＧの横側脇に設けた収納部でもよい。

【0107】

（１２）上記実施形態では、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を例示したが、保管用パージパターンとしては、例えば、初期目標流量にて不活性ガスを供給することを間欠的に行うパターン等、種々のパターンを用いるようにしてもよい。

【符号の説明】

【0108】

１０Ｓ 収納部
１０ｉ 吐出口
２０ 搬送装置
４０ 流量調節装置
５０ 搬送容器
Ｆ 不活性気体供給部
Ｈ 制御手段
ＨＳ パターン選択手段、清掃指令手段
Ｌα 第１目標流量値
Ｌβ 第２目標流量値
Ｌｍａｘ 最大許容流量
Ｌｂ１、Ｌｂ２ 供給源
Ｐ３〜Ｐ６ 節約供給パターン

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】