特許第5720762号(P5720762)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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5720762単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。
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  • 5720762-単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。 図000009
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  • 5720762-単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。 図000015
  • 5720762-単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。 図000016
  • 5720762-単粒子膜エッチングマスクを有する表面微細凹凸構造体形成用基板及び表面微細凹凸構造体。 図000017
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