【課題を解決するための手段】
【0007】
これらの目的は、請求項1の特徴による装置と共に、そして請求項9による熱電デバイスの製造方法によって、達成される。本発明による装置の有利な改良およびこの装置の上位の構造ユニットへの統合は、従属請求項において開示される。請求項において個々に特定される特徴が、任意の所望の技術的に適切な方法において互いに組み合わされることができ、そして本発明のさらなる改良を示すことができる点に留意する必要がある。特に図に関連した記述は、本発明をさらに説明し、そして本発明の補助的な例示的実施形態を特定する。
【0008】
本発明による熱電デバイスは、少なくとも1つの第1の流れダクトおよび少なくとも1つの第2の流れダクトを備える熱電デバイスであって、
−少なくとも1つの第1の流れダクトに割り当てられる少なくとも1つの第1のキャリア層、および少なくとも1つの第2の流れダクトに割り当てられる少なくとも1つの第2のキャリア層、
−第1のキャリア層と第2のキャリア層との間の少なくとも1つの中間スペース、および、
−少なくとも1つの中間スペース内に配置されて互いに電気的に接続される多数のpドープトおよびnドープト半導体素子、を有し、
第1のキャリア層の第1の相対的熱膨張および第2のキャリア層の第2の相対的熱膨張は、作動状態下で同じである。
【0009】
ここで提案される熱電デバイスは、特に、個々の第1の流れダクトと個々の第2の流れダクトとの間に、または複数の第1の流れダクトと複数の第2の流れダクトとの間に配置される。流体(すなわちガスまたは液体)は、装置の各側の流れダクトを通ってそれぞれ導通される。熱電デバイスの一方の側は、高温側と呼ばれる。そこにおいて、高温側に割り当てられる流れダクトを通って熱い流体が流れる。熱電デバイスの他方の側は、したがって、低温側と呼ばれる。そこにおいて、低温側に割り当てられる流れダクトを通って比較的低温の流体が流れる。少なくとも1つの第1の流れダクトは高温側を形成し、そして少なくとも1つの第2の流れダクトは低温側を形成することが以下で常に想定される。しかしながら、これは、通常、交換されることもできる。以下の説明において、第1のキャリア層は高温側に割り当てられ、そして第2のキャリア層は低温側に割り当てられる(しかしながら、本発明をこの割り当てに制限することなく)。自動車において、高温側は排気システムのガスに通常割り当てられ、そして低温側は冷却回路の液体に割り当てられる。
【0010】
特に、少なくとも1つの第1の流れダクトに割り当てられる第1のキャリア層および少なくとも1つの第2の流れダクトに割り当てられる第2のキャリア層は、それぞれの流れダクトの境界(すなわち例えば個々の流れダクトまたは複数の流れダクトの壁の一部)を少なくとも部分的に形成する。第1のキャリア層および第2のキャリア層は、したがって、高温側の流体にまたは低温側の流体に熱的に接続される。このようにして、温度勾配は、キャリア層間に配置されて、「ゼーベック効果」に基づく電流を発生させることのできる半導体素子に伝わる。
【0011】
キャリア層は、したがって、熱電デバイスの境界を形成する。半導体素子が配置される中間スペースは、キャリア層間に設けられる。中間スペースは、したがって、半導体素子の配置によってと同様に、高さおよび個数によってのみ実質的にあらかじめ定義される範囲を特に有する。pドープトおよびnドープト半導体素子を通る選択された電流の流れを実施するために、キャリア層は、各々、半導体素子がそれに固定されて電気的に互いに接続される電気絶縁層を少なくとも部分的に有することができる。電気絶縁層の場合、それがキャリア層の外側から半導体素子への熱の伝達を過度に妨げないことを確実にすることが必要である。
【0012】
例えば、ビスマステルル(Bi
2Te
3)は、pドープトおよびnドープト半導体素子のための導電材料として用いられることができる。さらに、以下の材料[以下の最高温度℃まで]は用いられることができる:
【0013】
n型:Bi
2Te
3[約250℃];PbTe[約500℃];Ba
0,3Co
3,95Ni
0,05Sb
12[約600℃];Ba
y(Co,Ni)
4Sb
12[約600℃];CoSb
3[約700℃];Ba
8Ga
16Ge
30[約850℃];La
2Te
3[約1100℃];SiGe[約1000℃];Mg
2(Si,Sn)[約700℃];
p型:(Bi,Sb)
2TE
3[約200℃];Zn
4Sb
3[約380℃];TAGS[約600℃];PbTe[約500℃];SnTe[約600℃];CeFe
4Sb
12[約700℃];Yb
14MnSb
11[約1000℃];SiGe[約1000℃];Mg
2(Si,Sb)[約600℃]。
【0014】
本発明による熱電デバイスにおいて、2つのキャリア層は、したがって、中間スペースを囲むために、そして流れダクトから半導体素子へ熱を伝えるために用いられる。半導体素子は、ここでは例えば、異なる導電率を有する材料から成る小さい矩形の平行六面体のようにして利用できるようにすることが可能である。いずれの場合においても、2つの異なる半導体素子(pドープトおよびnドープト)は、それらが共に直列回路を形成するようにして互いに電気的に接続されることが好ましい。2つのキャリア層のうちの一方は、流入する熱気流(高温側)を吸収し、他方のキャリア層は、流出する熱気流(低温側)を放出する。個々の半導体素子の配置または配線の設計に関して、半導体素子のタイプ、設計および/または位置は、取付け空間、所望の熱気流、流れの案内経路等に適合されることができる。そしてそれらは、特に、ここでは異なることもできる。特に、熱電デバイスは、互いに直列に接続される半導体素子の1つ以上のグループを有する。各グループは、互いに独立している回路を形成するか、または電気的並列回路を介して互いに接続している回路を形成する。
【0015】
相対的熱膨張は、製品のキャリア層の平均膨張係数、および、このキャリア層が熱電デバイスの作動状態下で受ける温度の違いから結果として生じる。平均膨張係数は、休止温度での全長において、温度が上昇する場合の長さの変化から生じる商である。平均膨張係数の単位は、1/Kelvinである。平均膨張係数を決定中の長さの変化は、休止温度でのキャリア層の長さと、(最大の)作動温度でのキャリア層の長さとの違いとして、ここで定められる。温度の違いは、(最大の)作動温度と、休止温度(作動状態下での)との違いから、結果として生じる。
【0016】
第1のキャリア層および第2のキャリア層の双方にとっての休止温度は、概して−20℃〜40℃、好ましくは0℃〜20℃、特に好ましくは正確に10℃である。高温側の(最大の)作動温度は、150℃〜900℃、好ましくは250℃〜700℃、特に好ましくは正確に325℃(排ガス再循環システムにおける熱電デバイスにとって)または正確に625℃(車両の車体下の排気システムにおける熱電デバイスにとって)である。低温側の作動温度は、−20℃〜120℃、好ましくは50℃〜80℃、特に好ましくは正確に65℃である。長さの変化を決定するための可能な測定方法は、当業者に既知である。測定は、特に好適な温度で行われることが好ましい。
【0017】
第1のキャリア層の第1の相対的熱膨張および第2のキャリア層の第2の相対的熱膨張の構成が「同一」であると仮定すると、互いにわずかにのみ相違する値は、特に、最大10%の、特に最大1.0%の、または最大0.1%のみでさえの公差(平均で、または絶対項でさえ)をともなう。
【0018】
これは、第1のキャリア層および第2のキャリア層が、同一の相対的熱膨張の構成を形成するために異なる平均膨張係数を有することを特に明らかにする。本発明によれば、第1のキャリア層と第2のキャリア層との間の大きい温度差(通常はこれらの構成要素の異なる膨張度に結果としてなる)は、したがって、適合される平均膨張係数のせいで作動中または作動状態下で補償される。この文脈において、比較的小さい相対的熱膨張は、比較的大きい熱膨張の特定の公差範囲内に位置しなければならない。
【0019】
熱電デバイスの1つの好適な展開において、第1のキャリア層は、2*10
−6/Kから10.2*10
−6/Kの膨張係数を有し、第2のキャリア層は、12*10
−6/Kから28.4*10
−6/Kの膨張係数を有する。測定と共に行う技術的な理由のために、特定の膨張係数は、最高5%の誤差を受けてよく、「平均」値として特定される。
【0020】
第1のキャリア層は、5.5*10
−6/Kから8*10
−6/Kの膨張係数を有し、第2のキャリア層は、18*10
−6/Kから28.4*10
−6/Kの膨張係数を有することが、ここではとりわけ好まれる。
【0021】
好適な膨張係数を有する合金を選択する結果として、第1のキャリア層は、半導体素子の膨張係数に実質的に対応する膨張係数を有する。そして、作動中に450℃までの温度差を前提として、第2のキャリア層は、高温側のキャリア層と正確に同程度の膨張をする。試験および分析は、この種の材料については、特に応力において低くて、したがって交番応力下でさえ長い耐用年数を有する熱電デバイスを利用できるようにすることが可能であることを示した。
【0022】
第1のキャリア層として、または第2のキャリア層として使用する材料の膨張係数を決定するために、材料の試験片(熱電デバイスからの取り外しによって得られるか、または原材料として得られることができる)は、まず、一方の側に固定されることができる。試験片は、休止温度で測定した後、適切な材料をそれに適用することによって、(最大の)作動温度まで加熱される。試験片が十分に長い間媒体にさらされる場合、試験片が媒体の温度を完全に呈した結果、試験片の長さは、少なくとも一次元において測定される。以下の説明において、媒体の温度は数度選択的に増加する、そして、試験片の温度の増加が想定される時間の経過後、試験片の長さは再度測定される。膨張係数は、長さ、長さの測定値の違い、および温度の違いから決定することができる。
【0023】
排ガス再循環システムにおけるこの種のデバイスの使用に関して、低温側の作動温度は、概して50℃〜80℃(特に正確には65℃)にあり、そして高温側の作動温度は、250℃〜400℃(特に正確には325℃)にある。低温側の材料の膨張係数の測定値のために、適切な熱板を有する水浴が、水浴の温度をできるだけ正確に調整可能に使われることができる。加えて、試験片が流体の流れ(特に温度がモニタされるようにして制御可能なガス流)にさらされると想像することは、可能である。流体のこの種の熱い流れはまた、高温側の材料を測定するにも適する。高温側の材料は、しかしながら、温度を非常に正確に制御することができるオーブンにおいて加熱されることもできる。
【0024】
しかしながら、創意に富むと独立して考慮されることもできる熱電デバイスの好適な一実施形態において、少なくとも第1のキャリア層または第2のキャリア層は、
−ニッケルの比率が少なくとも9.0重量%、
−シリコンの比率が多くても1.0重量%、
−そして、マンガン、クロム、炭素、モリブデン、コバルト、アルミニウム、チタン、銅およびニオブの群から少なくとも1つの元素、および鉄、
を含む合金から成る。
【0025】
有利な合金は、広範囲にわたる膨張係数を有し、それ以外は類似の機械的および熱的特性を有する。本発明による合金の膨張係数は、20℃〜500℃の温度領域において、1.0*10
−6/Kから31.7*10
−6/Kの範囲にある。広範囲の膨張係数によって、キャリア層の合金は、所与の作動温度および使用する半導体素子の物質特性の双方に適合することができる。膨張係数は、合金におけるニッケルの比率によって、かなりの程度影響されることができる。ニッケルの比率が36重量%の鉄/ニッケル合金は、したがって、最小の膨張係数を有する。合金におけるシリコンの比率によって、引張強さおよびその弾性限界は、かなりの程度影響されることができる。本発明による特定の元素の比率に加えて、合金は、概して不純物を有することもできる。しかしながら、それはここでは意味がない。
【0026】
少なくとも第1のキャリア層または第2のキャリア層は、有利な合金から成る。しかしながら、第1のキャリア層および第2のキャリア層の双方は、本発明による合金によって実施されることが好ましい。
【0027】
第1のキャリア層および/または第2のキャリア層のための本発明による合金の適切な選択によって、第1のキャリア層の絶対膨張および第2のキャリア層の絶対膨張は、それらが450℃まで温度差があってよいにもかかわらず、デバイスの作動中に同程度の大きさであることが確保される。このようにして、第1のキャリア層と第2のキャリア層との間に(重要な)応力は実質的に発生しない。これは、特に、第1のキャリア層の内面の位置および第2のキャリア層の内面の位置(それらの接続ラインは温度の違いのない状態において両内面に関して直交して位置する)が、温度の大きい違いを有する状態において実質的に同じ距離を維持することを意味する。
【0028】
1つの特に好ましい実施形態において、第1のキャリア層の合金は、作動中に、半導体素子および第2のキャリア層の合金と類似の膨張を経験する。
【0029】
熱電デバイスの1つの展開によれば、第1のキャリア層は、
−ニッケルの比率が少なくとも32.0重量%、そして、
−マンガンの比率が多くても1.0重量%、および、
−シリコン、クロム、炭素、モリブデン、コバルト、アルミニウム、チタンおよびニオブの群から少なくとも1つの元素、および鉄、
を含む第1の合金から成る。
【0030】
この展開の第1の合金は、200℃から500℃の温度領域において、2.0*10
−6/Kから10.2*10
−6/Kの膨張係数を有する。第1の合金のこの温度領域における低い膨張係数は、比較的高い温度での高温側のキャリア層のための材料として第1の合金を使用することを可能にする。
【0031】
熱電デバイスのさらに有利な改良によれば、第1のキャリア層は、
−ニッケルの比率が28.0重量%〜30.0重量%、
−コバルトの比率が16.0重量%〜18.0重量%、
−クロムの比率が多くても0.1重量%、
−炭素の比率が多くても0.05重量%、
−マンガンの比率が多くても0.5重量%、
−シリコンの比率が多くても0.3重量%、
そして残りは、鉄および不可避の不純物から形成される、
第1の合金から成る。
【0032】
上記で特定されたこの合金は、「好適な高温側材料」として以下でも称される。
【0033】
この第1の合金は、200℃〜500℃の温度領域において、5.8*10
−6/Kから6.1*10
−6/Kの膨張係数を有するので、適切な半導体素子の膨張係数に有利に適する。この第1の合金が高温側のキャリア層として用いられる場合、それは特に有利である。
【0034】
比較的高い温度での粒成長は、コバルトによって阻害される。焼戻し抵抗および熱抵抗は、したがって改良される。一方で、コバルトは、黒鉛の形成を促進する。凝集が増加するとき、熱伝導率も増加する。クロムは、膨張のわずかな低下をともない合金の引張強さを増加させる。比較的高いクロム含有量は、熱抵抗を改良する。
【0035】
第1のキャリア層が、ニッケルの比率が32.0重量%〜37.0重量%、マンガンの比率が多くても0.6重量%、そしてシリコン、クロム、コバルト、チタンおよびニオブの群から少なくとも1つの元素、および鉄を含む第1の合金から成る場合、それもまた有利でよい。この第1の合金は、200℃〜500℃の温度領域において、2.0*10
−6/Kから10.2*10
−6/Kの膨張係数によって定義される。これらの合金は、したがって、高温側のキャリア層にとって特に適している。モリブデンは、引張強さおよび特に熱抵抗を増加させる。クロムおよびニッケルと共に合金をつくられるとき、高い弾性限界および強度値は達成されることができる。
【0036】
第1のキャリア層が、ニッケルの比率が37.0重量%〜43.5重量%、マンガンの比率が多くても1.0重量%、シリコンの比率が多くても0.4重量%、炭素の比率が多くても1.0重量%、そしてアルミニウム、モリブデンおよび銅は含まれない第1の合金から成ることは、同様に可能である。この第1の合金は、200℃〜500℃の温度領域において、3.5*10
−6/Kから903*10
−6/Kの膨張係数によって定義される。この合金は、したがって、高温側のキャリア層に特に適している。
【0037】
第1のキャリア層が、ニッケルの比率が45.0重量%〜52.0重量%、マンガンの比率が多くても0.8重量%、シリコンの比率が多くても0.5重量%、そして炭素、クロムおよびアルミニウムの群から少なくとも1つの元素、および鉄を含む第1の合金から成る場合、それもまた有利である。
【0038】
この第1の合金は、200℃〜500℃の温度領域において、8.0*10
−6/Kから10.0*10
−6/Kの膨張係数によって定義される。これらの合金は、したがって、高温側のキャリア層に特に適していて、対応する膨張係数を有する半導体素子と都合よく組み合わされることができる。
【0039】
第1のキャリア層が、ニッケルの比率が41.0重量%〜43.5重量%、マンガンの比率が多くても0.6重量%、シリコンの比率が多くても1.0重量%、クロムの比率が多くても6.0重量%、そしてアルミニウム、コバルトおよびチタンの群から少なくとも1つの元素、および鉄を含む第1の合金から成る場合、それもまた有利である。この第1の合金は、200℃〜500℃の温度領域において、7.3*10
−6/Kから14.4*10
−6/Kの膨張係数によって定義される。
【0040】
第2のキャリア層が、
−ニッケルの比率が12.5重量%〜23.0重量%、
−マンガンの比率が多くても7.0重量%、
−シリコンの比率が多くても1.0重量%、
−炭素の比率が0.65重量%、
そしてクロムおよび鉄をおそらく含む、第2の合金から成る場合、それも有利である。
【0041】
この合金は、20℃〜200℃の温度領域において、18.9*10
−6/Kから20.7*10
−6/Kの膨張係数によって定義される。高温側と低温側との間の膨張の違いがこの大きさの膨張係数によって補償される場合、この合金は、したがって、低温側のキャリア層にとって適している。このようにして、低温側と熱接触している第2のキャリア層の絶対膨張、および高温側と熱接触している第1のキャリア層の絶対膨張は、それらが非常に大きい温度差があるときでも、実質的に同じである。
【0042】
熱電デバイスのさらに有利な改良において、第2のキャリア層は、
−ニッケルの比率が9.0重量%〜11.0重量%、
−銅の比率が17.0重量%〜19.0重量%、
−鉄の比率が多くても1.0重量%、
−炭素の比率が多くても0.1重量%、
−シリコンの比率が多くても0.25重量%、
そして残りはマンガンから成る、
第2の合金から成る。上記で特定されたこの第2の合金は、以下で「好適な低温側材料」とも称される。
【0043】
本発明によるこの合金は、20℃〜200℃の温度領域において、26.8*10
−6/Kから28.4*10
−6/Kの膨張係数を有する。高い膨張係数のせいで、合金は、低温側と熱接触している第2のキャリア層を形成するために特に適している。
【0044】
「好適な高温側材料」が第1のキャリア層を形成し、そして「好適な低温側材料」が第2のキャリア層を形成する組み合わせは、特に好ましい。このようにして、第1のキャリア層は、半導体素子に実質的に対応する膨張係数を有する。そして、作動中に450℃までの温度差を前提として、第2のキャリア層は、高温側のキャリア層と正確に同程度の膨張をする。
【0045】
熱電デバイスのさらに好適な改良において、第1のキャリア層および第2のキャリア層は、円筒形状に形成され、そして互いに関して同心的に配置される。円筒形状とは、円のような横断面を有する細長い本体を意味する。特に、横断面は、正確に円でなく、むしろ楕円でもあり得る。加えて、矩形断面を有するパイプを用いることもできる。第1のキャリア層および第2のキャリア層は、第1のキャリア層が内側キャリア層を形成するとき、第1のキャリア層の外側が、実質的に至る所で第2のキャリア層の内側から同じ距離だけ離れているようにして形成される。この種の円筒形状の配置において、第1のキャリア層の内面は、少なくとも第1の流れダクトを形成し、そして第2のキャリア層の外面は、少なくとも第2の流れダクトの境界の一部を形成する。一種の同心の二重管が、したがって形成される。そこにおいて、熱電発電器は、2つの流体のうちの一方の流体のための流れダクトが二重管の内部に形成され、他方の流体のための流れダクトが二重管の外側に形成されるような、複数のこの種のパイプを備えることができる。
【0046】
加えて、内燃機関、排気システム、冷却回路および、本発明による多数の熱電デバイスを有する少なくとも1つの熱発生器を有する自動車は、提案される。そこにおいて、少なくとも1つの第1の流れダクトは、排気システムに接続され、少なくとも1つの第2の流れダクトは、冷却回路に接続される。
【0047】
加えて、熱電デバイスを製造する方法であって:
−請求項3または4のうちの1項に記載の合金から成る第1のキャリア層を準備するステップ;
−第1のキャリア層のための第1の電気絶縁層を準備するステップ;
−第2のキャリア層のための第2の電気絶縁層を準備するステップ;
−請求項5に記載の合金から成る第2のキャリア層を準備するステップ;
−第1のキャリア層と第2のキャリア層との間に多数のpドープトおよびnドープト半導体素子を配置するステップ;および、
−半導体素子が第1、第2のキャリア層間に配置されるように、第1のキャリア層および第2のキャリア層を実装するステップ;
を含む方法は、提案される。
【0048】
個々のステップの列挙は、直列という意味において理解されてはならない。複数のステップを、繰り返す、組み合わせるおよび/または交換することは、可能である。
【0049】
第1に、本発明による合金から成る第1のキャリア層は、利用できるようになる。そこにおいて、キャリア層は、円形および/または矩形の複数のプレートから構成することができる。しかし、第1のキャリア層としてパイプを使用することも可能である。パイプの横断面は、円に似ていることが好ましいが、しかし楕円の形状でもあり得る。加えて、矩形の横断面を有するパイプも、考えられる。
【0050】
電気絶縁層は、浸漬浴、スクリーン印刷法、スパッタリング法または他の何らかの方法を用いて第1のキャリア層に適用されることが好ましい。電気絶縁層は、ここでは誘電体、特に好ましくはSiO
2で構成されることが好ましい。
【0051】
例えば、矩形の平行六面体形状または他に環状の形状も有することができる多数のpドープトおよびnドープト半導体素子は、互いに電気的に接続され、特に直列に交互に接続される。pドープトおよびnドープト半導体素子は、それらが熱電素子として電流を発生させることができるようにして、特に導電性接続によって配線される。半導体素子は、配置の前にすでにpドープトおよび/またはnドープトされていることができる。しかし、それらは、実際の配置プロセスの後、少なくとも1つのドーピング(pまたはn)を受け入れることもできる。
【0052】
第2のキャリア層は、ここでは特に「好適な低温側材料」から形成されて、電気絶縁層はそれに対して適用される。その後、「好適な高温側材料」で形成されることが好ましい第1のキャリア層、および第2のキャリア層は、半導体素子が第1のキャリア層と第2のキャリア層との間に配置されるようにして結合されることが好ましい。実装は、ハンダ付け、溶接または他の結合方法、さらには締結手段(例えばフレーム、プラグ式接続またはネジ)も用いることによって行われることができる。
【0053】
さらに、「好適な高温側材料」による第1の合金の使用および/または「好適な低温側材料」による第2の合金の使用は、熱電発電器における半導体素子に適応するために特に有利であるとみなされる。参照は、特定の使用可能性に関して全ての開示になされることができる。