特許第5726073号(P5726073)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5726073プラズマを用いる形式の化学反応によって、基板上に層を析出する方法
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  • 特許5726073-プラズマを用いる形式の化学反応によって、基板上に層を析出する方法 図000002
  • 特許5726073-プラズマを用いる形式の化学反応によって、基板上に層を析出する方法 図000003
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