(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
粉末X線解析法によるX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和が、フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対して、3.1以上である請求項1又は2に記載のゼオライト。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、上記した従来技術には、次のような問題がある。
すなわち、特許文献1に記載の粒子径が1.0〜8.0μmのCHA構造のゼオライト(以下、CHA型ゼオライトと記載する場合がある)に関しては、上記ゼオライト中のK(カリウム)の含有量は記載されておらず、はっきりしたKの含有量は明らかではない。しかし、特許文献1のゼオライトの製造方法から考えると、Kの含有量は、K
2O換算で2〜3質量%程度と推定される。このように、ゼオライト中のKの含有量が高いと、NOx浄化率が低下してしまうという問題がある。
【0008】
特許文献2では、アルカリの含有量を3質量%未満と低下させているが、特許文献2に記載のゼオライトは、ハニカムユニット基材の表面をコーティングすることにより、触媒としての機能を発揮させるものであるため、触媒としてのゼオライト密度は低く、NOx浄化率は低いという問題がある。
【0009】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、NOx浄化性能に優れ、特に排ガスの高温度域でのNOx浄化性能に優れたゼオライト、
上記ゼオライトを使用したハニカム触媒及び排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0010】
すなわち、本発明のゼオライトは、CHA構造を有するゼオライトであって、その組成比(モル比)SiO
2/Al
2O
3が15未満であり、前記ゼオライト中に含有されるKの含有量は、K
2O換算で0.1〜1質量%であることを特徴とする。
【0011】
ゼオライト中に含有されるKの含有量が多いと、アンモニアを酸化する作用が強くなり、NOxの還元に使用されるべきアンモニアを消費してしまい、NOx浄化率が低下してしまう。
しかしながら、本発明のゼオライトにおいては、ゼオライト中に含有されるKの含有量は、K
2O換算で0.1〜1質量%と低いので、NOxの還元に使用されるべきアンモニアが酸化されずに充分に存在し、NOx浄化率が高くなる。特に排ガスの高温度域(525℃付近)でも、アンモニアが充分に存在するため、NOx浄化性能に優れている。
【0012】
本発明のゼオライトにおいて、その組成比SiO
2/Al
2O
3が15以上であると、NOxの浄化率が低下してしまう。その理由は、SiO
2/Al
2O
3が高いと、担持できる触媒として機能するCu量が少なくなるためである。また、ゼオライト中に含有されるKの含有量がK
2O換算で1質量%を超えると、上記のように、アンモニアを酸化する作用が強くなり、NOxの還元に使用されるべきアンモニアを消費してしまい、NOx浄化率が低下してしまう。一方、ゼオライト中に含有されるKの含有量がK
2O換算で0.1質量%未満のものを得ようとして、ゼオライト合成の原料にK含有の化合物を入れないと、CHA単相が得られにくく、ゼオライトの結晶化が進まなくなるため、生産効率が悪く、高コストの原料となってしまう。また、合成後の処理により、ゼオライトに含まれるKをK
2O換算で0.1質量%未満にしようとすると、KはCuイオン交換しにくいために、イオン交換回数が増えたり、イオン交換時間が長くなりすぎ、生産効率が悪く、高コストの原料となってしまう。
【0013】
本発明のゼオライトにおいては、ゼオライトの平均粒子径は、0.1〜0.5μmであることが好ましい。
平均粒子径が0.1〜0.5μmと粒子径の小さいゼオライトを用いているので、ハニカム触媒とした時の吸水変位量が小さく、製造時および触媒としての使用時にクラックが生じにくく、耐熱性、耐久性に優れている。
平均粒子径が0.1μm未満のゼオライトでは、ハニカム触媒とした時に気孔径が小さくなり過ぎ、NOxの浄化性能が低くなる。一方、平均粒子径が0.5μmを超えると、ハニカム触媒とした時の吸水変位量が大きくなり、ハニカム触媒にクラックが生じるおそれがある。
【0014】
本発明のゼオライトにおいては、粉末X線解析法によるX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和が、フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対して、3.1以上であることが好ましい。
粉末X線解析法によるX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和が、フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対して、3.1以上であるゼオライトは、結晶性が高く、熱等により構造が変化しにくく、NOxの浄化性能が高く、耐熱性、耐久性にも優れている。
【0015】
粉末X線解析法によるX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和が、フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対して、3.1未満であると、結晶性が低いので、熱等により構造が変化し易くなる。
【0016】
フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対する粉末X線解析法によるゼオライトのX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和([ゼオライトのX線回折スペクトルの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和]/[フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和])を、以下では、単にX線積分強度比と記載する場合がある。
【0017】
上記X線積分強度比は、3.3以上であることが好ましく、3.5以上であることがより好ましい。
このX線積分強度比の数値が高いほど、ゼオライトの結晶性が高いことを示しており、この場合、熱等により構造がより変化しにくいのでNOxの浄化性能が高く、耐熱性、耐久性にも優れる。
【0018】
上記X線積分強度比を得るためには、以下のようにしてX線回折(XRD)測定のための粉末を調製し、XRD測定を行う。
すなわち、ゼオライトの粉末に、15.0質量%のフッ化リチウムを加えて十分に混合する(以下、この混合粉末をサンプルという)。次にサンプルの水分率を調整するために、湿度が安定しているポリプロピレン製の密閉容器に、サンプルをXRD測定用フォルダーに詰めた状態で7時間以上保持する。なお、湿度の安定は、上記ポリプロピレン製の容器中に、硫酸アンモニウムの飽和水溶液の入ったビーカーを湿度が一定になるまで放置することで行う。
【0019】
次いで、X線回折装置(リガク社製 UltimaIV)を用いて、XRD測定を行う。なお、測定条件は、次の通りとする。線源:CuKα(λ=0.154nm)、測定法:FT法、回折角:2θ=5〜48°、ステップ幅:0.02°、積算時間:1秒、発散スリット、散乱スリット:2/3°、発散縦制限スリット:10mm、加速電圧:40kV、加速電流:40mA。XRD測定前後でサンプル重量が0.1%以上の変化がないようにする。得られたXRDデータは、粉末X線回折パターン総合解析ソフトJADE6.0を用いてピークサーチを行い、さらに各ピークの半値幅と積分強度を算出する。なお、ピークサーチの条件は次の通りとする。フィルタータイプ:放物線フィルター、Kα2ピークの消去:あり、ピーク位置定義:ピークトップ、閾値σ:3、ピーク強度%カットオフ:0.1、BG決定の範囲:1、BG平均化のポイント数:7。得られたデータから、ゼオライトの(211)面(2θ=20.7°付近)、(104)面(2θ=25.1°付近)、(220)面(2θ=26.1°付近)の積分強度の和と、フッ化リチウムの(111)面(2θ=38.6°付近)、(200)面(2θ=45.0°付近)の積分強度の和を算出し、それらの比を求める。なお、ゼオライトの(211)面、(104)面、(220)面のピークの積分強度を用いるのは、サンプルの吸水の影響が小さいためである。
【0020】
本発明のゼオライトは、担持された銅の担持量が、ゼオライトに対して3.5〜6.0質量%であることが好ましい。
銅(Cu)が3.5〜6.0質量%担持されていることで、少量のゼオライトで、高いNOx浄化性能が得られる。Cuが3.5質量%未満の場合は、NOx浄化性能が低くなり、Cuが6.0質量%を超えると、高温でアンモニア酸化が促進され、NOxの浄化性能が低下する。
【0021】
本発明のゼオライトの製造方法は、上記ゼオライトの製造方法であって、Si源、Al源、アルカリ源、水及び構造規定剤からなる原料組成物を反応させることにより、ゼオライトを合成する合成工程と、前記合成工程により合成されたゼオライトに硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を用いて、ゼオライト中のKを調整するK調整工程とを含むことを特徴とする。
【0022】
本発明のゼオライトの製造方法においては、ゼオライトを合成する際、前記合成工程により合成されたゼオライトに硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を用いて、ゼオライト中のKを調整するK調整工程を含んでいるので、K含有量の低いものを製造することができる。
【0023】
本発明のハニカム触媒は、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されたハニカムユニットを備えたハニカム触媒であって、上記ハニカムユニットは、ゼオライトと無機バインダとからなり、上記ゼオライトとして、本発明のゼオライトが用いられていることを特徴とする。
【0024】
本発明のハニカム触媒においては、上記した本発明のゼオライトが用いられているので、NOx浄化率の高いハニカムユニットからなるハニカム触媒を得ることができる。
【0025】
本発明のハニカム触媒においては、上記ハニカムユニットは、さらに無機粒子を含んでおり、上記無機粒子は、アルミナ、チタニア及びジルコニアからなる群より選択される一種以上であることが望ましい。
これらの無機粒子の粒子径を調整することによって、隔壁の気孔径等を良好に調節することができ、ハニカム触媒としての機能を向上させることができる。
【0026】
また、本発明の排ガス浄化装置は、本発明のハニカム触媒を備えることを特徴とする。
【0027】
本発明の排ガス浄化装置によれば、NOxの浄化性能に優れ、特に排ガスの高温度域でのNOx浄化性能に優れた排ガス浄化装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0029】
以下、本発明について具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の記載に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
【0030】
本発明のゼオライトは、CHA構造を有するゼオライトであって、その組成比SiO
2/Al
2O
3が15未満であり、上記ゼオライト中に含有されるKの含有量がK
2O換算で、0.1〜1質量%であることを特徴とする。
【0031】
本発明のゼオライトは、国際ゼオライト学会(International Zeolite Association:IZA)において、CHAという構造コードで命名され、分類されており、天然に産出するチャバサイト(chabazite)と同等の結晶構造を有するゼオライトである。
【0032】
ゼオライトの結晶構造の解析は、X線回折(XRD)装置を用いて行うことができる。
CHA型ゼオライトは、X線回折スペクトルにおいて、
粉末X線解析法によるX線回折スペクトルで、2θ=20.7°付近、25.1°付近、26.1°付近にそれぞれ、CHA型ゼオライト結晶の(211)面、(104)面及び(220)面に相当するピークが現れる。本発明のゼオライトの結晶性は、フッ化リチウムのX線回折スペクトルで、2θ=38.7°付近の(111)面に相当するピーク及び、2θ=44.9°付近の(200)面に相当するピークの積分強度の和に対するゼオライトの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和(X線積分強度比)により評価するものとする。
フッ化リチウムのX線回折スペクトルの(111)面及び(200)面の積分強度の和に対するゼオライトの(211)面、(104)面及び(220)面の積分強度の和(X線積分強度比)は、3.1以上であることが好ましい。
【0033】
上記X線積分強度比が3.1以上であるゼオライトは、結晶性が高く、熱等により構造が変化しにくく、NOxの浄化性能が高く、耐熱性、耐久性にも優れている。
このX線積分強度比を得る方法は、上記した通りである。
【0034】
上記CHA型ゼオライトの組成比SiO
2/Al
2O
3とは、ゼオライト中のAl
2O
3に対するSiO
2のモル比(SAR)を意味している。本発明のCHA型ゼオライトの組成比SiO
2/Al
2O
3は、15未満であるが、5〜14.9であることが望ましく、10〜14.9であることがより望ましい。
本発明のCHA型ゼオライトは、組成比SiO
2/Al
2O
3が15未満であるので、ゼオライトの酸点を充分な数とすることができ、その酸点を利用して金属イオンとイオン交換することができ、Cuを多く担持することができるので、NOxの浄化性能に優れている。CHA型ゼオライトの組成比SiO
2/Al
2O
3が15以上であると、Cuの担持量が少なく、NOxの浄化率が低下してしまう。
ゼオライトのモル比(SiO
2/Al
2O
3)は、蛍光X線分析(XRF)を用いて測定することができる。
【0035】
本発明のCHA型ゼオライト中に含まれるKの含有量は、K
2O換算で0.1〜1質量%である。
ゼオライト中に含有されるKの含有量が多いと、アンモニアを酸化する作用が強くなり、NOxの還元に使用されるべきアンモニアを消費してしまい、NOx浄化率が低下してしまう。
しかしながら、本発明のゼオライトにおいては、ゼオライト中に含有されるKの含有量が0.1〜1質量%と低いので、NOxの還元に使用されるべきアンモニアが充分に存在し、NOx浄化率が高くなる。特に排ガスの高温度域(525℃付近)でも、アンモニアが充分に存在するため、NOx浄化性能に優れている。
Kの含有量は、蛍光X線分析(XRF)を用いて測定することができる。
【0036】
本発明のCHA型ゼオライトの平均粒子径は、0.1〜0.5μmであることが望ましく、0.1〜0.4μmであることがより望ましい。このような小さな平均粒子径を有するゼオライトを用いてハニカム触媒を製造した場合、吸水変位量が小さくなる。
【0037】
本発明のCHA型ゼオライトの平均粒子径が0.1μm未満のゼオライトでは、ハニカム触媒とした時に気孔径が小さくなり過ぎ、NOxの浄化性能が低くなる。一方、平均粒子径が0.5μmを超えると、ハニカム触媒とした時の吸水変位量が大きくなり、ハニカム触媒にクラックが生じるおそれがある。
【0038】
ゼオライトの平均粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM、日立ハイテク社製、S−4800)を用いて、SEM写真を撮影し、10個の粒子の全対角線の長さを測定し、その平均値から求める。なお、測定条件は、加速電圧:1kV、エミッション:10μA、WD:2.2mm以下とする。一般にCHA型ゼオライトの粒子は立方体であり、SEM写真で二次元に撮像した時には正方形となる。そのため粒子の対角線は2本である。
【0039】
本発明のゼオライトにおいては、ゼオライトに対してCuが3.5〜6.0質量%担持されていることが望ましい。
【0040】
Cuが3.5〜6.0質量%担持されていることで、少量のゼオライトで、高いNOx浄化性能が得られる。Cuが3.5質量%未満の場合は、NOx浄化性能が低くなり、Cuが6.0質量%を超えると、高温でアンモニア酸化が促進され、NOxの浄化性能が低下する。Cuの担持量は、蛍光X線分析(XRF)を用いて測定することができる。
【0041】
Cuイオン交換方法としては、酢酸銅水溶液、硝酸銅水溶液、硫酸銅水溶液および塩化銅水溶液から選ばれる1種の水溶液にゼオライトを浸漬することで、行うことができる。これらのうち、酢酸銅水溶液が好ましい。一度で多量のCuを担持することができるためである。例えば、銅濃度が0.1〜2.5質量%の酢酸銅(II)水溶液を溶液温度が室温〜50℃、大気圧にてイオン交換を行うことで、ゼオライトに銅を担持できる。
【0042】
本発明のCHA型ゼオライトは、触媒、吸着剤、イオン交換体などとして好適に使用することができる。これらのうち、本発明のCHA型ゼオライトを用いて成形されたハニカム触媒もまた、本発明の1つである。
【0043】
次に、本発明のゼオライトの製造方法について説明する。
本発明のゼオライトの製造方法は、上記した本発明のゼオライトを製造する方法であって、Si源、Al源、アルカリ源、水及び構造規定剤からなる原料組成物を反応させることにより、ゼオライトを合成する合成工程と、上記合成工程により合成されたゼオライトに硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を用いて、ゼオライト中のKを調整するK調整工程とを含むことを特徴とする。
【0044】
本発明の第1のゼオライトの製造方法においては、まず、Si源、Al源、アルカリ源、水及び構造規定剤からなる原料組成物を準備する。
【0045】
Si源とは、ゼオライトのシリコン成分の原料となる化合物、塩及び組成物をいう。
Si源としては、例えば、コロイダルシリカ、無定型シリカ、珪酸ナトリウム、テトラエチルオルトシリケート、アルミノシリケートゲル等を用いることができ、これらを二種以上併用してもよい。これらの中では、平均粒子径が0.1〜0.5μmのゼオライトを得ることができる点で、コロイダルシリカが望ましい。
【0046】
Al源としては、例えば、硫酸アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、水酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、アルミノ−シリケートゲル、乾燥水酸化アルミニウムゲル等が挙げられる。これらのなかでは、水酸化アルミニウム、乾燥水酸化アルミニウムゲルが好ましい。
【0047】
本発明のゼオライトの製造方法においては、目的とするCHA型ゼオライトを製造するためには、ほぼ製造されるゼオライトのモル比(SiO
2/Al
2O
3)と同じモル比のSi源、Al源を用いることが望ましく、原料組成物中のモル比(SiO
2/Al
2O
3)を、5〜30とすることが望ましく、10〜15とすることがより望ましい。
【0048】
アルカリ源としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、アルミン酸塩及び珪酸塩中のアルカリ成分、アルミノシリケートゲル中のアルカリ成分等を用いることができ、これらを二種以上併用してもよい。これらの中では、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムが望ましい。ゼオライトの単相を得るためには特に水酸化カリウムが好ましい。
【0049】
水の量は、特に限定されるものではないが、Si源のSi及びAl源のAlの合計モル数に対する水のモル数の比(H
2Oモル数/Si及びAlの合計モル数)が12〜30であることが望ましく、Si源のSi及びAl源のAlの合計モル数に対する水のモル数の比(H
2Oモル数/Si及びAlの合計モル数)が15〜25であることがより望ましい。
【0050】
構造規定剤(以下、SDAとも記載する)とは、ゼオライトの細孔径や結晶構造を規定する有機分子を示す。構造規定剤の種類等によって、得られるゼオライトの構造等を制御することができる。
構造規定剤としては、N,N,N−トリアルキルアダマンタンアンモニウムをカチオンとする水酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、メチルカーボネート塩、硫酸塩及び硝酸塩;及びN,N,N−トリメチルベンジルアンモニウムイオン、N−アルキル−3−キヌクリジノールイオン、またはN,N,N−トリアルキルエキソアミノノルボルナンをカチオンとする水酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、メチルカーボネート塩、硫酸塩及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いることができる。これらの中では、N,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウム水酸化物(以下、TMAAOHとも記載する)、N,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウムハロゲン化物、N,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウム炭酸塩、N,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウムメチルカーボネート塩及びN,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウム硫酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いることが望ましく、TMAAOHを用いることがより望ましい。
【0051】
本発明のゼオライトの製造方法においては、原料組成物に、さらにゼオライトの種結晶を加えてもよい。種結晶を用いることにより、ゼオライトの結晶化速度が速くなり、ゼオライト製造における時間が短縮でき、収率が向上する。
【0052】
ゼオライトの種結晶としては、CHA構造を有するゼオライトを用いることが望ましい。
【0053】
ゼオライトの種結晶の添加量は、少ない方が望ましいが、反応速度や不純物の抑制効果等を考慮すると、原料組成物に含まれるシリカ成分に対して、0.1〜20質量%であることが望ましく、0.5〜15質量%であることがより望ましい。
【0054】
本発明のゼオライトの製造方法においては、準備した原料組成物を反応させることにより、ゼオライトを合成する。具体的には、原料組成物を水熱合成することによりゼオライトを合成することが望ましい。
【0055】
水熱合成に用いられる反応容器は、既知の水熱合成に用いられるものであれば特に限定されず、オートクレーブなどの耐熱耐圧容器であればよい。反応容器に原料組成物を投入して密閉して加熱することにより、ゼオライトを結晶化させることができる。
【0056】
ゼオライトを合成する際、原料混合物は静置した状態でもよいが、攪拌混合した状態であることが望ましい。
【0057】
ゼオライトを合成する際の加熱温度は、100〜200℃であることが望ましく、120〜180℃であることがより望ましい。加熱温度が100℃未満であると、結晶化速度が遅くなり、収率が低下しやすくなる。一方、加熱温度が200℃を超えると、不純物が発生しやすくなる。
【0058】
ゼオライトを合成する際の加熱時間は、10〜200時間であることが望ましい。加熱時間が10時間未満であると、未反応の原料が残存し、収率が低下しやすくなる。一方、加熱時間が200時間を超えても、収率や結晶性の向上がほとんど見られない。
【0059】
ゼオライトを合成する際の圧力は特に限定されず、密閉容器中に入れた原料組成物を上記温度範囲に加熱したときに生じる圧力で充分であるが、必要に応じて、窒素ガスなどの不活性ガスを加えて昇圧してもよい。
【0060】
本発明のゼオライトの製造方法においては、上記方法によりゼオライトを合成した後、充分に放冷し、固液分離し、充分量の水で洗浄することが望ましい。
【0061】
次の工程では、合成工程により合成されたゼオライトに硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を用いて、ゼオライト中のKを調整する。
具体的には、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を水に溶解させ、この溶液にゼオライトを加え、4〜100℃で0.1〜3時間撹拌を行うことで、ゼオライト中のKをアンモニウムイオンで置換し、Kを調整する。このとき、ゼオライト1gに対して、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上に含まれるアンモニウムイオンが0.5〜6mol/Lである水溶液を、0.5〜20gとすることが好ましい。これにより、ゼオライト中のKの含有量を、K
2O換算で0.1〜1質量%とすることができる。
【0062】
合成されたゼオライトは、細孔内にSDAを含有しているため、必要に応じてこれを除去してもよい。例えば、酸性溶液又はSDA分解成分を含む薬液を用いた液相処理、レジンなどを用いた交換処理、熱分解処理などにより、SDAを除去することができる。
【0063】
以上の工程を経ることにより、CHA構造を有し、組成比SiO
2/Al
2O
3が15未満で、Kの含有量がK
2O換算で0.1〜1質量%のゼオライトを製造することができる。
【0064】
次に、本発明のハニカム触媒について説明する。
本発明のハニカム触媒は、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されたハニカムユニットを備えたハニカム触媒であって、前記ハニカムユニットは、ゼオライトと無機バインダとからなり、前記ゼオライトとして、上記した本発明のゼオライトが用いられていることを特徴とする。
【0065】
図1に、本発明のハニカム触媒の一例を示す。
図1に示すハニカム触媒10は、複数の貫通孔11aが隔壁11bを隔てて長手方向に並設された単一のハニカムユニット11を備えており、ハニカムユニット11の外周面には外周コート層12が形成されている。また、ハニカムユニット11は、ゼオライトと無機バインダとを含んでいる。
【0066】
本発明のハニカム触媒では、ハニカムユニットの隔壁の最大ピーク気孔径(以下、ハニカムユニットの最大ピーク気孔径と記載する場合がある)は、0.03〜0.15μmであることが望ましく、0.05〜0.10μmであることがより望ましい。
【0067】
なお、ハニカムユニットの気孔径は、水銀圧入法を用いて測定することができる。この時の水銀の接触角を130°、表面張力を485mN/mとして、気孔径が0.01〜100μmの範囲で測定する。この範囲での最大ピークとなる時の気孔径の値を最大ピーク気孔径という。
【0068】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットの気孔率は、40〜70%であることが望ましい。ハニカムユニットの気孔率が40%未満であると、ハニカムユニットの隔壁の内部まで排ガスが侵入しにくくなって、ゼオライトがNOxの浄化に有効に利用されなくなる。一方、ハニカムユニットの気孔率が70%を超えると、ハニカムユニットの強度が不十分となる。
【0069】
なお、ハニカムユニットの気孔率は、重量法により測定することができる。
重量法での気孔率の測定方法は下記の通りである。
ハニカムユニットを7セル×7セル×10mmの大きさに切断して測定試料とし、この試料をイオン交換水およびアセトンを用いて超音波洗浄した後、オーブンにて100℃で乾燥する。次いで、測定顕微鏡(Nikon製 Measuring Microscope MM−40 倍率100倍)を用いて、試料の断面形状の寸法を計測し、幾何学的な計算から体積を求める。なお、幾何学的な計算から体積を求めることができない場合は、断面写真の画像処理により体積を計算する。
その後、計算上求められた体積およびピクノメーターで測定した試料の真密度から、試料が完全な緻密体であったと仮定した場合の重量を計算する。
なお、ピクノメーターでの測定手順は、以下の通りとする。ハニカムユニットを粉砕し、23.6ccの粉末を調整し、得られた粉末を200℃で8時間乾燥させる。その後、Auto Pycnometer 1320(Micromeritics社製)を用いて、JIS−R−1620(1995)に準拠し真密度を測定する。なお、この時の排気時間は40minとする。
次に、試料の実際の重量を電子天秤(島津製作所製 HR202i)にて測定し、気孔率を以下の計算式にて計算する。
100−(実際の重量/緻密体としての重量)×100(%)
【0070】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットに含まれるゼオライトは、上記した本発明のCHA構造を有するゼオライトであって、その組成比SiO
2/Al
2O
3が15未満であり、ゼオライト中に含有されるKの含有量が、K
2O換算で0.1〜1質量%である。
上記ゼオライトは、本発明のゼオライトの説明において詳しく説明したので、ここでは詳しい説明を省略することとする。
【0071】
ハニカムユニット中のCHA型ゼオライトの含有量は、40〜90体積%であることが望ましく、50〜80体積%であることがより望ましい。CHA型ゼオライトの含有量が40体積%未満であると、NOxの浄化性能が低下する。一方、CHA型ゼオライトの含有量が90体積%を超えると、その他に含有する材料の量が少なすぎて、強度が低下しやすくなる。
【0072】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットは、本発明の効果を損なわない範囲内で、CHA型ゼオライト以外のゼオライトおよびシリコアルミノリン酸塩(SAPO)を含んでいてもよい。
【0073】
本発明のハニカム触媒においては、CHA型ゼオライトが、Cuイオンでイオン交換されていることが望ましい。この場合、ハニカムユニットは、ゼオライトに対してCuを3.5〜6.0質量%含有することが望ましく、Cuを4.0〜5.5質量%含有することがより望ましい。Cuの含有量が多いので、高いNOx浄化性能を示す。
【0074】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットは、CHA型ゼオライトをハニカムユニットの見掛けの体積当たり150〜320g/L含有することが望ましく、180〜300g/L含有することがより望ましい。
【0075】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットに含まれる無機バインダとしては、特に限定されないが、ハニカム触媒としての強度を保つという観点から、アルミナゾル、シリカゾル、チタニアゾル、水ガラス、セピオライト、アタパルジャイト、ベーマイト等に含まれる固形分が好適なものとして挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0076】
ハニカムユニット中の無機バインダの含有量は、3〜20体積%であることが望ましく、5〜15体積%であることがより望ましい。無機バインダの含有量が3体積%未満であると、ハニカムユニットの強度が低下する。
一方、無機バインダの含有量が20体積%を超えると、ハニカムユニット中のゼオライトの含有量が低下して、NOxの浄化性能が低下する。
【0077】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットは、ハニカムユニットの気孔径を調整するために、無機粒子をさらに含んでいてもよい。
【0078】
ハニカムユニットに含まれる無機粒子としては、特に限定されないが、例えば、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ、セリア、マグネシア等の粒子が挙げられる。これらは二種以上併用してもよい。無機粒子は、アルミナ、チタニア及びジルコニアからなる群より選択される一種以上の粒子であることが望ましく、アルミナ、チタニア及びジルコニアのいずれか一種の粒子であることがより望ましい。
【0079】
無機粒子の平均粒子径は、0.01〜1.0μmであることが望ましく、0.03〜0.5μmであることがより望ましい。無機粒子の平均粒子径が0.01〜1.0μmであると、ハニカムユニットの気孔径を調整することが可能となる。
なお、無機粒子の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布(体積基準)における積算値50%での粒径(Dv50)である。
【0080】
ハニカムユニット中の無機粒子の含有量は、10〜40体積%であることが望ましく、15〜35体積%であることがより望ましい。無機粒子の含有量が10体積%未満であると、無機粒子の添加によるハニカムユニットの線膨張係数の絶対値を下げる効果が小さく、熱応力によってハニカムユニットが破損しやすくなる。一方、無機粒子の含有量が40体積%を超えると、CHA型ゼオライトの含有量が低下して、NOxの浄化性能が低下する。
【0081】
CHA型ゼオライト及び無機粒子の体積比(CHA型ゼオライト:無機粒子)は、望ましくは50:50〜90:10であり、より望ましくは60:40〜80:20である。CHA型ゼオライト及び無機粒子の体積比が上記の範囲にあると、NOxの浄化性能を保ちつつ、ハニカムユニットの気孔径の調整することが可能となる。
【0082】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットは、強度を向上させるために、無機繊維、鱗片状物質、からなる群より選択される一種以上をさらに含んでいてもよい。
【0083】
ハニカムユニットに含まれる無機繊維は、アルミナ、シリカ、炭化ケイ素、シリカアルミナ、ガラス、チタン酸カリウム及びホウ酸アルミニウムからなる群より選択される一種以上からなることが望ましい。ハニカムユニットに含まれる鱗片状物質は、ガラス、白雲母、アルミナ及びシリカからなる群より選択される一種以上からなることが望ましい。いずれも耐熱性が高く、SCRシステムにおける触媒担体として使用した時でも、溶損などがなく、補強材としての効果を持続することができるためである。
【0084】
ハニカムユニット中の無機繊維、鱗片状物質、の含有量は、3〜30体積%であることが望ましく、5〜20体積%であることがより望ましい。上記含有量が3体積%未満であると、ハニカムユニットの強度を向上させる効果が小さくなる。一方、上記含有量が30体積%を超えると、ハニカムユニット中のゼオライトの含有量が低下して、NOxの浄化性能が低下する。
【0085】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の開口率は、50〜75%であることが望ましい。ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の開口率が50%未満であると、ゼオライトがNOxの浄化に有効に利用されなくなる。一方、ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の開口率が75%を超えると、ハニカムユニットの強度が不十分となる。
【0086】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の貫通孔の密度は、31〜155個/cm
2であることが望ましい。ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の貫通孔の密度が31個/cm
2未満であると、ゼオライトと排ガスが接触しにくくなって、NOxの浄化性能が低下する。一方、ハニカムユニットの長手方向に垂直な断面の貫通孔の密度が155個/cm
2を超えると、ハニカム触媒の圧力損失が増大する。
【0087】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットの隔壁の厚さは、0.1〜0.4mmであることが望ましく、0.1〜0.3mmであることがより望ましい。ハニカムユニットの隔壁の厚さが0.1mm未満であると、ハニカムユニットの強度が低下する。一方、ハニカムユニットの隔壁の厚さが0.4mmを超えると、ハニカムユニットの隔壁の内部まで排ガスが侵入しにくくなって、ゼオライトがNOxの浄化に有効に利用されなくなる。
【0088】
本発明のハニカム触媒において、ハニカムユニットに外周コート層が形成されている場合、外周コート層の厚さは、0.1〜2.0mmであることが望ましい。外周コート層の厚さが0.1mm未満であると、ハニカム触媒の強度を向上させる効果が不十分になる。一方、外周コート層の厚さが2.0mmを超えると、ハニカム触媒の単位体積当たりのゼオライトの含有量が低下して、NOxの浄化性能が低下する。
【0089】
本発明のハニカム触媒の形状としては、円柱状に限定されず、角柱状、楕円柱状、長円柱状、丸面取りされている角柱状(例えば、丸面取りされている三角柱状)等が挙げられる。
【0090】
本発明のハニカム触媒において、貫通孔の形状としては、四角柱状に限定されず、三角柱状、六角柱状等が挙げられる。
【0091】
次に、
図1に示すハニカム触媒10の製造方法の一例について説明する。
まず、ゼオライトと無機バインダとを含み、必要に応じて、無機繊維、鱗片状物質、からなる群より選択される一種以上や無機粒子をさらに含む原料ペーストを用いて押出成形し、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されている円柱状のハニカム成形体を作製する。
【0092】
原料ペーストに含まれる無機バインダは、特に限定されないが、アルミナゾル、シリカゾル、チタニアゾル、水ガラス、セピオライト、アタパルジャイト、ベーマイト等として添加されており、二種以上併用してもよい。
【0093】
また、原料ペーストには、有機バインダ、分散媒、成形助剤等を、必要に応じて適宜添加してもよい。
【0094】
有機バインダとしては、特に限定されないが、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレングリコール、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、二種以上併用してもよい。なお、有機バインダの添加量は、ゼオライト、無機粒子、無機バインダ、無機繊維、鱗片状物質の総質量に対して、1〜10%であることが望ましい。
【0095】
分散媒としては、特に限定されないが、水、ベンゼン等の有機溶媒、メタノール等のアルコール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0096】
成形助剤としては、特に限定されないが、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0097】
さらに、原料ペーストには、必要に応じて造孔材を添加してもよい。
造孔材としては、特に限定されないが、ポリスチレン粒子、アクリル粒子、澱粉等が挙げられ、二種以上併用してもよい。これらの中では、ポリスチレン粒子が望ましい。
【0098】
CHA型ゼオライト及び造孔材の粒子径を制御することにより、隔壁の気孔径分布を所定の範囲に制御することができる。
【0099】
また、造孔材を添加しない場合であっても、CHA型ゼオライト及び無機粒子の粒子径を制御することにより、隔壁の気孔径分布を所定の範囲に制御することができる。
【0100】
原料ペーストを調製する際には、混合混練することが望ましく、ミキサー、アトライタ等を用いて混合してもよく、ニーダー等を用いて混練してもよい。
【0101】
次に、マイクロ波乾燥機、熱風乾燥機、誘電乾燥機、減圧乾燥機、真空乾燥機、凍結乾燥機等の乾燥機を用いて、ハニカム成形体を乾燥してハニカム乾燥体を作製する。
【0102】
さらに、ハニカム乾燥体を脱脂してハニカム脱脂体を作製する。脱脂条件は、ハニカム乾燥体に含まれる有機物の種類及び量によって適宜選択することができるが、200〜500℃で2〜6時間であることが望ましい。
【0103】
次に、ハニカム脱脂体を焼成することにより、円柱状のハニカムユニット11を作製する。焼成温度は、600〜1000℃であることが望ましく、600〜800℃であることがより望ましい。焼成温度が600℃未満であると、焼結が進行せず、ハニカムユニット11の強度が低くなる。一方、焼成温度が1000℃を超えると、焼結が進行しすぎて、ゼオライトの反応サイトが減少する。
【0104】
次に、円柱状のハニカムユニット11の両端面を除く外周面に外周コート層用ペーストを塗布する。
【0105】
外周コート層用ペーストとしては、特に限定されないが、無機バインダ及び無機粒子の混合物、無機バインダ及び無機繊維の混合物、無機バインダ、無機粒子及び無機繊維の混合物等が挙げられる。
【0106】
外周コート層用ペーストに含まれる無機バインダは、特に限定されないが、シリカゾル、アルミナゾル等として添加されており、二種以上併用してもよい。中でも、シリカゾルとして添加されていることが望ましい。
【0107】
外周コート層用ペーストに含まれる無機粒子としては、特に限定されないが、ゼオライト、ユークリプタイト、アルミナ、シリカ等の酸化物粒子、炭化ケイ素等の炭化物粒子、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物粒子等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、ハニカムユニットとの熱膨張係数が近いユークリプタイトの粒子が望ましい。
【0108】
外周コート層用ペーストに含まれる無機繊維としては、特に限定されないが、シリカアルミナ繊維、ムライト繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、アルミナ繊維が望ましい。
【0109】
外周コート層用ペーストは、有機バインダをさらに含んでいてもよい。
【0110】
外周コート層用ペーストに含まれる有機バインダとしては、特に限定されないが、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0111】
外周コート層用ペーストは、酸化物系セラミックスの微小中空球体であるバルーン、造孔材等をさらに含んでいてもよい。
【0112】
外周コート層用ペーストに含まれるバルーンとしては、特に限定されないが、アルミナバルーン、ガラスマイクロバルーン、シラスバルーン、フライアッシュバルーン、ムライトバルーン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、アルミナバルーンが望ましい。
【0113】
外周コート層用ペーストに含まれる造孔材としては、特に限定されないが、球状アクリル粒子、グラファイト等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0114】
次に、外周コート層用ペーストが塗布されたハニカムユニット11を乾燥固化し、円柱状のハニカム触媒10を作製する。このとき、外周コート層用ペーストに有機バインダが含まれている場合は、脱脂することが望ましい。脱脂条件は、有機物の種類及び量によって適宜選択することができるが、500℃で1時間であることが望ましい。
【0115】
本発明の排ガス浄化装置は、上記したハニカム触媒を備えている。
図2に、本発明の排ガス浄化装置の一例を示す。
図2に示す排ガス浄化装置100は、ハニカム触媒10の外周部に保持シール材20を配置した状態で、金属容器(シェル)30にキャニングすることにより作製することができる。また、排ガス浄化装置100には、排ガス(
図2中、排ガスをGで示し、排ガスの流れを矢印で示す)が流れる方向に対して、ハニカム触媒10の上流側の配管(不図示)内に、アンモニア又は分解してアンモニアを発生させる化合物を噴射する噴射ノズル等の噴射手段(図示せず)が設けられている。これにより、配管を流れる排ガス中にアンモニアが添加されるため、ハニカムユニット11に含まれるゼオライトにより、排ガス中に含まれるNOxが還元される。
【0116】
分解してアンモニアを発生させる化合物としては、配管内で加水分解されて、アンモニアを発生させることが可能であれば、特に限定されないが、貯蔵安定性に優れるため、尿素水が望ましい。
【0117】
尿素水は、配管内で排ガスにより加熱されて、加水分解し、アンモニアが発生する。本発明のゼオライトは、ゼオライト中に含有されるKの含有量が、K
2O換算で0.1〜1質量%と低いので、NOxの還元に使用されるべきアンモニアが酸化されにくく、アンモニアを充分に存在させることができる。特に排ガスの高温度域(525℃付近)でも、アンモニアが充分に存在する。
【0118】
図3に、本発明のハニカム触媒の別の一例を示す。
図3に示すハニカム触媒10´は、複数の貫通孔11aが隔壁11bを隔てて長手方向に並設されているハニカムユニット11´(
図4参照)が接着層13を介して複数個接着されている以外は、ハニカム触媒10と同一の構成である。
【0119】
ハニカムユニット11´の長手方向に垂直な断面の断面積は、10〜200cm
2であることが望ましい。上記断面積が10cm
2未満であると、ハニカム触媒10´の圧力損失が増大する。一方、上記断面積が200cm
2を超えると、ハニカムユニット11´同士を接着することが困難である。
【0120】
ハニカムユニット11´は、長手方向に垂直な断面の断面積以外は、ハニカムユニット11と同一の構成である。
【0121】
接着層13の厚さは、0.1〜3.0mmであることが望ましい。接着層13の厚さが0.1mm未満であると、ハニカムユニット11´の接着強度が不十分になる。一方、接着層13の厚さが3.0mmを超えると、ハニカム触媒10´の圧力損失が増大したり、接着層内でのクラックが発生したりする。
【0122】
次に、
図3に示すハニカム触媒10´の製造方法の一例について説明する。
まず、ハニカム触媒10を構成するハニカムユニット11と同様にして、扇柱状のハニカムユニット11´を作製する。次に、ハニカムユニット11´の円弧側を除く外周面に接着層用ペーストを塗布して、ハニカムユニット11´を接着させ、乾燥固化することにより、ハニカムユニット11´の集合体を作製する。
【0123】
接着層用ペーストとしては、特に限定されないが、無機バインダ及び無機粒子の混合物、無機バインダ及び無機繊維の混合物、無機バインダ、無機粒子及び無機繊維の混合物等が挙げられる。
【0124】
接着層用ペーストに含まれる無機バインダは、特に限定されないが、シリカゾル、アルミナゾル等として添加されており、二種以上併用してもよい。中でも、シリカゾルとして添加されていることが望ましい。
【0125】
接着層用ペーストに含まれる無機粒子としては、特に限定されないが、ゼオライト、ユークリプタイト、アルミナ、シリカ等の酸化物粒子、炭化ケイ素等の炭化物粒子、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の窒化物粒子等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、ハニカムユニットとの熱膨張係数が近いユークリプタイトの粒子が望ましい。
【0126】
接着層用ペーストに含まれる無機繊維としては、特に限定されないが、シリカアルミナ繊維、ムライト繊維、アルミナ繊維、シリカ繊維等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、アルミナ繊維が望ましい。
【0127】
また、接着層用ペーストは、有機バインダを含んでいてもよい。
【0128】
接着層用ペーストに含まれる有機バインダとしては、特に限定されないが、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0129】
接着層用ペーストは、酸化物系セラミックスの微小中空球体であるバルーン、造孔材等をさらに含んでいてもよい。
【0130】
接着層用ペーストに含まれるバルーンとしては、特に限定されないが、アルミナバルーン、ガラスマイクロバルーン、シラスバルーン、フライアッシュバルーン、ムライトバルーン等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、アルミナバルーンが望ましい。
【0131】
接着層用ペーストに含まれる造孔材としては、特に限定されないが、球状アクリル粒子、グラファイト等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【0132】
次に、真円度を上げるために必要に応じて、ハニカムユニット11´の集合体に切削加工および研磨を施し、円柱状のハニカムユニット11´の集合体を作製する。
【0133】
次に、円柱状のハニカムユニット11´の集合体の両端面を除く外周面に外周コート層用ペーストを塗布する。
【0134】
外周コート層用ペーストは、接着層用ペーストと同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【0135】
次に、外周コート層用ペーストが塗布された円柱状のハニカムユニット11´の集合体を乾燥固化することにより、円柱状のハニカム触媒10´を作製する。このとき、接着層用ペースト及び/又は外周コート層用ペーストに有機バインダが含まれている場合は、脱脂することが望ましい。脱脂条件は、有機物の種類及び量によって適宜選択することができるが、500℃で1時間であることが望ましい。
【0136】
ハニカム触媒10´は、4個のハニカムユニット11´が接着層13を介して接着されることにより構成されているが、ハニカム触媒を構成するハニカムユニットの個数は特に限定されない。例えば、16個の四角柱状のハニカムユニットが接着層を介して接着されることにより円柱状のハニカム触媒が構成されていてもよい。
【0137】
なお、ハニカム触媒10及び10´は、外周コート層12が形成されていなくてもよい。
【0138】
上述のとおり、本発明のハニカム触媒においては、ゼオライトとしてCHA型ゼオライトを用いてハニカムユニットを形成することによって、NOxの浄化性能を向上させることができる。さらに、その組成比SiO
2/Al
2O
3を15未満、上記ゼオライト中に含有されるKの含有量をK
2O換算で、0.1〜1質量%とすることにより、排ガス浄化装置の高温使用時におけるアンモニアの酸化を抑えることができる。
【実施例】
【0139】
以下、本発明をより具体的に開示した実施例を示す。なお、本発明はこの実施例のみに限定されるものではない。
【0140】
[実施例1]
Si源としてコロイダルシリカ(日産化学工業社製、スノーテックス)、Al源として乾燥水酸化アルミニウムゲル(富田製薬社製)、アルカリ源として水酸化ナトリウム(トクヤマ社製)と水酸化カリウム(東亜合成社製)、構造規定剤(SDA)としてN,N,N−トリメチルアダマンタンアンモニウム水酸化物(TMAAOH)25%水溶液(Sachem社製)、種結晶としてSSZ−13、脱イオン水を混合し、原料組成物を準備した。原料組成物のモル比は、SiO
2:15mol、Al
2O
3:1mol、NaOH:2.6mol、KOH:0.9mol、TMAAOH:1.1mol、H
2O:300molの割合とした。また原料組成物中のSiO
2、Al
2O
3に5.0質量%の種結晶を加えた。原料組成物を500Lオートクレーブに装填し、加熱温度180℃、加熱時間24時間で水熱合成を行い、ゼオライトを合成した。
【0141】
次に、硫酸アンモニウム1molを1Lの水に溶かした後、溶液4gに対してゼオライトを1gの割合で添加し、1時間撹拌を行い、ゼオライト中のKを調整した。
【0142】
次いで、合成し、K量を調整したゼオライトを、1回目のイオン交換は銅濃度が2.34質量%の酢酸銅(II)水溶液を用い、2回目のイオン交換は銅濃度が0.59質量%の酢酸銅(II)水溶液を用い、溶液温度50℃、大気圧にて1時間、イオン交換を行い、ゼオライトに4.6質量%の銅を担持した。原料組成物の配合比(モル比)及び合成条件を表1に示す。
【0143】
[実施例2]
原料組成物の配合比(モル比)及び合成条件を、表1に示したように設定したほかは、実施例1と同様にしてゼオライトを合成した。
【0144】
[比較例1]
原料組成物の配合比(モル比)及び合成条件を、表1に示したように設定したほかは、実施例1と同様にしてゼオライトを合成した。比較例1においては、原料に水酸化カリウムを用いなかった。
【0145】
[比較例2]
合成されたゼオライトのKを調整しなかったほかは、実施例2と同様にした。なお、原料組成物のモル比及び合成条件は、表1に示したように設定した。
【0146】
【表1】
【0147】
[ゼオライトの結晶構造解析用粉末の水分率調整方法]
実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトの粉末(大気中200℃、1時間以上乾燥したときの重量基準)に、15質量%のフッ化リチウムを加え、メノウ乳鉢にて30分混合し、混合した粉末をXRD測定用フォルダーに充填した。次に、室温にて飽和硫酸アンモニウム水溶液を調整し、密閉容器内に静置した。この時、密閉容器の容積に対し、全量蒸発しない程度の過剰の飽和硫酸アンモニウム水溶液を準備し行った。密閉容器内の湿度が一定になったことを確認した後、XRD測定用フォルダーに充填した粉末をフォルダーごと密閉容器内へ入れ、7時間吸湿させた。吸湿後、大気との接触を防ぐため、フォルダーの表面をパラフィルムで覆うことで、水分率の調整を行った。
【0148】
[ゼオライトの結晶構造の解析]
X線回折装置(リガク社製、Ultima IV)を用い、上記のようにして調製した実施例1で合成したゼオライトを含む結晶構造解析用粉末を用い、XRD測定を行った。測定条件は、線源:CuKα(λ=0.154nm)、測定法:FT法、回折角:2θ=5〜48°、ステップ幅:0.02°、積算時間:1秒、発散スリット、散乱スリット:2/3°、発散縦制限スリット:10mm、加速電圧:40kV、加速電流:40mAとした。なお、測定前後の重量を計測して、測定前後の結晶構造解析用粉末の重量変化が0.05質量%以内であることを確認した。
【0149】
図5〜8に、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトのXRDパターンを示す。なお、
図5が実施例1のXRDパターン、
図6が実施例2のXRDパターン、
図7が比較例1のXRDパターン、
図8が比較例2のXRDパターンを示している。
図5〜8より、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したすべてのゼオライトについて、CHA構造を有するゼオライトが合成されていることが確認された。
【0150】
得られたXRDデータを、粉末X線回折パターン総合解析ソフトJADE6.0を用いてピークサーチを行った。なお、ピークサーチの条件は、フィルタータイプ:放物線フィルター、Kα2ピークの消去:あり、ピーク位置定義:ピークトップ、閾値σ:3、ピーク強度%カットオフ:0.1、BG決定の範囲:1、BG平均化のポイント数:7とした。実施例1のゼオライトの(101)面の半値幅は0.202であり、(211)面、(104)面、(220)面のそれぞれの積分強度は、33174、11752、6435であり、その和は、51361であった。また、フッ化リチウムの(111)面、(200)面のそれぞれの積分強度は、5231、9104であり、その和は14335であった。実施例1におけるゼオライトの積分強度の和とフッ化リチウムの積分強度の和の比(X線積分強度比)は、3.58であった。
実施例2及び比較例1〜2で合成されたゼオライトに対しても、同様にしてX線積分強度比を求めた。その結果を表2に示す。
【0151】
[ゼオライトの粒子径の測定]
走査型電子顕微鏡(SEM、日立ハイテク社製、S−4800)を用いて、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトのSEM写真を撮影し、それらの粒子径を測定した。測定条件は、加速電圧:1kV、エミッション:10μA、WD:2.2mm以下とした。測定倍率は、実施例1(0.2μm程度)では50000倍、実施例2(1.0μm程度)では5000倍とした。10個の粒子の2つの対角線から粒子径を測定し、その平均値を求めた。その結果を表2に示す。
【0152】
図9は、実施例1で合成したゼオライトのSEM写真である。
図10は、実施例2で合成したゼオライトのSEM写真である。
【0153】
[ゼオライトのモル比(SAR SiO
2/Al
2O
3)の測定]
蛍光X線分析装置(XRF、リガク社製 ZSX Primus2)を用いて、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトのモル比(SAR SiO
2/Al
2O
3)を測定した。測定条件は、X線管:Rh、定格最大出力:4kW、検出元素範囲:F〜U、定量法:SQX法、分析領域:10mmφとした。その結果を表2に示す。
【0154】
[Cu担持量の測定]
蛍光X線分析装置(XRF、リガク社製 ZSX Primus2)を用いて、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトに担持されたCu量を測定した。測定条件は、X線管:Rh、定格最大出力:4kW、検出元素範囲:F〜U、定量法:SQX法、分析領域:10mmφとした。その結果を表2に示す。
【0155】
[K含有量の測定]
蛍光X線分析装置(XRF、リガク社製 ZSX Primus2)を用いて、実施例1〜2及び比較例1〜2で合成したゼオライトのK含有量(K
2O換算含有量)を測定した。
測定条件は、X線管:Rh、定格最大出力:4kW、検出元素範囲:F〜U、定量法:SQX法、分析領域:10mmφとした。その結果を表2に示す。
【0156】
[ハニカム触媒の作製]
実施例1〜2及び比較例1〜2で得られたゼオライトを40質量%、無機バインダとして擬ベーマイトを8質量%、平均繊維長が100μmのガラス繊維を7質量%、メチルセルロースを6.5質量%、界面活性剤を3.5質量%及びイオン交換水を35質量%混合混練して、原料ペーストを作成した。なお、ゼオライトは銅イオン交換後のものを用いた。
【0157】
次に、押出成形機を用いて、原料ペーストを押出成形して、ハニカム成形体を作製した。そして減圧マイクロ波乾燥機を用いて、ハニカム成形体を出力4.5kW、減圧6.7kPaで7分間乾燥させた後、酸素濃度1%、700℃で5時間脱脂焼成して、ハニカム触媒(ハニカムユニット)を作製した。ハニカムユニットは、一辺が35mm、長さが150mmの正四角柱状であり、貫通孔の密度が124個/cm
2、隔壁の厚さが0.20mmであった。
【0158】
[NOxの浄化率の測定]
ハニカムユニットからダイヤモンドカッターを用いて、直径25.4mm、長さ38.1mmの円柱状試験片を切り出した。この試験片に、200℃の模擬ガスを空間速度(SV)を40000/hrで流しながら、触媒評価装置(堀場製作所製、SIGU−2000/MEXA−6000FT)を用いて、試験片から流出するNOx流出量を測定し、下記の式(1)
(NOxの流入量−NOxの流出量)/(NOxの流入量)×100・・・(1)
で表されるNOxの浄化率[%]を算出した。なお、模擬ガスの構成成分は、一酸化窒素262.5ppm、二酸化窒素87.5ppm、アンモニア350ppm、酸素10%、二酸化炭素5%、水5%、窒素(balance)とした。
同様に、525℃の模擬ガスをSV:100000/hrで流しながら、NOxの浄化率[%]を算出した。この時の模擬ガスの構成成分は、一酸化窒素315ppm、二酸化窒素35ppm、アンモニア385ppm、酸素10%、二酸化炭素5%、水5%、窒素(balance)とした。実施例1〜2及び比較例1〜2で得られたゼオライトを使用したハニカム触媒のNOxの浄化率を表2に示す。
【0159】
[吸水変位の測定]
ハニカムユニットからダイヤモンドカッターを用いて、一辺が35mm、長さが10mmの正四角柱状の試験片を切り出した。この試験片を乾燥機にて200℃、2hr乾燥した。その後、測定顕微鏡(Nikon製Measuring Microscope MM−40 倍率100倍)を用いて、絶乾時の最外壁間の距離(試験片のハニカム最外壁から反対側の最外壁間の距離)を測定した。測定位置は、試験片の外周辺の中心部で、片側のみとした。次いで、試験片を水中に1hr浸漬し、エアブローで試験片表面の水を除去した後、同様の測定方法で、吸水時の最外壁間の距離を測定した。吸水変位は、式(2)
(絶乾時の最外壁間の距離−吸水時の最外壁間の距離)/(絶乾時の最外壁間の距離)×100・・・(2)
で算出した。実施例1〜2及び比較例2で得られたゼオライトを使用したハニカム触媒の吸水変位を表2に示す。
【0160】
【表2】
【0161】
実施例1〜2で得られたゼオライトは、モル比(SiO
2/Al
2O
3)が15未満であり、KのK
2O換算の含有量が実施例1(0.3%)、実施例2(0.2%)と極めて低く、これを用いて作製したハニカム触媒は、200℃におけるNOx浄化率は、実施例1(92.4%)、実施例2(92.6%)と高く、525℃におけるNOx浄化率も実施例1(95.8%)、実施例2(94.7%)と高かった。
一方、比較例1で得られたゼオライトは、モル比(SiO
2/Al
2O
3)は15未満であり、KのK
2O換算の含有量が0%であったが、KのK
2O換算の含有量を0%で製造するためにH
2O比率を2倍程度高くする必要があり、コストが高くつくことが分かった。
また、比較例2で得られたゼオライトは、モル比(SiO
2/Al
2O
3)は13.1であり、Cu担持量が5.5質量%と高かったものの、KのK
2O換算の含有量が1.8%と高かったので、NOx浄化率は満足できるものではなく、特に525℃におけるNOxの浄化率は78.2%と低かった。
また、実施例1で得られたゼオライトは、粒子径が0.25μmと小さいため、吸水変位が0.19%と小さく、ハニカムユニットの試験片にクラックが生じなかった。
【0162】
本発明のゼオライトは、CHA構造を有するゼオライトであって、その組成比SiO
2/Al
2O
3が15未満であり、ゼオライト中に含有されるKの含有量がK
2O換算で0.1〜1質量%であることを必須の構成要件としている。本発明のゼオライトの製造方法は、Si源、Al源、アルカリ源、水及び構造規定剤からなる原料組成物を反応させることにより、ゼオライトを合成する合成工程と、前記合成工程により合成されたゼオライトに硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウムから選ばれる1種以上を用いて、ゼオライト中のKを調整するK調整工程とを含むことを必須の構成要件としている。本発明のハニカム触媒は、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されたハニカムユニットを備えたハニカム触媒であって、前記ハニカムユニットは、ゼオライトと無機バインダとからなり、前記ゼオライトとして、上記ゼオライトが用いられていることを必須の構成要件としている。本発明の排ガス浄化装置は、上記したハニカム触媒を備えていることを必須の構成要件としている。
係る必須の構成要件に、本発明の詳細な説明で詳述した種々の構成(例えば、X線積分強度比、Cuの担持量、比表面積、Si源の構成、構造規定剤の構成、水熱合成の条件、ハニカムユニットの構成、ハニカム触媒の焼成条件等)を適宜組み合わせることにより、所望の効果を得ることができる。