特許 5732785 過フッ化無機酸リチウム塩の安定化溶媒溶液

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5732785

(24)【登録日】2015年4月24日

(45)【発行日】2015年6月10日

(54)【発明の名称】過フッ化無機酸リチウム塩の安定化溶媒溶液

(51)【国際特許分類】

   C07D 207/267 20060101AFI20150521BHJP

   C01B 25/455 20060101ALI20150521BHJP

   C07D 317/38 20060101ALI20150521BHJP

   C07D 233/34 20060101ALI20150521BHJP

   C07D 233/74 20060101ALI20150521BHJP

【ＦＩ】

   C07D207/267

   C01B25/455

   C07D317/38

   C07D233/34

   C07D233/74

【請求項の数】2

【全頁数】9

(21)【出願番号】特願2010-200902(P2010-200902)

(22)【出願日】2010年9月8日

(65)【公開番号】特開2012-56872(P2012-56872A)

(43)【公開日】2012年3月22日

【審査請求日】2013年6月28日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000206

【氏名又は名称】宇部興産株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100134566

【弁理士】

【氏名又は名称】中山 和俊

(72)【発明者】

【氏名】西野 繁栄

(72)【発明者】

【氏名】島 秀好

【審査官】 早乙女 智美

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−０３０９８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００３／０９１１９８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０００−０２１４０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−３３８６５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−２５９１８９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−２９１９９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−２７７１２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭５８−０２８１７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 R. Naejus et al.，Nouveau procede de synthese de l'hexafluorophosphate de lithium，Journal of Fluorine Chemistry，１９９８年，90(1)，p. 81-85

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｄ ２０７／２６７

Ｃ０７Ｄ ２３３／３４−２３３／７４

Ｃ０７Ｄ ３１７／３８

Ｃ０１Ｂ ２５／４５５

Ｈ０１Ｍ １０／００

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

ＪＳＴＰｌｕｓ／ＪＳＴ７５８０／ＪＳＴＣｈｉｎａ（ＪＤｒｅａｍＩＩＩ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

リチウム化合物と一般式（２）

【化1】

（式中、Ｍはリン、ｎは６である。）
で示される過フッ化無機酸とを、水／有機溶媒の混合溶媒中で反応させることによって得られる、一般式（１）

【化2】

（式中、Ｍはリン、ｎは６である。）
で示される過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液と、炭酸エステル類、アミド類、尿素類又はそれらの混合溶媒である安定化溶媒とを混合した後、脱水処理する、過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液の製造方法。
但し、有機溶媒と安定化溶媒とは異なる。

【請求項2】

過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液における安定化溶媒の存在量が、過フッ化無機酸リチウム１モルに対して０．５〜１０モルである、請求項１に記載の過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、過フッ化無機酸リチウム塩の安定化溶媒溶液の製造方法に関する。過フッ化無機酸リチウム塩の安定化溶媒溶液は、大気中で不安定な過フッ化無機酸リチウム（固体）を得るための原料として、又、過フッ化無機酸リチウムの運搬溶液として使用できる。なお、過フッ化無機酸リチウム、例えば、六フッ化リン酸リチウム、四フッ化ホウ酸リチウム等）は、例えば、有機合成反応用触媒や半導体材料のドーピング剤、リチウムイオン電池の電解質として有用な化合物である。

【背景技術】

【0002】

従来、過フッ化無機酸リチウム、例えば、六フッ化リン酸リチウムの製造方法としては、無水フッ酸中、五フッ化リンとフッ化リチウムとを反応させる方法（例えば、特許文献１参照）や六フッ化リン酸カリウムと塩化リチウムとを反応させる方法（例えば、特許文献２参照）等が開示されている。

【0003】

又、四フッ化ホウ酸リチウムの製造方法としては、例えば、水溶媒中、四フッ化ホウ酸と炭酸リチウムとを反応させて四フッ化ホウ酸リチウム水溶液を得た後、水を減圧除去した上で得られた固体を９０〜１６０℃で真空乾燥する方法（例えば、特許文献３参照）や炭酸リチウムと三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体とをジエチルエーテル中で反応させる方法（例えば、非特許文献１参照）等が開示されている。

【0004】

【特許文献1】特開２０００−８２４７４号

【特許文献2】米国特許第５３７８４４５号

【特許文献3】中国特許第１０１３１８６６４号

【特許文献4】特願２０１０−０４８４５４号

【非特許文献1】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，７５，１７５３（１９５３）

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

一般的に過フッ化無機酸リチウムは、公知の化合物であり、通常は固体の試薬として市販されているが、大気中の少量の水分に対しては極めて弱く、フッ化水素ガスを発生させながら分解するという取り扱いが煩雑な化合物でもある。ゆえに、固体の過フッ化無機酸リチウムの単離取得やその運搬、有機溶液の調製において、水分混入を避けるため細心の注意が必要であった。更に、本発明の過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液から得られる過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液については何ら知られていなかった。

【0006】

本発明の課題は、即ち、有機合成反応用触媒や半導体材料のドーピング剤、リチウムイオン電池の電解質として有用な過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の課題は、一般式（１）

【0008】

【化1】

【0009】

（式中、Ｍは非金属元素又は金属元素を示し、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示される過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液と安定化溶媒とを混合した後、脱水処理することによって得られる過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液によって解決される。

【発明の効果】

【0010】

本発明により、有機合成反応用触媒や半導体材料のドーピング剤、リチウムイオン電池の電解質として有用な過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】各種六フッ化リン酸リチウム付加化合物のＸＲＤ測定を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

本発明の過フッ化無機酸リチウムとは、非金属元素（例えば、リン、ホウ素）又は非金属元素（例えば、ヒ素、アンチモン）が過フッ化されたアニオンとリチウムカチオンとから構成される一般式（１）

【0013】

【化2】

【0014】

（式中、Ｍは非金属元素又は金属元素を示し、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示される化合物を示す。

【0015】

前記非金属元素としては、好ましくはリン又はホウ素であり、前記金属元素としては、好ましくはヒ素又はアンチモンである。又、ｎは１〜６の整数を示す。

【0016】

前記一般式（１）で示される過フッ化無機酸リチウムとしては、具体的には、例えば、六フッ化リン酸リチウム、四フッ化ホウ酸リチウム、六フッ化アンチモン酸リチウム、六フッ化ヒ酸リチウム等が挙げられるが、好ましくは六フッ化リン酸リチウム、四フッ化ホウ酸リチウムである。

【0017】

本発明の過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液における安定化溶媒とは、脱水処理時に過フッ化無機酸リチウムの分解を抑制する溶媒をいう。

【0018】

前記安定化溶媒としては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジフェニルカーボネート等の炭酸エステル類；ブチロラクトンなどのカルボン酸エステル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノン等のアミド類；１，３−ジメチルイミダゾリジノン、１、３−ジメチル−２，４−イミダゾリジン−ジオン等の尿素類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、１，２−ジメトキシメタン、１，２−ジエトキシエタン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサン、オキセタン、１８−クラウン−６−エ−テル、ジフェニルエーテル等のエーテル類が挙げられるが、好ましくは炭酸エステル類、アミド類、尿素類、更に好ましくは１，４−ジオキサン、１８−クラウン−６−エ−テル、ブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリジノン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、１、３−ジメチル−２，４−イミダゾリジン−ジオン、特に好ましくは、エチレンカーボネート、Ｎ−メチルピロリジノン、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、１、３−ジメチル−２，４−イミダゾリジン−ジオンが使用される。

【0019】

過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液における安定化溶媒の存在量は、過フッ化無機酸リチウム１モルに対して、好ましくは０．５〜１０モル、更に好ましくは１．０〜７．０モル、特に好ましくは１．５〜５．５モルである。前記存在量とすることで、過フッ化無機酸リチウム錯体の脱水処理中の分解が抑制される。

【0020】

本発明の過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液は、一般式（１）

【0021】

【化3】

【0022】

（式中、Ｍは非金属元素又は金属元素を示し、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示される過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液と安定化溶媒とを混合した後、脱水処理することによって得られる。

【0023】

前記過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液は、過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液は、リチウム化合物と一般式（２）

【0024】

【化4】

【0025】

（式中、Ｍ及びｎは前記と同義である。）
で示される過フッ化無機酸とを、水／有機溶媒の混合溶媒中で反応させることによって得られる（例えば、特許文献４参照）。

【0026】

本発明の脱水処理とは、過フッ化無機酸リチウムの水／有機溶媒混合溶液から水を除去する操作であれば特に限定されないが、好ましくは水と共沸組成を有する共沸溶媒を加えた後に有機溶媒を留去させながら水を除去する形態で実施される。なお、圧力は特に制限されない。

【0027】

前記共沸溶媒としては、好ましくは水と共沸組成を有するものであれば特に制限されないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ナフタレン、シクロヘキサンなどの炭化水素類；クロロベンゼン、ブロモベンゼン、クロロホルム、４塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類；ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化炭化水素類；炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の炭酸エステル類；ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸フェニル、酢酸ベンジル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪産プロピル、酪酸ブチル、安息香酸メチル等のカルボン酸エステル類；硝酸プロピル、硝酸ブチル等の硝酸エステル類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、アニソール、ジフェニルエーテル、パラアルデヒド、トリオキサン等のエーテル類；メチルエチルケトン、ブタノン、ペンタノン等のケトン類；エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、へキサノール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール等のアルコール類；フェノール、クロロフェノール等のフェノール類；ピリジン、メチルピリジン等のピリジン類；ギ酸、酢酸、酪酸、塩酸、臭化水素、ヨウ化水素、硝酸等の酸類；ヒドラジン、ピペリジン等のアミン類が挙げられるが、好ましくは炭化水素類、炭酸エステル類、カルボン酸エステル類、ニトリル類、更に好ましくは炭酸エステル類が用いられる。なお、上記共沸溶媒は２種類以上混合して使用しても良い。

【0028】

前記共沸溶媒の使用量は過フッ化無機酸リチウム１ｇに対して、好ましくは０．１〜５００ｇ、好ましくは０．５〜２００ｇ、更に好ましくは１〜１００ｇである。

【0029】

本発明においては、過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液を濃縮及び／又は貧溶媒とを混合する等して、過フッ化無機酸リチウム付加化合物を取得することができる。ここで過フッ化無機酸リチウム付加化合物とは、過フッ化無機酸リチウムに安定化溶媒が１〜６分子配位している化合物をいう。

【0030】

前記貧溶媒としては、過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液から過フッ化無機酸リチウム付加化合物を固体として析出させるものであれば特に限定されないが、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカンなどの脂肪族炭化水素類；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ビスターシャリーブチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、トリイソプロピルベンゼン、ペンタメチルベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、パーフルオロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、パークロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジブロモベンゼン、トリブロモベンゼン、ヨードベンゼン、ジヨードベンゼン等の芳香族炭化水素類：炭酸ジブチル、炭酸ペンチル、炭酸ヘキシル等の炭酸エステル類が挙げられるが、好ましくはハロゲン化炭化水素類；芳香族炭化水素類、更に好ましくは塩化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレンが使用される。

【0031】

前記貧溶媒の使用量は過フッ化無機酸リチウム１ｇに対して、好ましくは０．１〜５００ｇ、好ましくは０．５〜２００ｇ、更に好ましくは１〜１００ｇである。

【実施例】

【0032】

次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。なお、生成物や加水分解物の分析は以下の手法により行った。

【0033】

六フッ化リン酸リチウム及びその加水分解物；
リン核磁気共鳴スペクトル（^３１Ｐ−ＮＭＲ）、内部標準；メチルジフェニルホスフィンオキシド

【0034】

参考例１（六フッ化リン酸リチウムの水／炭酸ジエチル混合溶液の合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量５００ｍｌのＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）製容器に、炭酸ジエチル２００ｍｌ及び炭酸リチウム５１ｇ（９５３ｍｍｏｌ）を加え氷浴中で混合液を０〜１０℃に冷却し、液温を同温度に保ちながら、６５質量％ヘキサフルオロリン酸水溶液（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）７１．９ｇ（３２１ｍｍｏｌ）をゆるやかに滴下した。滴下終了後、攪拌しながら０〜１０℃で１時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、六フッ化リン酸リチウムの炭酸ジエチル混合溶液３５４ｇを得た（水／炭酸ジエチル＝１／１４）。なお、当該混合溶液には六フッ化リン酸リチウムが４８．８ｇ含まれていた（反応収率；１００％）。

【0035】

実施例１（六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート溶液の合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量５００ｍｌのＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）製容器に、参考例１で合成した、六フッ化リン酸リチウムの炭酸ジエチル混合溶液３８ｇ（六フッ化リン酸リチウム５．５１ｇ＝３４．４ｍｍｏｌ）及び水酸化リチウム４１３ｍｇ（１８．２ｍｍｏｌ）を加えて１５時間攪拌した。固体をろ別除去した溶液に、安定化溶媒としてエチレンカーボネート１７．３ｇ（１９６ｍｍｏｌ）を加え、減圧度０．１〜０．５ｋＰａ、３５℃で３時間溶媒を除去して乳白色粘性オイルとして六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート溶液（六フッ化リン酸リチウム：エチレンカーボネート＝１：５．７（モル比））を得た。

【0036】

実施例２（六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート付加化合物の合成）
実施例１で得られた六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート溶液に、無水クロロホルム５０ｍｌを加えて析出した固体を濾過し、白色結晶として六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート付加化合物１５．８ｇを得た（単離収率；８７％）。なお、六フッ化リン酸リチウム１分子に対してエチレンカーボネートは３．８２分子付加していた。^１Ｈ−ＮＭＲ並びに^３１Ｐ−ＮＭＲから算出された六フッ化リン酸リチウムに対するエチレンカーボネートの付加数は、３．９であり、^３１Ｐ−ＮＭＲによる面積百分率は９６％であった。
六フッ化リン酸リチウムのエチレンカーボネート錯体の物性は以下の通りであった。

【0037】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））：４．４６（ｓ、４Ｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））：−１４４．９（７重線）

【0038】

実施例３（六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン付加化合物の合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量１００ｍｌのＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）製容器に、参考例１で合成した六フッ化リン酸リチウムの炭酸ジエチル混合溶液７．０ｇ（六フッ化リン酸リチウム０．９６ｇ＝６．４ｍｍｏｌ）に、安定化溶媒として１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン４．４５ｇ（３８ｍｍｏｌ）を加え、減圧度０．１〜０．５ｋＰａ、４０℃で２時間溶媒を除去した。無水トルエン３０ｍｌを加え、析出した固体をろ別したところ、白色結晶として六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン錯体３．６ｇを得た（単離収率９０％）。なお、^１Ｈ−ＮＭＲ並びに^３１Ｐ−ＮＭＲから算出された六フッ化リン酸リチウムに対する１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンの付加数は、３．９であり、^３１Ｐ−ＮＭＲによる面積百分率は９７％であった。
なお、六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン錯体の物性値は以下の通りであった。

【0039】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））；２．６７（ｓ、６Ｈ）、３．２１（ｓ、４Ｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））；−１４４．９（７重線）

【0040】

実施例４（六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン付加化合物の合成）
安定化溶媒として１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン４．９９ｇ（３８ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２と同様に実験を行い、白色結晶として六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン錯体２．５５ｇを得た（単離収率；９３％）。なお、^１Ｈ−ＮＭＲ並びに^３１Ｐ−ＮＭＲから算出された六フッ化リン酸リチウムに対する１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオンの
付加数は２．０であり、^３１Ｐ−ＮＭＲによる面積百分率は９５％であった。

【0041】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））；２．８５（ｓ、３Ｈ）、２．８６（ｓ、３Ｈ）、３．８０（ｓ、２Ｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））；−１４４．９（７重線）

【0042】

実施例５（六フッ化リン酸リチウムのＮ−メチルピロリジノン付加化合物の合成）
安定化溶媒としてＮ−メチルピロリジノン３．８７ｇ（３８ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例２と同様に実験を行い、白色結晶として六フッ化リン酸リチウムのＮ−メチルピロリジン錯体１．９４ｇを得た（単離収率；６６％）。なお、^１Ｈ−ＮＭＲ並びに^３１Ｐ−ＮＭＲから算出された六フッ化リン酸リチウムに対するＮ−メチルピロリジンの付加数は３．０であり、^３１Ｐ−ＮＭＲによる面積百分率は９６％であった。

【0043】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））：１．９０〜２．２５（ｍ、４Ｈ）、２．７３（ｓ、３Ｈ）、３．３２〜３．３５（ｍ、２Ｈ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））：−１４４．９（７重線）

【0044】

実施例６（六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン・エチレンカーボネート付加化合物の合成）
安定化溶媒として１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン２．１７ｇ（１９ｍｍｏｌ）及びエチレンカーボネート１．６７ｇ（１９ｍｍｏｌ）を使用した以外は実施例３と同様に実験を行い、白色結晶として六フッ化リン酸リチウムの１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン・エチレンカーボネート付加化合物２．８１ｇを得た（単離収率；９５％）。なお、^１Ｈ−ＮＭＲ並びに^３１Ｐ−ＮＭＲから算出された六フッ化リン酸リチウムに対する１，３−ジメチル−イミダゾリジノン−２，４−ジオン並びにエチレンカーボネートの付加数はそれぞれ１．９８、０．０４であり、^３１Ｐ−ＮＭＲによる面積百分率は９１％であった。

【0045】

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））；２．８５（ｓ）、２．８６（ｓ）、３．８０（ｓ）、４．４６（ｓ）
^３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＮ、δ（ｐｐｍ））：−１４４．９（７重線）

【0046】

実施例７（各種六フッ化リン酸リチウム付加化合物のＸＲＤ測定）
実施例２〜５で得られた各種六フッ化リン酸リチウム付加体の粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ）測定を乾燥窒素雰囲気にて実施した。その結果、いずれの付加化合物も六フッ化リン酸リチウムとは明確に異なる回折パターンを示しており、いずれの化合物も六フッ化リン酸リチウムでなく、付加化合物となっていることが判明した。

【産業上の利用可能性】

【0047】

本発明により、有機合成反応用触媒や半導体材料のドーピング剤、リチウムイオン電池の電解質として有用な過フッ化無機酸リチウムの安定化溶媒溶液を提供することが出来る。

【図1】