特許5749905フラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための方法、パターンセット形成方法、半導体素子製造方法、およびフラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための装置

発明の名称　フラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための方法、パターンセット形成方法、半導体素子製造方法、およびフラクチャリングまたはマスクデータ作成または近接効果補正のための装置

出願人　ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド　（識別番号 509142184）

　　　　特許公開件数ランキング 2471 位（7件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3250 位（4件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5749905

公報発行日　2015年7月15

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5749905

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