(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし特許文献2において、部品下に一部形成されたレジスト上部と部品素体とのクリアランスが小さいためフラックス残渣の除去およびモールド材の充填が困難となり、特に吸水処理後のリフロー試験において、ハンダフラッシュや剥離を引き起こす可能性がある。
【0006】
また、LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics)に代表されるセラミック系の基板の表面層には部品搭載用のランドパターンのみが形成され、ソルダーレジストは形成していない場合が多い。これに対し、PCB(Printed Circuit Board)に代表される樹脂系の基板は、一部を除いて、基板表面に部品搭載用のランドパターンの他に配線パターンやランド間接続パターンが形成されている。これは、PCBの製造プロセスがビルドアップ(適時積層)プロセスを採用しているためであり、コスト、プロセス数、厚さなどの観点より、このパターンの上をソルダーレジストでカバーリングした構造となる場合がほとんどである。しかしながら、チップ部品を高密度実装しモールドした構造においては、特に部品間において、ソルダーレジストでカバーリングした部位が剥離やクラックの問題点を引き起こしてしまう。
【0007】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、リフロー時の熱膨張差や揮発性残渣によるモールド材の剥離や凝集破壊を抑制し、またハンダの再溶融によるハンダフラッシュの発生を抑制することが可能な信頼性の高いチップ部品の実装構造を提供することにある。また、本発明の他の目的は、そのようなチップ部品の実装構造を有する小型、高性能で信頼性の高いモジュール製品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題を解決するため、本発明によるチップ部品の実装構造は、回路基板と、前記回路基板上に表面実装された複数のチップ部品と、前記複数のチップ部品と前記回路基板とを電気的に接続するハンダと、前記複数のチップ部品を封止するモールド材とを備え、前記回路基板は、複数のランドを含む配線層と、前記配線層を選択的に覆うソルダーレジスト層とを備え、前記ソルダーレジスト層は、前記ランドを部分的に覆うレジストパターンを含み、前記チップ部品は、前記回路基板の表面と平行な底面電極と、前記回路基板の表面に対して垂直な側面電極とを有し、前記ハンダは、前記底面電極及び前記側面電極と前記ランドの露出部分とを電気的に接続しており、前記レジストパターンは、前記底面電極と平面視にて重なるオーバーラップ部分を有し、前記ハンダは、前記側面電極に付着する第1のハンダ部分と、前記底面電極と前記ランドの前記露出部分との間に位置する第2のハンダ部分とを有し、前記モールド材の一部は、少なくとも前記オーバーラップ部分と前記第1のハンダ部分との間の第1の隙間に充填されていることを特徴とする。
【0009】
本発明によれば、複数のチップ部品を高密度実装した場合でも、リフロー時の熱膨張によってもモールド材が剥離や凝集破壊を起こしにくく、ハンダフラッシュの発生を抑制することができる。特に、
側面電極に付着する第1のハンダ部分と底面電極(ランド)に付着する第2のハンダ部分とをつなぐ経路を
レジストパターンが実質的に遮断しているので、ハンダの移動を抑制することができる。また、チップ部品が
レジストパターン上に搭載される構造となっているためチップ下にレジストの厚みによって決まる一定以上のクリアランスを確実に確保することができ、フラックス洗浄やモールド材の充填(アンダーフィル)を確実に行うことができる。したがって、フラックス残渣よる二次弊害を防止でき、ハンダフラッシュの原因となる空間にモールド材を確実に充填することができる。
【0010】
本発明において、前記モールド材の一部は、前記オーバーラップ部分と前記底面電極との間の第2の隙間にさらに充填されていることが好ましい。この構成によれば、端子電極とランドとをつなぐハンダのうち、側面電極に付着する第1のハンダ部分と底面電極に付着する第2のハンダ部分とが確実に分断され、側面電極に付着する第1のハンダ部分がフィレットレスとなる。したがって、ハンダの移動を十分に抑制することができる。
【0011】
本発明において、前記モールド材の一部は、前記チップ部品と前記回路基板との間の第3の隙間にさらに充填されていることが好ましい。この構成によれば、ハンダフラッシュの原因となる空間を確実に埋め込むことができる。
【0012】
本発明によるチップ部品の実装構造は、前記モールド材の表面を覆う導電膜をさらに備えることが好ましい。導電膜は、メッキ、スパッタリング、蒸着、金属箔の接着等により形成される導電膜であってもよく、金属フィラーを含有する導電性ペーストの塗布膜であってもよい。この構造はセルフシールド構造の要求に応えるものであるが、加熱時にモールド材に含まれる水分が抜けにくく、リフロー時の加熱で水分が気化膨張してモールド材の剥離や凝集破壊が発生しやすい。しかし、本発明の上記構成によりそのような問題を防止することができ、本発明の効果が顕著である。
【0013】
前記側面電極は、前記チップ部品の長手方向と直交する第1の側面に形成された第1の側面電極を含み、前記オーバーラップ部分は、前記第1の側面電極に対応する前記ランドの第1の辺に沿った第1の帯状マスクパターンを含むことが好ましい。この構成によれば、第1の側面電極に付着する第1のハンダ部分と底面電極(ランド)に付着する第2のハンダ部分とをつなぐ経路を遮断することができる。
【0014】
前記側面電極は、前記チップ部品の長手方向と平行な第2及び第3の側面にそれぞれ形成された第2及び第3の側面電極をさらに含み、前記オーバーラップ部分は、前記第2の側面電極に対応する前記ランドの第2の辺に沿った第2の帯状マスクパターンと、前記第3の側面電極に対応する前記ランドの第3の辺に沿った第3の帯状マスクパターンとをさらに含むことが好ましい。この場合において、前記第2の帯状マスクパターンの長さは、前記第2の辺の長さよりも短く、前記第3の帯状マスクパターンの長さは、前記第3の辺の長さよりも短いことが好ましい。この構成によれば、第1〜第3の側面電極に付着する第1のハンダ部分と底面電極(ランド)に付着する第2のハンダ部分とをつなぐ経路を遮断することができる。すなわち、端子電極が複数の側面電極を有する場合であっても、これらの側面電極に付着する第1のハンダ部分と底面電極(ランド)に付着する第2のハンダ部分とをつなぐ経路を遮断することができる。
【0015】
本発明において、隣接するチップ部品間の距離は500μm以下であることが好ましい。この構成によれば、複数のチップ部品の高密度実装が可能であるが、熱膨張応力の影響を受けやすく、モールド材やソルダーレジストなどの樹脂部材の剥離や凝集破壊が発生しやすい。しかし、本発明の上記構成は、狭ピッチのチップ間距離においても、従来構造より樹脂部材の接着面積が確保できるため、そのような問題を防止することができ、本発明の効果が顕著である。
【0016】
また、上記課題を解決するため、本発明によるモジュール製品は、上記特徴を有するチップ部品の実装構造を有することを特徴とする。本発明によれば、小型で高性能な信頼性の高いモジュール製品を提供することができる。
【発明の効果】
【0017】
本発明によれば、リフロー時の熱膨張によるモールド材の剥離や凝集破壊が抑制され、またハンダの再溶融によるハンダフラッシュの発生が抑制された信頼性の高いチップ部品の実装構造を提供することができる。また、本発明によれば、そのようなチップ部品の実装構造を有する小型、高性能で信頼性の高いモジュール製品を提供することができる。
【0018】
また、本発明によれば、高密度実装されたチップ部品間に存在するモールド材やソルダーレジストなどの異種部材間の密着面積を従来よりも広く確保することができる。また、チップ部品下に一定以上のクリアランスを確実に確保でき、クリアランス内に樹脂を確実に充填することができる。そしてこれら2点を同一の構造体で実現することにより、量産性が高く、小型、高性能かつ高信頼性のモジュール製品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【0021】
図1は、本発明の第1の実施の形態によるモジュール製品の構造を示す略外観斜視図である。
【0022】
図1に示すように、モジュール製品1は、回路基板2上にICチップその他のチップ部品3が実装された電子部品モジュールである。回路基板2の主面には多数のチップ部品3が表面実装されており、さらにこれらのチップ部品3はモールド材4で封止され、実装回路の電気的および機械的な保護が図られている。
【0023】
図2は、チップ部品3の実装構造を示す略側面図である。
【0024】
図2に示すように、複数(ここでは2つ)のチップ部品3は回路基板2上において狭隣接実装されている。狭隣接実装とは、隣接するチップ部品の部品間距離(ピッチ)Lを非常に狭くして実装することであり、微小チップ部品を高密度実装する場合に使用される技術である。チップサイズ、チップの向き、ランドの形状などにもよるが、狭隣接実装におけるチップ部品間の距離Lは500μm以下、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下である。特に限定されないが、チップサイズは、4532サイズ(4.5×3.2×3.2mm)から0402サイズ(0.4×0.2×0.2mm)までのものを対象とすることができる。
【0025】
回路基板2は、基材2Aと、基材2Aの表面に設けられた配線層2Bと、配線層2Bを選択的に覆うソルダーレジスト層2Cとを備えている。回路基板2は、表層にソルダーレジスト層2Cが標準的に設けられるPCB等の有機基板が好ましいが、LTCC等のセラミック基板であってもよい。また回路基板2は単層基板、多層基板のいずれでもよく、部品内蔵基板であってもよい。
【0026】
配線層2Bの配線パターンやランド間接続パターンはソルダーレジスト層2Cに覆われて電気的および機械的に保護されている。ソルダーレジスト層2Cは、部品の実装時にハンダ(ソルダー)が不必要な部分へ付着することを防止すると共に、ほこりや熱、湿気などから配線パターンを保護し、電気絶縁性を維持する保護膜の役割を果たすものである。 ソルダーレジスト材料としてはPCBやパッケージ基板で使用されるものを適時選択すればよく、ドライフィルムやペーストタイプの材料をラミネート、スプレー、印刷などの公知のプロセスで適時構成すればよい。
【0027】
配線層2Bには複数のランド7が設けられており、チップ部品3の端子電極5はハンダ10を介して対応するランド7に接続されている。ランド7の上方にはソルダーレジスト層2Cが選択的に除去されてなる開口部が設けられ、この開口部内のハンダ10を介して端子電極5とランド7とが電気的且つ機械的に接続される。ハンダ付けは鉛フリーのハンダペーストを用いたリフロー工程により行われる。狭隣接実装を実現するため、ハンダのフィレット寸法(ハンダ付け後の部品端子側のハンダ突き出し量)はできるだけ小さいことが好ましい。
【0028】
詳細は後述するが、チップ部品3はソルダーレジスト層2Cの上面に搭載され、チップ部品3の端子電極5の底面とランド7の上面との間には隙間Dが形成される。隙間Dは、端子電極5とランド7との間に介在しているソルダーレジスト層2Cの厚さと等しいかそれよりもわずかに広い。リフロー後にはハンダの表面張力でチップ部品が持ち上がることがあり、この場合の隙間Dはソルダーレジスト層2Cの厚さよりも少し広くなるからである。
【0029】
モールド材4は例えばフィラーを含有するエポキシ樹脂である。モールド材4の形成方法はトランスファー、コンプレッション、印刷、ラミネート、注型のいずれであってもよい。その中でも、材料コストが安く低タクトタイムでモールド可能なタブレット状樹脂を用いたトランフファーモールド、あるいは顆粒状樹脂を用いたコンプレッションモールドが有効である。モジュールのセルフシールド構造への要求に応えるため、モールド材4の表面が導電膜12でコーティングされていてもよい。導電膜12はメッキや導電性ペーストにより形成することができる。
【0030】
図3は、チップ部品3の高密度実装レイアウトのバリエーションを示す略平面図である。
【0031】
図3(a)は、隣接するチップ部品3のサイズ及び向きが同一である場合を示している。また、
図3(b)は、隣接するチップ部品3のサイズは異なるが、その向きが同一である場合を示している。
図3(c)は、隣接するチップ部品3のサイズが同一であるが、その向きが直交する場合を示している。また、
図3(d)は、隣接するチップ部品3のサイズが異なるが、その向きが直交する場合を示している。
図3ではチップ部品のみを示し、ランドは省略されているが、ランド間の接続レイアウトは特に限定されない。すなわち、隣接するチップ部品3は配線パターンを介して電気的に接続されていてもよく、絶縁されていてもよい。このようにチップ部品3のレイアウトはさまざまであるが、いずれもチップ部品3が狭隣接実装されているので、モールド材4の熱膨張時に大きな応力が生じやすい。しかし、本実施形態によるチップ部品の実装構造を採用した場合には、そのような応力の発生による種々の不具合を解消することが可能となる。
【0032】
図4(a)〜(c)は、チップ部品3の端子電極構造のバリエーションを示す略斜視図である。
【0033】
図4(a)〜(c)に示すように、チップ部品3の外形は直方体であり、上面3a、底面3b、直方体の長手方向(X方向)と直交する2つの側面(端面)3c,3d、直方体の長手方向と平行な他の2つの側面3e,3fを有している。チップ部品3は2端子構造の表面実装部品であり、その長手方向の両端部に端子電極5A,5Bがそれぞれ設けられている。たとえば、2端子構造のチップ部品3としては、例えばチップ抵抗、インダクタ、キャパシタ、
サーミスタ等の受動部品を挙げることができる。
【0034】
図4(a)に示すチップ部品3の端子電極5A,5Bは5面電極構造であり、チップの上面3a、底面3b、および3つの側面3c(又は3d),3e,3fに電極面6a〜6eをそれぞれ有している。また
図4(b)に示すチップ部品3の端子電極5A,5Bは3面電極構造(コの字電極構造)であり、上面3a、底面3b、および1つの側面3c(又は3d)に電極面6a〜6cをそれぞれ有している。さらに
図4(c)に示すチップ部品3の端子電極5A,5Bはいわゆる2面電極構造(L字電極構造)であり、底面3b、および1つの側面3c(又は3d)に電極面6b,6cをそれぞれ有している。特に限定されないが、端子電極5A,5Bは、銀や銅を主体とする導電ペーストを部品本体の両端部に塗布し、800℃程度で焼付け処理することにより形成することができる。この場合、電極は5A,5BはR付きの丸みを帯びた形状となる。例えばスパッタで電極を形成する場合はRが少なくチップ素体に沿った電極形状となる。
【0035】
これらのチップ部品3はいずれも、長手方向と直交する平面から見て略左右対称な形状、あるいは、チップ部品3の上面及び底面の中心を貫く中心軸を基準にして回転対称(2回対称)な形状を有し、端子電極5Aと端子電極5Bの形状は略同一である。
【0036】
図4(a)〜(c)に示したチップ部品3は回路基板2上にリフロー実装され、端子電極5A,5Bは回路基板2上のランドにハンダ付けされる。以下、チップ部品3の実装領域のランドパターンについて詳細に説明する。
【0037】
図5は、回路基板2上のランドパターンレイアウトを示す略平面図であり、特に、
図4(a)に示した
5面電極構造のチップ部品3の実装領域のパターンレイアウトである。このうち、
図5(a)はランドを単独で示すものであり、
図5(b)はランドとレジストパターンとを重ねて示すものであり、
図5(c)はレジストパターンの一部(オーバーラップ部分)を抜き出して示したものである。
【0038】
図5(a)に示すように、回路基板2の主面にはチップ部品3の一対の端子電極5A,5Bに対応する一対のランド7A,7Bが設けられている。ランド7A,7Bは矩形パターンであり、端子電極5A,5Bよりも平面視にて広い面積を有している。
【0039】
図5(b)に示すように、ランド7A,7Bの上層にはソルダーレジスト層2Cを構成するレジストパターン8A,8Bが形成されており、レジストパターン8A,8Bはランドの有効面積を制限している。レジストパターン8Aは、平面視にてランド7Aの外側寄りを部分的に覆っており、レジストパターン8Bは、平面視にてランド7Bの外側寄りを部分的に覆っている。ここで、ランドの"外側"及び"内側"は、チップ部品の実装位置を基準にして定められ、チップ部品の長手方向(X方向)に対しては、チップ部品の両側面3c,3dに向かう方向が外側、チップ部品の長手方向中央部に向かう方向が内側である。また、チップ部品の幅方向(Y方向)に対しては、チップ部品の両側面3e,3fに向かう方向が外側、チップ部品の幅方向中央部に向かう方向が内側である。
【0040】
一方、ランド7A,7Bの内側寄りはレジストパターン8A,8Bに覆われることなく露出している。チップ部品3の端子電極5A,5Bはランド7A,7Bの露出面にそれぞれハンダ付けされる。
【0041】
レジストパターン8A,8Bは、チップ部品3の底面電極6bと平面視にて重なるオーバーラップ部分9を有している。
図5(c)はオーバーラップ部分9を抜き出したものであり、オーバーラップ部分9は、ランド7Aの外側の3辺に沿って一定幅で設けられたコの字状のパターンである。すなわち、ランド7Aの外側の長辺に沿って設けられた第1のマスクパターン9aと、2つの短辺に沿ってそれぞれ設けられた第2及び第3のマスクパターン9b,9cとの組み合わせからなる。第1〜第3のマスクパターン9a〜9cは帯状であることが好ましいが、厳密に帯状である必要はない。第1〜第3のマスクパターン9a〜9cの幅は同じであってもよく、異なっていてもよい。レジストパターン8Bの構成もレジストパターン8Aと同様である。
【0042】
上記のように、ランド7A,7Bの外周部がソルダーレジストで選択的にオーバーコートされ、チップ部品3の底面電極6bがソルダーレジスト上に置かれることにより、チップ部品3の底面と回路基板2との間のクリアランス(スタンドオフ)の高さH(
図2参照)が十分に確保される。モールド材4のフィラーの大きさにもよるが、スタンドオフHは10〜70μmが好ましく、25〜70μmがさらに好ましい。
【0043】
図6(a)及び(b)は、チップ部品3を実装した状態であって、
図6(a)は
図5のX−X'線に沿った側面断面図、
図6(b)は
図5のY−Y'線に沿った側面断面図である。さらに、
図7は、
図6(a)のP部(ハンダ接合部)の拡大図である。
【0044】
図6(a)に示すように、レジストパターン8A,8Bの端部はランド7の外側から内側に向かって延びてランド7をオーバーコートしており、チップ部品3の端子電極5A,5Bと平面視にて重なるオーバーラップ部分9を有している。レジストパターン8A,8Bの端部は、底面電極6bとランド7との間に介在しており、巨視的には底面電極6bと接触している。
【0045】
チップ部品3はランド7A,7B上に搭載され、端子電極5A,5Bは
第2のハンダ部分10bを介してランド7A,7Bにそれぞれ接続される。ランド7A,7Bに供給するクリームハンダは、溶融後の体積がレジストパターン8A,8Bで高さを規制された空間よりも過剰な量を供給することが好ましい。これによりスタンドオフHはランド7A,7B及びレジストパターン8A,8Bの合計の厚みを常に確保でき、モールド材4の一部4aはチップ下のクリアランスの内部に確実に充填される。
【0046】
図7に示すように、モールド材4の一部は、第1のハンダ部分10aとレジストパターン8Aの上面との間の隙間(第1の隙間)D1に充填されており、第1のはんだ部分10aと平面視にて重なる部分を有している。第1のはんだ部分10aの最も外側の端面から回路基板に向かって垂直な仮想線L1を下したときに、モールド材4の一部は、レジストパターン8Aと共に仮想線L1よりもランド7の内側に入り込んでいる。モールド材4の一部はさらに奥に入り込んでいることが好ましい。すなわち、モールド材4の一部はレジストパターン8Aの上面とチップ部品3
の底面電極6bとの間の隙間(第2の隙間)D2にも充填され、これによりモールド材4はチップ部品3の底面電極6bと平面視にて重なる部分を有していることが好ましい。チップ部品3の側面電極6cから回路基板に向かって垂直な仮想線L2を降ろしたときに、モールド材4の一部は、レジストパターン8Aと共に仮想線L2よりもランド7の内側に入り込んでいる。チップ部品の特に側面電極にRが付いている場合は、その電極の最も外側(部品の最大外形となる端部)から仮想線L2を下ろすとする。
【0047】
チップ部品の底面電極6bおよび側面電極6cにはハンダが濡れて接合されるが、ソルダーレジスト8Aの表面はハンダ10の濡れが悪いため、少量のハンダが付着した状態となるか、あるいはまったく付着しない。またソルダーレジスト8Aが仮想線L2やL1より内側に延設されているため、ハンダがレジストに付着しないことで形成される隙間D1およびD2にモールド材が充填する。
【0048】
これにより、端子電極6とランド7とをつなぐハンダのうち、側面電極6cに付着する第1のハンダ部分10aと底面電極6bに付着する第2のハンダ部分10bとが実質的に分断され、側面電極6cに付着する第1のハンダ部分10aがフィレットレスとなる。レジストパターン8Bも同様である。
【0049】
図6(b)に示すように、第1のハンダ部分10aはチップ部品3の側面3e
,3fにそれぞれ形成された側面電極6d,6eにも付着するが、側面電極6cと同様に、第1のハンダ部分10aと第2のハンダ部分10bはレジストパターンのオーバーラップ部分9によって略分断される。
【0050】
図8は、
図4(b),(c)に示したチップ部品3の実装位置のパターンレイアウトである。
【0051】
図8に示すように、レジストパターン
8Aは、ランド7Aの外側の一辺に沿って一定幅で重なるように設けられており、ランド7Aの外周部を選択的に覆っている。すなわち、レジストパターン8Aは、ランド7の外側の長辺に沿って設けられた第1のマスクパターン9aのみからなる。レジストパターン8Bもまた同様である。
【0052】
以上説明したように、本実施形態によるチップ部品3の実装構造は、レジストパターン8A,8Bがランド7A,7Bの外側部分をそれぞれオーバーコートしており、このレジストパターン8A,8Bの一部は、ランド上に実装されたチップ部品3の端部(底面電極6b)と平面視にて重なるオーバーラップ部分9を有しており、ハンダ10は、側面電極6c,6d,6eに付着する第1のハンダ部分10aと、底面電極6bとランド7の露出部分との間に位置する第2のハンダ部分10bとを有し、モールド材4の一部は、オーバーラップ部分9と側面電極6cに濡れ上がったハンダ及び底面電極6bとの間の隙間に充填されている。したがって、チップ下のクリアランスとして、ランド7とレジストパターン8の合計の厚さ以上を常に確保することができ、これによりフラックス洗浄プロセスを簡略化した工程で完全に除去することができ、モールド材(特に安価であるトランスファーモールドやコンプレッションモールド)のチップ下への充填(アンダーフィル)を確実に行うことができる。
【0053】
また、チップ下のクリアランスが確保しやすいので、モールド材のフィラーをより細かいものにカットする必要がなくなり、材料の低コスト化につながる。また、チップ下の狭いクリアランス内にモールド材を充填するために高い圧力をかける必要が無くなるので、低圧成型が可能となり、ストレスに弱い部品をモールドしても不具合が発生しにくくなる。したがって、より低コストで信頼性試験や客先実装リフロー耐性において、より品質レベルの高いモジュールを提供することができる。
【0054】
また、本実施形態においては、側面電極側に位置する第1のハンダ部分と底面電極側に位置する第2のハンダ部分とがソルダーレジストによって分断されているので、側面電極側から底面電極側へハンダが移動しにくく、ハンダ溶融流動による部品の浮きあがり応力やモールド材とソルダーレジストの剥離応力を抑制できる。またモールド材の膨張により、ソルダーレジストがランドを押し付けるように働き、ソルダーレジストとランドの剥離を防ぐため発生応力に対して充分な密着強度を維持できる。したがって、より信頼性の高いモジュールを提供することができる。
【0055】
また、本実施形態によれば、ハンダがフィレットレスとなるため、モールド材と基板面(ソルダーレジスト)との密着範囲を増やすことができ、リフロー時の応力に対する限界値を向上させることができ、より狭いピッチでチップ部品を実装することができる。また、狭隣接実装により、同じ機能のモジュールをより小さな実装面積で実現することができる。このような効果は、スマートフォンのように大容量バッテリーの必要性などからメインボードの面積を十分に取れなくなっている携帯機器に対して非常に有効である。また、同じ大きさの基板から取れる製品数を増やすことができるため、低コスト化にも寄与することもできる。
【0056】
また、モールドしない構造は、「基板材+レジスト材」のような2層構造となるが、本実施形態のようなモールド構造は、「基板材+レジスト材+モールド材」、あるいは「基板材+配線パターン+レジスト材+モールド材」となり、3〜4層構造となる。この場合、すべての層間で不良が出る可能性があり、不良確率が高くなる。その対策として、リフローにて溶融しないハンダを使用する、ハンダ以外の接合材料を用いる、これらの層を全ての同等物性とすることが考えられるが、物質規制、コスト、実装歩留、接続信頼性や、取り得る物性範囲を考慮すると実際には非常に困難である。よって、本発明のように構造面から応力の低減や密着力を向上させることは非常に効果的である。
【0057】
また、シールド構造を採用する場合にはモールド材から水分が抜けにくく、リフロー時の加熱により水分も気化膨張し、モールド材の熱膨張による応力がさらに増大して剥離や凝集破壊が生じ、ハンダフラッシュの問題が顕著となる。しかし、本実施形態によれば、同じ部品間距離でも部品間におけるモールド材と基板材(レジスト)の密着強度(距離)がより確保でき、上記問題を大幅に低減することができる。
【0058】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【0059】
例えば、上記実施形態においては、2端子構造の表面実装型チップ部品を挙げたが、本発明は2端子構造のチップ部品に限定されるものではなく、
図9に示す4端子構造やアレイ端子構造など、ハンダのサイドフィレットを作る電極構造をもつ種々のチップ部品に適用することも可能である。ただし、2端子構造のチップ部品はアレイ端子構造や4端子構造のチップ部品に比べて実装される個数が非常に多く、またチップサイズも小さいことから、狭隣接実装が強く求められており、2端子構造のチップ部品のほうが本発明の効果が大きいと言える。
【実施例】
【0060】
(実施例1)
有機基板材料(PCB)としてパナソニック株式会社のR-1515B(厚さt=0.2mm)を用い、サブトラクティブ法を用いてパターニングを行い、ランドを含む配線層を形成した。次に、ソルダーレジストとして太陽インキ製造株式会社のPFR
(r)-800 AUS
(r)410を用い、ラミネート、露光、現像、ポストキュアし、ランドの表面をCu-OSP(Organic Solderability Preservative)(四国化成工業)処理した。ここで、ランド及びレジストパターンは
図5のようにしたもの(実施例構造)と、ランドの全面を露出させたもの(従来構造)とをそれぞれ作製した。
【0061】
次に、上記基板材料に千住金属工業株式会社のSn/Ag/Cu系ハンダであるM705クリームハンダを印刷し、0603〜2520サイズのチップ部品をマウンターにて実装後、最高260℃のリフロー処理にてチップ部品を基板に接合した。その後、チップ部品の実装状態を拡大顕微鏡にて観察した。また、チップ部品の断面研磨を行ってその断面状態を観察した。
【0062】
その結果、実施例構造のチップ部品では、ハンダがフィレットレスとなり、同じ部品間距離でもモールド材と基板との密着範囲が広くなることが分かった。一方、従来構造(比較例)のチップ部品では、ハンダがフィレットを有していることが分かった。ハンダがフィレットを有する場合、モールド材の熱膨張によって押されるハンダ量が多く、モールド材の剥離や部品浮きが発生しやすいが、フィレットレスであれば、モールド材の熱膨張によって押されるハンダ量が少ないので、モールド材の剥離や部品浮きが発生せず、ハンダフラッシュも発生を抑制できる。
【0063】
続いて、断面研磨後のチップ下のクリアランスを工具顕微鏡にて測定した。その結果を
図10に示す。
【0064】
図10から明らかなように、1005サイズ以上のチップ部品においては、実施例及び比較例ともに30μm以上のスタンドオフを確保できたが、0603サイズの微小チップ部品では、実施例のみが30μm以上のスタンドオフとなり、比較例では30μm未満のスタンドオフとなることが分かった。
【0065】
(実施例2)
次に、0603〜3216サイズのチップ部品に対して、コンプレッションモールド法によるモールド処理を行い、所定の硬化条件にてポストキュアを行った。モールド材はパナソニック株式会社のCV8710TAC(フィラー30μmカット、平均6μm)を用い、メーカー推奨条件(成型圧力5MPa)にて成型を行った。さらに成形品の断面研磨を行ってその断面状態を観察した。その結果を表1に示す。
【0066】
【表1】
【0067】
表1に示すように、実施例の場合には30μm以上のスタンドオフが確保されているので、フラックス残渣がなく、かつモールド材がチップ下のクリアランスに完全に充填されることが分かった。これに対し、比較例の場合には、1015サイズ以下において不良が発生し、チップサイズが小さくなるほど不良の発生数が増加することが分かった。
【0068】
(実施例3)
0603〜3216サイズのチップ部品の部品間距離をそれぞれ150μm、200μm、及び250μmのいずれかとして複数配置し、リフロー実装し、モールドした後、ダイシングにより10×10mmサイズに個片化し、モジュール製品のサンプルを完成させた。材料や工程条件は上記の通りである。次に、サンプルをIPC/JEDEC J-STD-020D.1に規定されるMSL-2aの吸湿条件下に置き、最高260℃のリフロー炉を3回通炉させた後、断面観察にて実装の不具合の有無を確認した。その結果を表2〜表4に示す。
【0069】
【表2】
【0070】
【表3】
【0071】
【表4】
【0072】
表2において、nはモジュール内のチップ数を示している。チップサイズ毎にn数が異なるのは、チップサイズが大きいほど一定面積に搭載できる数が少ないためである。表3の「部品間直列」とは
図3(a)又は(b)のレイアウトを意味し、表4の「部品間90度」とは
図3(c)又は(d)のレイアウトを意味する。例えば、「部品間直列(150μm)、0603−1005」とは、0603サイズのチップ部品と1005サイズのチップ部品の端子どうしが向き合い且つ部品間距離が150μmとなるように、10×10mmの基板に搭載され、このモジュールの一つがnの単位となることを意味する。
【0073】
表3及び表4の「OK」及び「NG」は次のように評価したものである。すなわち、1つのモジュール内には複数のチップ部品間が存在しているが、その中に1組でも不良がある場合、モジュール全体としても不良となることから「NG」とし、不良がまったくないものを「OK」としている。
【0074】
表2〜4から明らかなように、実施例によるチップ部品の実装構造では、吸水リフロー後のモールド材の剥離、凝集破壊が改善されることが確認できた。また、比較例によるチップ部品の実装構造では、部品間距離が小さくなるほど不良確率が高くなることが確認できた。
【0075】
また、上記モールド信頼性試験では、チップサイズが大きくなるほど不具合が多く発生する傾向がみられた。チップサイズが大きい場合に不具合が発生する理由は、チップサイズが小さい場合とは別の要因である。1005サイズ以下のチップ部品は洗浄不足や充填不足に起因して不良が発生するが、これに対して1608サイズ以上のチップ部品はその外形に起因して不良が発生する。大きい部品ほど実装ハンダ量が多く、溶融による「体積膨張応力・ハンダ流動」の影響を強く受けるからである。また比較的広い部品面積に対してモールド樹脂を密着させているため、部材の熱膨張差によるせん断(引き剥がし)応力の影響を強く受ける。本発明によれば、これら大小部品の異なる要因によって発生する不具合を、1つの構造体で解決でき、優れた効果を発揮するものである。