(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
それぞれ放射光ビームと戻り光ビームとを具備する前記第1および第2の光距離測定装置(200、300)を有し、該第1の光距離測定装置(200)の光ビームの少なくとも1つと、該第2の光距離測定装置(300)の光ビームの少なくとも1つとが、同じ光導波路(506)によって、前記第1のサブユニットと前記第2のサブユニットとの間を案内されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の座標測定装置。
それぞれ放射光ビームと戻り光ビームとを具備する前記第1および第2の光距離測定装置(200、300)を有し、該第1および該第2の光距離測定装置(200、300)の全ての光ビームが、同じ光導波路(502)によって、前記第1のサブユニットと前記第2のサブユニットとの間を案内されていることを特徴とする請求項3に記載の座標測定装置。
前記送受ユニット(1)において、1/4波長板(4)が、2つの前記光距離測定装置(200、300)のうちの少なくとも1つの光距離測定装置の放射光と戻り光との光路内に配置されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の座標測定装置。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
従って、本発明の課題は、従来技術に比して測定精度を向上させる、冒頭に挙げた種類の座標測定装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
この課題は、前記それぞれ対応する独立請求項に記載の特徴を有する座標測定装置によって解決される。
【0009】
本座標測定装置は、好ましくは、
・ 空間内を移動可能な測定補助手段までの距離を測定することを目的とし、かつ、測定補助手段を追跡するための第1の測定/制御回路を具備する少なくとも1つの光距離測定装置と、
・ ズーム対物レンズと光電画像変換器への測定補助手段の結像のサイズを一定に維持するための第2の測定/制御回路とを具備する、少なくとも2つの軸に対して回動可能なズームカメラと、
・ 測定補助手段の粗位置測定を行うためのオーバービューカメラとを有し、
・
光距離測定装置の光出射/受光光学系、ズームカメラおよびオーバービューカメラが、少なくとも2つの軸に対して回動可能な共通の支持台上に配置されており、
その際、
光距離測定装置の光軸と、オーバービューカメラの光軸とが、座標測定装置の外部において同軸上に延びている。
【0010】
これにより、光学構成部材を総じて特に省スペースに配置することが可能である。
【0011】
前記少なくとも1つの
光距離測定装置は、好ましくは、干渉計測装置、またはレーザービームに基づく絶対値
光距離
測定装置、またはその両者の組み合わせである。
光距離測定装置の光出射/受光光学系および
光距離測定装置のその他の部材は、従って、支持台の中に、または支持台と共に移動するように配置されている。少なくとも1つの視準された光ビームが、測定補助手段までの距離を測定するために生成される。測定補助手段の移動時、反射された光ビームの変位が、カメラまたは位置感応型検出器によって検知され、第1の測定/制御回路を介して、支持台が測定補助手段を追跡するために移動される。
【0012】
好ましくは、その際、光束の光路内に、まず、オーバービューカメラへの光の第1の
分離部が配置されている。これにより、オーバービューカメラは、光学系の出射開口部に可能な限り接近しており、非常に大きな開口角を有することができる。オーバービューカメラは、
その目的に応じて、ズームカメラよりも大きな開口角を有する。通例、オーバービューカメラの開口角は10°以上であり、ズームカメラの開口角は、測定補助手段までの距離に従って例えば1°から10°の間で可変である(例えば距離15mの場合は1°、距離1.5mの場合は10°)。
【0013】
それに続いて、好ましくは、センサへの光の第2の
分離部が配置されており、このセンサは、測定補助手段を追跡するための測定
値を
出力する。この第2の
分離部は、第1の
分離部によって
分離されていない光成分、すなわち通過する光成分のビーム内に配置されている。このセンサは位置変換器であり、該変換器の面上で光スポットの位置を検知する。本発明の別の実施形態では、位置変換器の代わりに、オーバービューカメラが、測定補助手段を追跡するためのこの測定
値を
出力する。
【0014】
好ましくは、第1および第2の
分離部は、受光軸を中心に互いに対して少なくとも約90°回転されている。これによって、第1の
分離部のミラーによって通過光に生じた非対称が、第2の
分離部の、前記ミラーに対して回転されたミラーによって再び補償される。
【0015】
本発明の好ましい1つの実施形態では、ズームカメラと
光距離測定装置との光路が、それぞれ個別の出射光学系を介して導かれており、すなわち、ニ軸である。言い換えれば、ズームカメラの光軸と
光距離測定装置の光路とは、座標測定装置と測定補助手段との間の領域では同軸上には延びていない。従って、これらのビーム経路間の距離は、ズームカメラのデータとその他のセンサのデータとを評価および調整する際に考慮しなければならないが、一方、光学的構造は簡素化されている。
【0016】
本発明の好ましい別の実施形態では、ズームカメラの光軸も、座標測定装置の外部において
光距離測定装置とオーバービューカメラとの光軸に対して同軸上に延びている。従って、この場合、光学的構造のコストは増すが、一方、評価はより容易である。さらに、好ましくは、第3の
分離部が、第1の
分離部によって
分離される光の光路内に配置されている。従ってこの第3の
分離部は、ズームカメラへの光を
分離するために配置されている。
【0017】
この場合、前記複数のカメラあるいは
光距離
測定装置は同時に動作可能である。これは、光が、傾倒可能なミラーを介して偏向され、従って、個々の測定機構を交替に互いに排他的にしか動作させることができない配置とは対照的である。
【0018】
好ましくは、
分離部の少なくとも1つが、波長依存ビームスプリッタである。すなわち、前記複数のカメラおよび
光距離測定装置ならびに位置検出器は、少なくとも部分的に異なった波長範囲で機能する。従って、これらの測定手段の相互的な影響を最小限にすることが可能である。また、ある一定の波長範囲において、受光エネルギーの最大量が、付設された検出器に達することが可能となる。
【0019】
本発明のまた別の好ましい実施形態では、ズームカメラの光
電画像変換器が、ズームカメラの光軸に対して非対称に配置されており、この画像変換器の中心点が、
光距離測定装置の光軸からずれている。
【0020】
この座標測定装置は、好ましくは、
・
第1および第2の光距離測定装置と、
・中間ユニットまたは支持台に対して軸、例えば方位軸を中心に回動可能に配置されている送受ユニットと、
・中間ユニットであって、前記第1の軸に対して非平行に延びる別の軸、例えば天頂軸を中心にベースユニットに対して回
動可能に配置されており、これにより、送受ユニットがベースユニットに対して2つの軸を中心に回
動可能に配置されている中間ユニットとを有し、
・少なくとも一つの前記光距離測定装置が第1のサブユニットを有し、このサブユニットが送受ユニット上に、該送受ユニットと共に移動するように配置されており、
・少なくとも一つの前記光距離測定装置が第2のサブユニットを有し、光を伝送するための少なくとも1つの光導波路が、
光距離測定装置の第1のサブユニットと第2のサブユニットとの間に配置されており、
第2のサブユニットが、前記中間ユニット上に
、かつ該中間ユニットと共に移動するように配置されている。
前記
第1および第2の光距離測定装置の光ビームが、それぞれ個別の光導波路によって、前記第1のサブユニットと前記第2のサブユニットとの間を案内されている。
【0021】
従って、前記単数または複数の光導波路は、唯一の移動される軸を通じてのみ前記サブユニット間を案内されねばならない。
【0022】
本発明の別の実施形態では、第1の
光距離
測定装置の第2のサブユニットが中間ユニット上に配置され、第2の
光距離
測定装置の第2のサブユニットがベースユニット内に配置されている。この第2のサブユニットは、
光距離
測定装置の種類に応じて、以下の部材のうちの1つまたは複数、すなわち、レーザー光源、変調器、ビームスプリッタ、アイソレータ、検出器、光導波路などのうちの1つまたは複数を含む。
【0023】
本発明の1つの好ましい実施形態では、前記少なくとも1つの
光距離測定装置の少なくとも1つの光電子検出器が、送受ユニット内に配置されている。これにより、(例えば測定ビームを伴う)第1の光導波路における温度による長さ変化を、(例えば参照ビームを伴う)第2の光導波路における同様の長さ変化によって補償することが可能である。
【0024】
本発明のさらに別の好ましい実施形態では、前記少なくとも1つの
光距離測定装置の放射光ビームと戻り光ビームとが、同じ光導波路によって第1のサブユニットと第2のサブユニットの間を案内されている。これにより、特にファイバの簡単な延設が可能である。
【0025】
本発明の別の好ましい実施形態では、前記少なくとも1つの
光距離測定装置の放射光ビームと戻り光ビームとが、個別の光導波路を通じて第1のサブユニットと第2のサブユニットの間を案内されている。このような配置でも、光導波路の長さ変化を補償することができる。
【0026】
本発明のさらに別の好ましい実施形態は、光の
光距離測定装置を有する。この場合、両
光距離測定装置の光ビームは、それぞれ個別の光導波路を通じて第1のサブユニットと第2のサブユニットの間を案内されている。これにより、光ビームを個別に処理することができ、
光距離測定装置は、中間ユニット内に空間的に互いに独立して配置することができる。この実施形態には、各
光距離
測定装置がそれぞれ1つまたはそれぞれ2つの光導波路を有する変形形態も含まれる。
【0027】
本発明のさらに別の好ましい実施形態は、それぞれ放射光ビームと戻り光ビームとを具備する第1および第2の
光距離測定装置を有する。この場合、第1の
光距離測定装置の光ビームの少なくとも1つと、第2の
光距離測定装置の光ビームの少なくとも1つとが、同じ光導波路によって第1のサブユニットと第2のサブユニットとの間を案内されている。これにより、一方では、
光距離
測定装置の少なくとも1つのための平行に延びる二重の光導波路によって補償を行うことが可能であり、もう一方では、両
光距離
測定装置のために二重利用することによって光導波路の数を少なくすることが可能である。
【0028】
本発明のさらに別の好ましい実施形態は、それぞれ放射光ビームと戻り光ビームとを具備する第1および第2の
光距離測定装置を有する。この場合、第1および第2の
光距離測定装置の全ての光ビームが、同じ光導波路によって第1のサブユニットと第2のサブユニットの間を案内されている。これにより、光導波路の数が最小となっている。温度変動を補償するために、光導波路は、好ましくは、組み込み型の温度測定部、例えば光導波路に対して平行にかつその近傍を走る抵抗線を用いた温度測定部を有する。
【0029】
本発明のさらに別の好ましい実施形態では、光源が中間ユニット内に配置されており、第2のサブユニットを形成する。従って、前記少なくとも1つの
光距離測定装置のその他の部材は、第1のサブユニットを形成し、送受ユニット内に配置されている。
【0030】
本発明のさらに別の好ましい実施形態では、前記少なくとも1つの
光距離測定装置の幾つかのサブユニットが、ベースユニット上にも配置されている。例えば、出射光学系が送受ユニット上に配置され、検出ユニットが中間ユニット上に配置され、光源がベースユニット上に配置されるように、
光距離測定装置の3つのサブユニットが分散されている。あるいは、第1の
光距離
測定装置の光源と検出ユニットと、ならびに第2の
光距離
測定装置の光源と検出ユニットとが、ベースユニット上に配置されている。従って、原則として、異なった機能を有するサブユニットは、送受ユニット、中間ユニットおよびベースユニットを通じて分散することができ、これにより、光学特性、熱工学特性および機械特性の最適な組み合わせを得ることができる。
【0031】
本発明の1つの好ましい実施形態では、送受ユニット内において、λ/4板または1/4波長板が、少なくとも2つの
光距離
測定装置のうちの少なくとも1つの
光距離
測定装置の放射光と戻り光との光路内に配置されている。これにより、単数または複数の光導波路において、放射光が受光に対して回転される。これによって、光導波路とその他の光学部材との偏光依存遅延および他の非対称性が相殺される。従って、1/4波長板は、光出射光学系のできる限り近傍に設置されている。
【0032】
他の好ましい実施形態は、従属請求項に記載されている。
【0033】
以下において、本発明の対象について、好ましい実施例を参照しながら詳述する。好ましい実施例は、添付された図面に示されている。
【0034】
図で用いられている符合およびその意味は、符号リストにまとめて記載されている。原則として、各図において、同じ部材には同じ符号が付されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【0035】
図1は、座標測定装置の構造を模式的に示し、この座標測定装置は、2つの軸を中心に移動可能な送受ユニット1と、1つの軸を中心に移動可能な中間ユニット2と、ベースユニット3とを有する。中間ユニット2は、垂直軸または方位軸Aを中心にベースユニット3に対して回動可能であり、送受ユニット1は、水平の天頂軸または仰角軸Zを中心に中間ユニット2に対して回動可能である。その際、中間ユニット2は、第1の支柱21と第2の支柱とを有し、これらの支柱に送受ユニット1が左右に軸支されている。しかしまた、本発明は、1つの支柱のみを介して送受ユニット1の一方の側を軸支した配置において実施することも可能である。
【0036】
送受信ユニット1上に、座標測定装置の複数の測定カメラと
光距離
測定装置との光出射および受光用の光学部材が配置されている。これらの光学部材は、送受ユニット1と共に移動され、受け取った光に応じて制御機構によって、ターゲットまたは測定補助手段5の方へ向けられて、該ターゲットまたは測定補助手段を自動的に追跡するようにされる。方位軸Aと天頂軸Zとを中心にした送受信ユニット1の回転の測定値と、ターゲット5までの距離とから、公知の方法でターゲット5の位置が決定される。ズームカメラ106によって、ターゲット5面のマーキングが検知され、そこから公知の方法でターゲット5の空間的方向、すなわち3つの座標軸を中心とする方向が決定される。
【0037】
以下において、一方では送受信ユニット1上の測定カメラの
機構の点で、もう一方では送受信ユニット1と中間ユニット2とへの
光学距離計の分割の点で異なっている
様々な機構について説明する。
同様に本発明に含まれる、カメラ
機構と距離計
機構とのさらに別の組み合わせは、下記説明から容易に推定される。
【0038】
図2は、レーザー光源301が分離されている
機構を示す。この
機構は、
異なるカメラ104、106、位置変換器108、絶対距離計(ADM)
機構200および干渉計
機構300が配置されている支持台
機構100を有し、これらの構成要素がこの支持台
機構100と共に移動される配置である。干渉計
機構300用のHeNeレーザー301は、支持台
機構100と共に移動することはなく、光導波路503を介して離置されている。HeNeレーザー301は、中間ユニット2上に配置されている。
【0039】
支持台
機構100は、
光距離
測定装置の光軸112に沿って外部から支持台
機構100へ入射する光を分離する
分離部101を有する。この光の一部分は、オーバービューカメラ104
の方へ
分離される。オーバービューカメラ104は、
独自の光学系と画像変換器105とを有する。オーバービューカメラ104は、通例、約10度の開口角と例えば30ないし50mmの焦点距離とを有し、測定ターゲット5の粗位置測定のために用いられる。反射するターゲット5を検知するために、支持台
機構100は、好ましくは反射照明部110を有し、この反射照明部は、好ましくは、少なくともオーバービューカメラ104の開口角と同じ大きさの角度範囲を照明する。
分離部101、102、103の直径は、例えば約20ないし25mmである。
【0040】
オーバービューカメラ104の評価電子装置および/または評価ソフトウエアが、例えば、オーバービューカメラ104の視野領域内に1つまたは複数の特に明るい光点を検知する。つまり、この光点はそれぞれ、反射するターゲット5に一致する。これから、オーバービューカメラ104の画像内において光点の位置が求められ、そこからまた、支持台
機構100と単数または複数の距離計の光ビームとをターゲット5の方へ向けるための軸位置の変更量が求められる。従って、これにより、自動的なターゲット検知とターゲット5への「ロックオン」とが可能となっている。
【0041】
第1の
分離部101によって
分離されなかった光は、第2の
分離部102に達し、この第2の
分離部が、その光の一部分を位置変換器108へ
分離する。この光成分は、
光距離
測定装置200、300の1つ、好ましくは干渉計
機構300の、戻り光のビーム束である。位置変換器108は、
独自の光学系と例えば位置感応型ダイオード109とを有する。この位置感応型ダイオードは、該ダイオード109
の表面上の2次元におけるビーム束の位置を表すアナログ信号を
出力する。これの代わりにまた、位置決定のためのデジタル信号処理部が付設されたセンサアレイまたは画像変換器(CCD、CMOSなど)を用いることもできる。トラッキング制御部が、このようにして求められた位置に応じて、送受信ユニット1の
位置の変位を制御し、
従って光ビーム
は反射するターゲット5の移動を追跡する。
【0042】
第1の
分離部101と第2の
分離部102との空間的配置は、図では模式的にのみ示されている。第1の
分離部101によって
分離された光の入射面の方向は、図平面に対して実際に平行(「p」)に延びている。しかし、第2の
分離部102によって
分離された光の入射面の方向は、図平面に対して垂直(「s」)に延びており、図示のためにのみ、図平面の方へ折り倒して示されている。測定ビームにおける非対称性を引き起こす、測定ビームに対する第1の
分離部101の作用は、第2の
分離部102の作用によって補償される。この非対称性は、光の垂直偏光された成分と水平偏光された成分との間の位相差である。
【0043】
ズームカメラ106も、支持台
機構100の一部として送受信ユニット1上に配置されている。ズームカメラ106は、
独自の光入射光学系と、従ってまた
独自の光軸111とを有し、この光軸は、送受ユニット1の外部にあって、前述の諸部材の光軸112とは一致せず、好ましくはその光軸に対してほぼ平行に延びている。この配置を、以降、二軸配置と呼ぶ。ズームカメラ106は、画像変換器107上においてターゲット5のマーキングを検知する。マーキングを結像することによって、公知の方法でターゲット5の方向が求められ、さらにズームカメラ106のズーム倍率が制御されて、画像変換器107へのターゲット5の結像が、実質的に常に同じサイズを有する。例えば、ズームカメラ106は、焦点距離が50から500mmの10倍ズーム
機能を有する。
【0044】
本発明の1つの好ましい実施形態では、ズームカメラ106の光路は、送受ユニット1の外部にあって、
光距離
測定装置200、300の光路に対して平行である。ターゲット5が検知され、追跡される場合、
光距離
測定装置200、300の光ビームは、持続的にターゲット5のリフレクタの方へ向けられている。その際、ターゲットから、通例、反射するまたは自己発光する特別なマーキング点が見え、このマーキング点の結像によって、ターゲット5の方向を決定することができる。従って、ズームカメラ106側から見ると、ターゲット5は、平行な光路111、112の間隔分だけ常にずれている。さらに、ズーム自動装置が、ターゲット5の結像のサイズを一定に維持する。従って、ズームカメラ106の画像変換器107へのターゲット5の結像は、常に、光軸111に対して同じ距離だけずらされている。従って、好ましくは、画像変換器107も、ズームカメラ106の光軸111に対してずらして配置されている。つまり、光軸111は、画像変換器107の中心を通っていない。これにより、画像変換器107は、最適利用され、画像データの評価を能率的に行うことができる。あるいは、画像変換器107をずらすことなく配置し、
光距離
測定装置ビームの側に位置する帯状の画像点を読み出さないこと、または画像処理において考慮しないことも可能である。
【0045】
測定手段、例えば、オーバービューカメラ104、ズームカメラ106、位置変換器108および両
光距離
測定装置200、300は、好ましくは、異なった波長範囲で機能する。
図3は、
図1に記載の配置で用いられる
分離部の、このような場合の反射特性C(s、p)を模式的に示している。横軸は波長を示し、反射光の割合R[%]が、縦軸にプロットされている。第1の
分離部101は、好ましくは、500nm以下の波長範囲における入射光の全成分を反射、すなわち取り出す。オーバービューカメラ104は、550nmを中心とした領域で動作するのに最適化されている。従って、反射照明部110も、好ましくは主としてこの範囲の光を放射する。第2の
分離部102は、633nm付近の光の一部分、例えば約20%を取り出す。これは、好ましくは干渉計
機構300が機能する範囲である。これにより、一方では、干渉計
機構300が、戻り光の主要部分を獲得し、もう一方では、位置変換器108が、限られた、良好に画定された光ビームを、送受ユニット1の追跡のためのベースとして獲得する。
図3は、理想的な曲線を表しており、実際に得られる曲線は、これらの波長が用いられる場合、ほぼ設定どおりになり、他の波長の場合は設定から外れる。既に上で述べたように、第1の
分離部101と第2の
分離部102とは、ビーム方向に見たとき、互いに対して回転されており、従って、
分離された光成分の各軸は、互いに対して垂直方向に、あるいは図平面に対して垂直(s)および平行(p)に位置する。従って、両
分離部の、選択的に透過性を有するミラーも、互いに対して90°回転して配置されている。これにより、透過された、あるいは
分離されなかった光の、偏光度が異なる成分に対して両ミラーが及ぼす作用が相殺される。
【0046】
第2の
分離部102によって
分離されなかった光は、
光距離
測定装置200、300へ導通される。この光は、好ましくは、まずビーム拡大光学系あるいは集光光学系7を介して、次にλ/4板または1/4波長板4を通じて案内される。1/4波長板4の光軸は、電気光学変調器205の結晶のC軸と干渉計
機構300の出力偏光とに対して45度回転されている。この光軸は、ADM
機構200の波長にのみ厳密に作用し、干渉計構成
部300の波長の場合、わずかな信号損失しか伴わない。あるいはまた、両波長に対してできる限り理想的な方法で作用し、広帯域に作用する1/4波長板4を用いることもできる。本発明のまた別の好ましい実施形態では、1/4波長板4が、さらにビーム経路に沿って
分離部に達した位置に、または
分離部の外部に配置されている。これにより、
分離部におけるある種の非対称性も補償されるが、そのためには1/4波長板4がより大きいものでなければならない。
【0047】
1/4波長板4に続いて、この光は、波長依存ビームスプリッタ320によってADM
機構200の成分と干渉計
機構300の成分とに分割される。例えば、ADM
機構200は780nmの波長で機能し、干渉計
機構300は633nmの波長で機能する。
【0048】
ADM
機構200は、測定光ビームを生成するためのレーザーダイオード201を有する。レーザーダイオードから出る光ビームは、戻り光を遮蔽するためのアイソレータ202を通じて偏光ビームスプリッタ203へ、さらにそこから電気光学変調器205を通じて波長依存ビームスプリッタ320へ案内される。波長依存ビームスプリッタ320を介して、この出射光ビームは、上述の部材を逆順に通ってターゲット5に達し、そこで反射される。戻り光は、ADM
機構200において偏光ビームスプリッタ203を通じてADM検出器204へ案内される。このようなADM
機構200の作動形態は、基本的に公知である。測定光ビームを、例えば波長依存ビームスプリッタ320によって送り込むことおよび取り出すことが可能な他のADM
機構および方法を用いることもできる。このようなADMの例は、国際公開第03/062744号パンフレットに詳述されている。本発明の他の実施形態と同様にこの実施形態でも、原則的に、位相計のような他の種類のADMを用いることも可能である。
【0049】
干渉計
機構300は、HeNeレーザー301の光を用い、このHeNeレーザーは、本発明のこの実施形態では、送受ユニット1上ではなく、中間ユニット2内に配置されている。HeNeレーザー301の光は、光導波路501を介して干渉計
機構300へ案内される。その際、光導波路501の両終端に、それぞれコリメータ600が、公知の方法で配置されている。コリメータ600は、光導波路の接続部の一部分として構成されており、例えばGrin(グレーデッドインデックス)コリメータとして構成されており、例えば直径約0.5mmの出力ビームを有する。あるいは、視準するためのレンズまたはビームシェーパーとしてのレンズを、例えば直径約5mmの出力ビーム用に、光導波路の終端の前に配置することも可能である。
【0050】
光導波路501から出る光は、ビームスプリッタ302によって参照光路305と測定光路とに分割される。測定光路は、音響光学変調器303を通り、参照光路と共に偏光ビームスプリッタ304へ達する。偏光ビームスプリッタ304は、測定光をさらに波長依存ビームスプリッタ320へ導き、戻り測定光を参照光と共に、相互に干渉し合う45°偏光成分を生成するための偏光フィルタ306を介して、干渉計検出器307へと導く。このような干渉計
機構300の作動形態は、基本的に公知である。測定光ビームを、例えば波長依存ビームスプリッタ320によって送り込むことおよび取り出すことが可能な他の干渉計
機構および方法を用いることもできる。このような干渉計の例は、国際公開第03/062744号パンフレットに詳述されている。上述の原理は、ヘテロダイン干渉計の原理である。原則的に、本発明の他の実施形態において、他の種類の干渉計(直交検波を用いたマイケルソン干渉計、ゼーマン分裂)を用いることもできる。
【0051】
本実施形態の、および他の実施形態の、詳述されていないその他の変形形態では、両
光距離測定装置200、300のうちの1つのみが具備されている。
【0052】
図4は、
光距離
測定装置200、300がただ1つの光導波路を介して分離された
機構を示す。さらに、この配置では、ズームカメラ106の光路111が、支持台
機構100とターゲット5との間の領域において、
光距離
測定装置200、300の光路112と同軸上にある。以下において、
図2に記載の前述の実施形態との相違点についてのみ説明する。その他の部材は、前述の実施形態と同じ基本構造および機能を有する。
【0053】
第1の
分離部101によって分離される入射光は、この第1の
分離部101の後で、第3の
分離部103によってもう一度分離され、オーバービューカメラ104とズームカメラ106との方向へ分割される。好ましくは、これらの両カメラは、それぞれ異なった波長範囲で機能するように最適化されている。
【0054】
図4に示された実施形態の1つの変形形態では、ADM
機構200、HeNeレーザー301および干渉計
機構300が、中間ユニット2の代わりにベースユニット3の上に配置されており、共通に利用される光導波路502を介して光学的に互いに接続されている。
【0055】
図5は、この配置で用いられる
分離部の反射特性を示す。前述の実施形態と異なり、第1の
分離部101は、550nm付近の波長範囲以外に、880nm付近以上の波長範囲を取り出す。第3の
分離部103は、これらの波長範囲を互いに分離し、880nm付近の波長範囲をズームカメラ106に、550nm付近の波長範囲をオーバービューカメラ104に導く。
【0056】
光距離
測定装置200、300の測定光成分は、第2の
分離部102の後、1/4波長板4とビームシェーパー6とを通じて光導波路502内へ導かれる。また、逆に、
光距離
測定装置200、300から放射される測定光も、これらの1/4波長板とビームシェーパーとを通じて導き出される。ビームシェーパー6は、測定光ビームを4ないし5mmにまで拡大し、例えばGrinコリメータの代わりに用いられている。
【0057】
光導波路502は、偏光成分を互いに独立して伝送し、従って、偏光を保持している。このような光導波路は、好適な軸または主軸(この軸の方向は、ファイバ方向に対して垂直方向の平面に向かって投射を行うことで定められている)を有し、等しく偏光して伝送を行うために、この軸に沿って光が偏光されていなければならない。この偏光保持が、この主軸に対して垂直な偏光方向に対しても行われることは明らかである。
【0058】
この実施形態の上述の部材は、送受ユニット1内に該ユニットと共に移動可能に配置されている。光導波路502は、中間ユニット2上に該ユニットと共に移動可能に配置されているその他の部材につながっている。これらのその他の部材は、ADM
機構200、干渉計
機構300およびそれに付設されたHeNeレーザー301である。
図2の実施形態と同様に、これらの両
光距離
測定装置の測定ビームは、波長依存ビームスプリッタ320によって一緒に案内されるか、あるいは分離される。波長依存ビームスプリッタ320も中間ユニット2上に配置されている。
【0059】
図6は、
光距離測定装置が2つの光導波路を介して分離されている配置を示す。支持台
機構100は、この場合、
図4の実施形態と同様であって、ここで用いられている
分離部101、102、103の反射特性も、
図4の実施形態の場合と同じである。しかし、両実施形態とも、代わりに前記諸部材を同軸上に配置することも可能である。この場合、波長依存ビームスプリッタ320による入射光ビームの分離は、送受ユニット1内において1/4波長板4の背後で行われる。両
光距離測定装置200、300用の分割されたビームは、それぞれ
独自の偏光保持型の光導波路503、504を介して中間ユニット2へ案内される。ADM
機構200、干渉計
機構300およびHeNeレーザー301は、中間ユニット2上に該ユニット共に移動可能に配置されている。この実施形態の1つの変形形態では、ADM
機構200またはHeNeレーザー301、および任意に干渉計
機構300もまた、ベースユニット3上に配置されている。コリメータの代わりに、送受ユニット1内に、典型例としてビームシェーパー6がビーム拡大のために用いられている。
【0060】
両光導波路503、504は、熱技術上の理由およびスペース上の理由から、好ましくはそれぞれ個別に送受ユニット1の右および左の支柱を介して天頂軸Zを通して案内される。
【0061】
図4および
図6の実施形態では、加熱による光導波路502、503、504の長さ変化を考慮しなければならない。これは、好ましくは、温度、例えば座標測定装置内の温度を測定することによって行われる。本発明の1つの好ましい変化形態では、金属線、例えばニッケル製の金属線が、光導波路に対して平行かつできる限り近傍に、例えば光導波路の外装内に通されている。金属線の電気抵抗を用いて、抵抗測定機構によって金属線の平均温度が求められる。そこから、自動的に光導波路の平均の長さ変化が決定され、距離測定の補正のために用いられる。
【0062】
図7は、干渉距離計が2つの光導波路を介して部分的に分離されている配置を示す。この配置では、HeNeレーザー301と干渉計
機構300の音響光学変調器(AOM)303とが、支持台あるいは送受ユニット1から離されて、中間ユニット2上にある。HeNeレーザー301から出たレーザービームは、ビームスプリッタ302によって測定経路と参照経路とに分割される。その際、参照経路は、小さい方のエネルギー成分、例えば約10%を有する。参照経路は、第1の偏光保持型光導波路505を介して延びており、測定経路は、音響光学変調器303とその後の第2の偏光保持型光導波路506とを介して延びている。測定経路と参照経路とをこうして個別に延通することで、両経路は、少なくとも温度変動をほぼ等しく受けるので、温度の影響が低減される。このために、両光導波路は、共通のガイドまたは外装510内に配置されている。光導波路505、506の開始端および終端にそれぞれ、光ビームを縮小または拡大するためのコリメータ600が配置されている。コリメータ601は、あるいは音響光学変調器303におけるファイバ連結部は、一次成分用、すなわち周波数シフトされた成分用のフィルタとして作用し、光導波路506に連結される。測定経路と参照経路とは、中間ユニットから両光導波路505、506を経て送受ユニット1へと延びている。送受ユニットでは、参照光ビームと測定光ビームとの干渉が行われる。そのために、戻り測定光ビームは、偏光ビームスプリッタ310によって出射測定光ビームから分離され、ビームスプリッタ313へ案内される。このビームスプリッタ313は、測定光ビームを参照光ビームと重ね合わせ、両者を干渉計検出器307へ案内する。従って、両ビームスプリッタ310、313と干渉計検出器307とは、送受ユニット1上に配置されている。
【0063】
音響光学変調器303は、反射された測定ビーム用のアイソレータとして働き、従って、HeNeレーザー301を保護するためのアイソレーションを追加する必要がない。あるいはまた、測定光の代わりに参照光を変調することも可能である。しかし、その場合は、測定光経路内にアイソレータを配置しなければならない。
【0064】
コリメータ602は、好ましくは比較的大きな焦点距離、例えば18mmの焦点距離を有し、これにより、測定光の、例えば4ないし5mmという十分な直径を生成する。あるいは、コリメータ602の焦点距離は、例えば2mmという短い焦点距離であり、それに隣接して、ガリレオ望遠鏡が、
図4および
図6の実施形態の場合と同じように、それぞれの光導波路の終端前に配置されている(個別的には図示されていない)。
【0065】
本発明のこの実施形態では、発熱する部材は、中間ユニット2内に配置され、送受ユニット1内の感熱性光学部材から遠ざけられている。
【0066】
図8は、絶対距離計が1つの光導波路を介して分離された配置を示す。送受ユニット1上には、1/4波長板4と光導波路504用のコリメータ600とのみが配置されている。1/4波長板4を送受ユニット1上に配置することは、光導波路504における異なった位相遅れを補償するのに役立つ。出射ビームの場合、レーザービームの、互いに直交する成分が、異なった未知の遅延を伴っている。90°の位相シフトの後、すなわち、1/4波長板4による円偏光への変換、ターゲット5による反射、および1/4波長板4による新たな位相シフトの後、各成分は、90度回転されており、従って、光導波路504の主軸に対して相互に交換されている。これにより、各成分は、帰路において、他方の成分が往路において受けた遅延を受ける。これによって、遅延における差が補償されている。この補償が最適に作用するように、コリメータ603では、光導波路504の偏光軸が、電気光学変調器205の偏光軸の方向へ向けられており、つまり、該偏光軸に対して平行になっている。
【0067】
図9は、
図7の配置と
図8の配置とを組み合わせた配置を示す。ADM
機構200と干渉計
機構300との測定ビームは、送受ユニット1において、波長依存ビームスプリッタ320によって重ね合わされるか、あるいは互いに分離される。1/4波長板4は、ADMの測定に合わせて最適化されており、同時にまた、干渉計の測定に対する影響および損失が最低限になるように構成されている。これにより、両
光距離測定装置の測定光ビームは、
独自の光導波路504、505、506を介して個別に中間ユニット2へ、あるいは該ユニットから案内される。好ましくは、その際、ADM
機構200の光導波路504は、第1の支柱21を介して
案内されており、干渉計
機構300の光導波路505、506は、第2の支柱22を介して
案内されている。こうして個別に
案内することで、両
光距離測定装置の幾つかの構成要素を個別に両支柱21、22内に配置することができる。この実施形態の別の変形形態では、
図9では中間ユニット2内に配置されているADM
機構200の部材または干渉計
機構300の部材が、中間ユニットではなくベースユニット3内に配置されている。
【0068】
これにより、送受ユニット1内の光学構成部材の量は、最小限に抑えられており、特に熱源は中間ユニット2内に配置されており、送受ユニット1内には配置されていない。
【0069】
図10は、光導波路の1つを多重に利用した、
図7の配置と
図8の配置とを組み合わせた配置を示す。この配置では、ADM
機構200によって生成された測定ビームは、干渉計
機構300の測定ビームに結合されている。好ましくは、この結合部は、音響光学変調器303とそれに付設されたコリメータ600との間に波長依存ビームスプリッタ320を有して配置されている。
【0070】
送受ユニット1内の配置は、
図7の場合と構造上同じである。送受ユニット1内の偏光ビームスプリッタ310は、干渉計の波長範囲にのみ作用し、従って干渉計の戻り光の少なくとも一部をビームスプリッタ313へ、従ってまた干渉計検出器307へ反射する。ADMの光成分は、偏光ビームスプリッタ310をほぼ透過し、同じファイバ506と中間ユニット2上の波長依存ビームスプリッタ320とを通ってADM
機構200に達する。この光導波路506は、ADMの波長(例えば780nm)および干渉計の波長(例えば633nm)よりも低い、シングルモード伝搬のカットオフ波長を有する。本発明のこの実施形態によって、ADMと干渉計と送受ユニット1上の少数の光学部材とを高度に統合することが可能となる。両
光距離測定装置のビームは、光導波路506の前で互いに合成され、送受ユニット1内で同じ光学系を通過するので、特別なコストを必要とすることなく、両
光距離測定装置のビームを良好に重ね合わせることができる。
【0071】
図11は、干渉距離計が2つの光導波路を介して部分的に分離された別の
機構を示す。この場合、干渉計検出器307は、中間ユニット2内に配置されており、またそれに付設されたビームスプリッタ313も同様に配置されている。これにより、干渉計の電気部材は、送受ユニット1内には全く配置されていない。しかし、光導波路505、506の共通の長さ変化が、相殺し合うことはもはやなくなる。従って、好ましくは、温度測定と補償とが組み入れられており、例えば上述したように、光導波路505、506に対して平行な測定ワイヤが備えられている。
【0072】
図12は、絶対距離計が2つの光導波路507、508を介して部分的に分離された
機構を示す。電気光学変調器205から出射するビームは、偏光ビームスプリッタ311において、両光導波路507、508のコリメータ600へ分割される。両光導波路の主軸は、偏光ビームスプリッタ311の軸に対して平行に方向付けられている。
【0073】
送受ユニット1において、ビームの両成分は、もう1つの偏光ビームスプリッタ312で合成され、1/4波長板4を通じて放射される。戻り光は、1/4波長板4を再び通過する。各成分は、全部で90度回転されており、帰路用の前記もう1つの偏光ビームスプリッタ312によってそれぞれ、往路の際とは別の光導波路507、508へ案内される。従って、光導波路507、508間の成分の位相シフトが異なっていても影響を及ぼさない。同じことが、成分の吸収が異なっている場合にも当てはまる。
【0074】
図13と
図14は、
光学距離計がサブユニットに分離されている別の
機構を示す。この場合、サブユニットの幾つかのものは、ベースユニット3上にも配置されている。このことは、特に重いサブユニットおよび/または比較的熱損失が大きいサブユニットの場合に有利である。
図13の
機構では、HeNeレーザー301はベースユニット3内に配置されており、光導波路を介して支持台
機構100内の干渉計
機構300に接続されている。
図14の
機構では、HeNeレーザー301の他に干渉計
機構300もベースユニット3内に配置されている。ADM
機構200は、この2つの変形形態では、それぞれ中間ユニット2内に配置されている。ADM
機構200は破線で示されており、これによって、ADM
機構を支持台
機構100内に配置することもまた可能であることが示唆されている。