特許 5755955 ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5755955

(24)【登録日】2015年6月5日

(45)【発行日】2015年7月29日

(54)【発明の名称】ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G11B 5/84 20060101AFI20150709BHJP

【ＦＩ】

   G11B5/84 Z

【請求項の数】2

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2011-146231(P2011-146231)

(22)【出願日】2011年6月30日

(65)【公開番号】特開2013-16215(P2013-16215A)

(43)【公開日】2013年1月24日

【審査請求日】2014年6月16日

(73)【特許権者】

【識別番号】000113263

【氏名又は名称】ＨＯＹＡ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100067828

【弁理士】

【氏名又は名称】小谷 悦司

(74)【代理人】

【識別番号】100115381

【弁理士】

【氏名又は名称】小谷 昌崇

(74)【代理人】

【識別番号】100111453

【弁理士】

【氏名又は名称】櫻井 智

(74)【代理人】

【識別番号】100162765

【弁理士】

【氏名又は名称】宇佐美 綾

(74)【代理人】

【識別番号】100174827

【弁理士】

【氏名又は名称】治下 正志

(72)【発明者】

【氏名】島津 典子

(72)【発明者】

【氏名】福本 直之

【審査官】 中野 和彦

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−０９９６３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１４０４９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−３３３９０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−１２６８７８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−２６７２６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−１４４６４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−０３１２５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１５９７０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２８９９１５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ１１Ｂ ５／８４−５／８５８

Ｇ１１Ｂ ７／２６

Ｂ０８Ｂ ３／００−３／１４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ガラス基板を洗浄液で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、
洗浄工程では、ガラス基板を収容する洗浄キャリアの相対向する両側面に非対称に開口を設けることにより、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流して洗浄することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。

【請求項2】

ガラス基板をその両側端部及び下端部の３点で保持し、その保持部が９０°ずつ離間していることを特徴とする請求項１に記載のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）用磁気記録媒体に格納される情報の高密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さが益々小さくなっており、数百ｎｍの付着物でもヘッドクラッシュやサーマルアスペリティを引き起こすほどである。特に、ＤＦＨ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｌｙｉｎｇ Ｈｅｉｇｈｔ）機構を搭載したヘッドの場合、ヘッドの浮上高さが数ｎｍにまで微小なものとなり、ＨＤＤ用磁気記録媒体の清浄性が強く求められている。また、記録領域の拡大に伴い、記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっている。そのため、記録媒体の最外周部まで高い清浄性が求められている。

【0003】

ＨＤＤ用磁気記録媒体の基板に用いられるＨＤＤ用ガラス基板は、その製造過程において、検査工程の前に洗浄液で洗浄される。この洗浄工程では、ガラス基板は、例えば洗浄キャリア等と称される専用容器に収容された状態で、洗浄槽に入れられ、洗浄槽内で洗浄液が流されて洗浄される。

【0004】

特許文献１に記載されるように、洗浄キャリアは、一対の対向壁間に複数の保持用ロッドが所定の間隔で相互に平行に架設された構造である。各保持用ロッドの周面には周方向に凹溝が形成されている。ガラス基板は、その両側端部と下端部とが３本の保持用ロッドで保持され、凹溝に嵌り込み、立った状態で洗浄キャリアに収容される。洗浄後、ガラス基板は、洗浄キャリアに収容された状態のまま乾燥される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００９−８７４７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

従来、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残り、そのため、ガラス基板の主表面の上に記録層を形成して磁気記録媒体としたときに記録領域に障害が出るという問題があった。

【0007】

そこで、本発明の目的は、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残らないＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者等は、従来、洗浄槽内で洗浄液を整流で流していたので、ガラス基板の外周端部において洗浄残りが生じ易くなり、この洗浄残りがガラス基板の外周端部に欠陥となって残っていたことを見出して本発明を完成した。

【0009】

すなわち、本発明の一局面は、ガラス基板を洗浄液で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、洗浄工程では、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流して洗浄することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法である。

【0010】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板に対して洗浄液が乱流で流れるので、ある方向の洗浄液の流れに対しては洗浄残りが生じても、その部分は、別の方向の洗浄液の流れに対しては洗浄残りがなくなる。そのため、ガラス基板の外周端部の洗浄残りが解消されて、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残ることが抑制される。

【0011】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板をその両側端部及び下端部の３点で保持し、その保持部が９０°ずつ離間していることが好ましい。

【0012】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、洗浄液を乱流で流しても、ガラス基板を洗浄中安定して保持することができる。また、ガラス基板の乾燥時にパーティクルの付着や乾燥染みの発生を防ぐことができる。

【0013】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法においては、洗浄槽内に遮蔽板を設けることにより、洗浄液を乱流で流すことが好ましい。

【0014】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、遮蔽板によって確実に洗浄槽内に乱流が発生し、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流すことができる。

【0015】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法においては、洗浄液の流れを横切る方向にガラス基板を移動させることにより、洗浄液を乱流で流すことが好ましい。

【0016】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、ガラス基板が洗浄液の流れを横切ることによって確実にガラス基板に対して乱流が発生し、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流すことができる。

【0017】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法においては、洗浄槽内に洗浄液を無秩序な向きに供給することにより、洗浄液を乱流で流すことが好ましい。

【0018】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、洗浄液が衝突し合うことによって確実に洗浄槽内に乱流が発生し、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流すことができる。

【0019】

本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板を収容する洗浄キャリアの相対向する両側面に非対象に開口を設けることにより、洗浄液を乱流で流すことが好ましい。

【0020】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法によれば、洗浄液が洗浄キャリアの両側面の非対象な開口を通過することによって確実に洗浄キャリア内のガラス基板に対して乱流が発生し、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流すことができる。

【0021】

本発明の他の一局面は、前記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板である。

【0022】

このような構成のＨＤＤ用ガラス基板によれば、その製造過程における洗浄工程で、外周端部の洗浄残りが解消されているから、外周端部に欠陥が残ることが抑制された高品質のＨＤＤ用ガラス基板である。

【0023】

本発明のさらに他の一局面は、前記ＨＤＤ用ガラス基板の主表面の上に記録層が設けられたことにより製造されたことを特徴とするＨＤＤ用磁気記録媒体である。

【0024】

このような構成のＨＤＤ用磁気記録媒体によれば、外周端部に欠陥が残ることが抑制されたＨＤＤ用ガラス基板が用いられているから、最外周部まで清浄性が高い高品質のＨＤＤ用磁気記録媒体である。そのため、たとえ記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっていても、記録領域に障害が出ることが抑制される。

【発明の効果】

【0025】

本発明によれば、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残らないようにすることができるから、近年の磁気記録媒体の情報の高密度化、ひいては磁気ヘッドの浮上高さの微小化に十分対応できる。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】本発明の実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板の斜視図である。

【図2】本発明の実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板の製造工程図である。

【図3】２次研磨工程で用いられる両面研磨機の主要部の構成を示す概略側面図である。

【図4】最終洗浄工程後にガラス基板の外周端部に発見される欠陥の１例を示す図面代用写真である。

【図5】最終洗浄工程で用いられる洗浄キャリアの斜視図である。

【図6】前記洗浄キャリアの側面図である。

【図7】前記洗浄キャリアの正面図である。

【図8】最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を乱流で流す方向の１例を示す説明図である。

【図9】最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を乱流で流す方向の他の例を示す説明図である。

【図10】最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を乱流で流す方向のさらに他の例を示す説明図である。

【図11】最終洗浄工程でガラス基板に対して洗浄液を乱流で流す方向のさらに他の例で用いられる洗浄キャリアの斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0027】

以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。ただし、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

【0028】

＜ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法＞
図１に示すガラス基板５０及び図２に示す製造工程図を参照して、ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を説明する。

【0029】

本実施形態においては、ＨＤＤ用ガラス基板５０は、円盤加工工程、ラップ工程、１次研磨（粗研磨）工程、２次研磨（精密研磨）工程、化学強化工程、最終洗浄工程、検査工程等を経て製造される。

【0030】

ガラス基板５０に用いられるガラス素材は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）を主成分とするガラス組成物で構成される。ガラス組成物は、マグネシウム、カルシウム及び／又はセリウムを含んでも含まなくてもよい。代表的なガラス組成物は、例えば、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＺｎＯ等を含んだものである。

【0031】

［円盤加工工程］
円盤加工工程では、溶融したガラス素材を金型に流し込んでプレス成形することにより円盤状のガラス基板（ブランクス）を作製する。このときのガラス基板の大きさとしては、例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１．０インチ、０．８インチ等、板厚が、２ｍｍ、１ｍｍ、０．８ｍｍ、０．６３ｍｍ等である。得られたガラス基板の中心部に、例えばダイヤモンドコアドリル等を用いて円孔を形成し、環状のガラス基板とする。

【0032】

［ラップ工程］
ラップ工程は、第１ラップ工程と第２ラップ工程とを含む。第１ラップ工程では、ガラス基板の表裏両面を研削し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度及び厚み等を予備調整する。第２ラップ工程では、第１ラップ工程に続いて、ガラス基板の表裏両面を再び研削し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度及び厚み等をさらに微調整する。ラップ工程では、例えばダイヤモンドペレットが貼り付けられた上下定盤を備える両面研削機が用いられる。

【0033】

［１次研磨工程］
１次研磨工程では、次の２次研磨工程で最終的に求められる表面粗さが効率よく得られるように、ガラス基板の表裏両面を粗研磨する。この１次研磨工程では、例えば研磨パッドとして発泡ウレタンパッドが貼り付けられた上下一対の定盤を備える両面研磨機が用いられ、研磨液として例えば酸化セリウムを研磨砥粒として含む研磨液（スラリー）が用いられる。ただし、これに限定されるものではない。

【0034】

［２次研磨工程］
２次研磨工程では、１次研磨工程に続いて、最終的に求められる表面粗さが得られるように、ガラス基板の表裏両面を精密研磨する。この２次研磨工程では、図３に示すように、ガラス基板５０の表裏両面を同時研磨することが可能な両面研磨機１０が用いられる。

【0035】

両面研磨機１０は、相互に平行になるように上下に間隔をおいて配置され、相互に逆方向に回転可能な円盤状の上定盤１１と下定盤１２とを備えている。この上下一対の定盤１１，１２の各対向面にガラス基板５０の表裏両面を研磨するための研磨パッド（本実施形態ではポリウレタン製のスウェードパッド）Ｐが貼り付けられている。定盤１１，１２の間には、回転可能な複数のキャリア１３が配置され、各キャリア１３には、複数のガラス基板５０が嵌め込まれてセットされている。キャリア１３は、ガラス基板５０を保持した状態で、自転しながら定盤１１，１２の回転中心に対して公転する。このような動作をしている上下定盤１１，１２及びキャリア１３に対して、砥粒（本実施形態ではコロイダルシリカ）を含む研磨液（スラリー）が上定盤１１の研磨パッドＰとガラス基板５０との間、及び、下定盤１２の研磨パッドＰとガラス基板５０との間にそれぞれ供給され、これにより、ガラス基板５０の表裏両面の精密研磨が実行される。

【0036】

なお、図３において、符号１４は研磨液回収装置、符号１５は研磨液貯留タンク、符号１６は研磨液供給管、符号１７は潤滑液貯留タンク、符号１８は潤滑液供給管である。

【0037】

［化学強化工程］
化学強化工程では、ガラス基板の表面に化学強化層を形成する。例えば、ガラス基板をナトリウムイオンやカリウムイオンの存在する化学強化処理液に浸漬することにより、ガラス基板の表層に存在するリチウムイオンやナトリウムイオンが化学強化処理液中のナトリウムイオンやカリウムイオンと置換され、ガラス基板の表層が化学強化層となる。化学強化層には圧縮応力がかかっている。このような化学強化層を形成することにより、最終的に得られるガラス基板５０の耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等が向上する。

【0038】

［最終洗浄工程］
（総論）
最終洗浄工程では、ガラス基板に付着している異物を、例えば、フィルタリングした純水、イオン交換水、超純水、酸性洗剤、中性洗剤、アルカリ性洗剤、有機溶剤、界面活性剤等を含んだ各種洗浄液を用いて、洗浄し、除去する。その後、ガラス基板を乾燥する。

【0039】

（従来の最終洗浄工程）
従来、ガラス基板を洗浄キャリアに収容し、この状態で洗浄槽に入れ、洗浄槽内でガラス基板に対して洗浄液を流すことにより洗浄を行っていた。このとき、洗浄槽内で洗浄液を整流（例えば下から上への１方向のみの整流又は左から右への１方向のみの整流）で流していたので、ガラス基板の外周端部において洗浄残りが生じ易くなり、この洗浄残りが、図４に例示するように、ガラス基板５０の外周端部に欠陥（ｄｅｆｅｃｔ）となって残るという問題があった。

【0040】

（本実施形態の最終洗浄工程）
本実施形態においては、ガラス基板５０に対して洗浄液を乱流で流してガラス基板５０を洗浄する。

【0041】

図５〜図７に示すように、洗浄キャリア２０は、前後一対の対向壁２１，２２間に複数（図例では５つ）の保持用ロッド２３が所定の間隔で相互に平行に架設された構造である。各保持用ロッド２３の周面には周方向に凹溝が形成されている。ガラス基板５０は、その両側端部と下端部とが３本の保持用ロッド２３で保持され、凹溝に嵌り込み、立った状態で洗浄キャリア２０に収容される。洗浄キャリア２０は一度に多数のガラス基板５０を収容できる。

【0042】

図８〜図１０に示すように、ガラス基板５０を洗浄キャリア２０に収容した状態で洗浄槽３０に入れ、洗浄槽３０内で洗浄液３１を流すことによりガラス基板５０を洗浄する。このとき、ガラス基板５０は、その主表面が洗浄液３１の流れ方向と平行になるように洗浄槽３０内に配置される。

【0043】

図８は、洗浄槽３０の下に洗浄液供給装置３２が備えられ、洗浄槽３０内を洗浄液３１が下から上に流れる場合（噴流という）を示している。洗浄槽３０内のガラス基板５０の下方に遮蔽板３３が配置されている。遮蔽板３３によって確実に洗浄槽３０内に乱流が発生する。その結果、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。洗浄液３１は洗浄槽３０の上部から排出される。これに限定されず、洗浄槽３０内を洗浄液３１が上から下に流れる場合（掛流しという）において、洗浄槽３０内のガラス基板５０の上方に遮蔽板３３を配置し、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すようにしてもよい。

【0044】

図９は、洗浄槽３０の左に洗浄液供給装置３４が備えられ、洗浄槽３０内を洗浄液３１が左から右に流れる場合（左層流という）を示している。洗浄槽３０内のガラス基板５０の左方に遮蔽板３３が配置されている。遮蔽板３３によって確実に洗浄槽３０内に乱流が発生する。その結果、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。洗浄液３１は洗浄槽３０の右部から排出される。これに限定されず、洗浄槽３０内を洗浄液３１が右から左に流れる場合（右層流という）において、洗浄槽３０内のガラス基板５０の右方に遮蔽板３３を配置し、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すようにしてもよい。

【0045】

図示しないが、例えば、洗浄槽３０内を洗浄液３１が下から上に流れる場合において、洗浄液３１の流れを横切る方向にガラス基板５０を移動させる（例えば左右に洗浄キャリア２０を往復動させる）ことによっても、確実にガラス基板５０に対して乱流が発生し、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。これに限定されず、洗浄槽３０内を洗浄液３１が上から下、左から右、右から左に流れる場合において、洗浄液３１の流れを横切る方向にガラス基板５０を移動させる（例えば左右又は上下に洗浄キャリア２０を往復動させる）ことによっても、確実にガラス基板５０に対して乱流が発生し、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。

【0046】

図１０は、洗浄槽３０の下に洗浄液供給装置３２が備えられ、洗浄槽３０内を洗浄液３１が下から上に流れる場合を示している。洗浄槽３０内に洗浄槽３０の下部から洗浄液３１が供給されるとき、例えば噴射ノズル（図示せず）の向きを無秩序にしておくことにより、洗浄槽３０内に洗浄液３１が無秩序な向きに供給され、洗浄液３１が衝突し合うことによって確実に洗浄槽３０内に乱流が発生する。その結果、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。これに限定されず、洗浄槽３０内を洗浄液３１が上から下、左から右、右から左に流れる場合において、洗浄槽３０内に洗浄液３１を無秩序な向きに供給することによって、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すようにしてもよい。

【0047】

図１１は、最終洗浄工程でガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流す方向のさらに他の例で用いられる洗浄キャリア４０の斜視図である。この洗浄キャリア４０は、前後一対の対向壁４１，４２間に複数（図例では５つ）の保持用ロッド４３が所定の間隔で相互に平行に架設された構造である。各保持用ロッド４３の周面には周方向に凹溝が形成されている。ガラス基板５０は、その両側端部と下端部とが３本の保持用ロッド４３で保持され、凹溝に嵌り込み、立った状態で洗浄キャリア４０に収容される。洗浄キャリア４０は一度に多数のガラス基板５０を収容できる。

【0048】

この洗浄キャリア４０は、相対向する左右一対の側面４４，４５を有している。両側面４４，４５には開口４６…４６が形成されている。開口４６…４６は、両側面４４，４５間で非対称である。このような構成の洗浄キャリア４０を用いると、洗浄液３１が洗浄キャリア４０の両側面４４，４５の非対象な開口４６…４６を通過することによって確実に洗浄キャリア４０内のガラス基板５０に対して乱流が発生し、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流すことができる。

【0049】

この場合、洗浄液３１が左右の側面４４，４５の開口４６…４６を良好に通過するように、洗浄液３１は左から右又は右から左に流れることが好ましい。

【0050】

（本実施形態の作用）
本実施形態においては、ガラス基板５０に対して洗浄液３１が乱流で流れるので、ある方向の洗浄液３１の流れに対しては洗浄残りが生じても、その部分は、別の方向の洗浄液３１の流れに対しては洗浄残りがなくなる。そのため、ガラス基板５０の外周端部の洗浄残りが解消されて、洗浄、乾燥後のガラス基板５０の外周端部に欠陥が残ることが抑制される。

【0051】

本実施形態においては、ガラス基板５０をその両側端部及び下端部の３点で保持し、その保持部が９０°ずつ離間していることが好ましい。つまり、３つの保持用ロッド２３のうちの１つがガラス基板５０の左側端部を保持し、１つが右側端部を保持し、１つが下端部を保持するのである。これにより、洗浄液３１を乱流で流しても、ガラス基板５０を洗浄中安定して保持することができる。また、ガラス基板５０の乾燥時にパーティクルの付着や乾燥染みの発生を防ぐことができる。

【0052】

なお、洗浄槽３０に供給され洗浄槽３０から排出される（すなわち洗浄槽３０を通過する）洗浄液３１の流量（Ｌ／分）又は流速（ｍ／分）は、洗浄槽３０内の洗浄液３１の置換率増大等の観点と、保持用ロッド２３によるガラス基板５０の保持の安定性等の観点から、検討する必要がある。

【0053】

［検査工程］
検査工程では、ガラス基板の平坦度や厚み、あるいは表面粗さや欠陥の有無等を検査する。そして、検査に合格したガラス基板のみが、異物等が表面に付着しないように、清浄な環境の中で、専用収納カセットに収納され、真空パックされた後、ＨＤＤ用ガラス基板として出荷される。

【0054】

＜ＨＤＤ用ガラス基板＞
次に、前記のようにして製造されたＨＤＤ用ガラス基板について説明する。図１に示すように、本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板５０は、その製造過程における洗浄工程で、外周端部の洗浄残りが解消されているから、外周端部に欠陥が残ることが抑制された高品質のＨＤＤ用ガラス基板である。

【0055】

＜ＨＤＤ用磁気記録媒体＞
次に、前記ＨＤＤ用ガラス基板５０を用いて製造されたＨＤＤ用磁気記録媒体について説明する。本実施形態に係るＨＤＤ用磁気記録媒体は、前記ＨＤＤ用ガラス基板５０の主表面の上に記録層としての磁性膜が設けられたことにより製造されたものである。磁性膜は主表面の上に直接に又は間接に形成されてよい。磁性膜はガラス基板５０の片面に又は両面に形成されてよい。

【0056】

磁性膜の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板５０上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリングや無電解めっきにより形成する方法等が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約０．３μｍ〜１．２μｍ程度、スパッタリング法での膜厚は０．０４μｍ〜０．０８μｍ程度、無電解めっき法での膜厚は０．０５μｍ〜０．１μｍ程度であり、薄膜化及び高密度化の観点からは、スパッタリング法や無電解めっき法による膜形成が好ましい。

【0057】

磁性膜に用いる磁性材料としては特に限定はなく、従来公知のものが使用できる。なかでも、高い保持力を得るために結晶異方性の高いＣｏを基本材料とし、残留磁束密度を調整する目的でＮｉやＣｒを加えたＣｏ系合金等が好適である。具体的には、Ｃｏを主成分とするＣｏＰｔ、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＣｒＰｔＳｉＯ等が好ましい。

【0058】

磁性膜は、非磁性膜（例えば、Ｃｒ、ＣｒＭｏ、ＣｒＶ等）で分割し、ノイズの低減を図った多層構成（例えば、ＣｏＰｔＣｒ／ＣｒＭｏ／ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒＰｔＴａ／ＣｒＭｏ／ＣｏＣｒＰｔＴａ等）としてもよい。

【0059】

前記磁性材料の他、フェライト系や鉄−希土類系のものや、ＳｉＯ_２、ＢＮ等からなる非磁性膜中に、Ｆｅ、Ｃｏ、ＦｅＣｏ、ＣｏＮｉＰｔ等の磁性粒子を分散させた構造のグラニュラー等でもよい。

【0060】

磁性膜は、内面型及び垂直型のいずれの記録形式であってもよい。

【0061】

磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル（ＰＦＰＥ）をフレオン系等の溶媒で希釈したもの等が挙げられる。

【0062】

本実施形態では、必要に応じて、記録層としての磁性膜の他に、下地層や保護層を設けてもよい。ＨＤＤ用磁気記録媒体における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ、Ｖ、Ｂ、Ａｌ、Ｎｉ等の非磁性金属からなる群より選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Ｃｏを主成分とする磁性膜の場合は、磁気特性の向上等の観点から、Ｃｒ単体やＣｒ合金であることが好ましい。下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Ｃｒ／Ｃｒ、Ｃｒ／ＣｒＭｏ、Ｃｒ／ＣｒＶ、ＮｉＡｌ／Ｃｒ、ＮｉＡｌ／ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ／ＣｒＶ等の多層下地層とすることができる。

【0063】

保護層は、磁性膜の摩耗や腐食を防止するために設けられる。保護層としては、例えば、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層等が挙げられる。これらの保護層は、下地層や磁性膜等と共に、インライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構造としてもよい。

【0064】

前記保護層上に、あるいは前記保護層に代えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、前記保護層に代えて、Ｃｒ層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成することにより、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）層を形成してもよい。

【0065】

以上のように、基板として本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板５０を用いて製造されたＨＤＤ用磁気記録媒体をＨＤＤに用いることで、ＨＤＤの高速回転時の磁気ヘッドの動作を安定にすることができる。

【0066】

また、本実施形態に係るＨＤＤ用磁気記録媒体は、外周端部に欠陥が残ることが抑制されたＨＤＤ用ガラス基板５０が用いられているから、最外周部まで清浄性が高い高品質のＨＤＤ用磁気記録媒体である。そのため、たとえ記録領域が記録媒体の外周端部にまで広がっていても、記録領域に障害が出ることが抑制される。

【0067】

なお、本実施形態では、研磨工程は、２回に分けて行ったが、これに限らず、１回のみ行ってもよい。また、化学強化工程を研磨工程の後に行ったが、状況に応じて研磨工程の前に行ってもよい。また、状況に応じて化学強化工程を省略することもできる。

【0068】

さらに、落下強度対策として、ガラス基板の主表面以外の外周端面や内周端面の強化を行ってもよいし、ガラス基板に生じたキズのエッジ緩和処理として、ガラス基板をＨＦ浸漬処理に供してもよい。

【0069】

本実施形態に係るＨＤＤ用ガラス基板は、ＨＤＤ用磁気記録媒体の製造用途に限定されるものではなく、例えば、光磁気ディスクや光ディスク等の製造用途にも用いることができる。

【実施例】

【0070】

以下、実施例及び比較例を通して、本発明をさらに詳しく説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものではない。

【0071】

＜ＨＤＤ用ガラス基板の製造＞
図２に示した製造工程に従い、下記の組成（質量％）のガラス素材を用いて、外径が約６５ｍｍ（２．５インチ）、内径（円孔の径）が約２０ｍｍ、板厚が１ｍｍの環状のアルミノシリケート製ガラス基板を作製した。

【0072】

（ガラス素材の組成）
・ＳｉＯ_２：５０〜７０％
・Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜２０％
・Ｂ_２Ｏ_３：０〜５％
ただし、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＝５０〜８５％であり、また、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＝０．１〜２０％であり、また、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ＝２〜２０％である。

【0073】

なお、最終洗浄工程では、表１に示すように、実施例１は、洗浄液を下から上に流しつつ、遮蔽板を用いて、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流し、実施例２は、洗浄液を下から上に流しつつ、左右に洗浄キャリアを往復動させて、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流し、実施例３は、洗浄液を下から上に流しつつ、洗浄槽内に洗浄液を無秩序な向きに供給して、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流し、実施例４は、洗浄液を左から右又は右から左に流しつつ、左右の側面の開口が非対称な洗浄キャリアを用いて、ガラス基板に対して洗浄液を乱流で流した。また、比較例１は、洗浄液を下から上への１方向のみの整流で流し、比較例２は、洗浄液を左から右又は右から左への１方向のみの整流で流した。

【0074】

実施例１〜４及び比較例１、２において、洗浄キャリアのガラス基板収容枚数、洗浄槽の大きさ、洗浄液の種類、洗浄液の流量又は流速、その他の洗浄条件は全て同じに揃えた。

【0075】

＜ＨＤＤ用ガラス基板の評価＞
［欠陥の有無］
得られたガラス基板の外周端部に、図４に例示したような欠陥があるか否かを、日本機販社から商業的に入手し得る、欠陥可視化・外観検査装置「Ｍｉｃｒｏ−ＭＡＸ」を用いて検査した。サンプル数は、実施例１〜４及び比較例１、２において、それぞれ１００枚とした。結果を表１に示す。

【0076】

＜ＨＤＤ用磁気記録媒体の製造＞
得られたガラス基板の主表面の上に磁性膜（記録層）を設けて磁気記録媒体とした。すなわち、ガラス基板側から、Ｎｉ−Ａｌからなる下地層（厚み約１００ｎｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔからなる記録層（厚み２０ｎｍ）、ＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）からなる保護膜（厚み５ｎｍ）を順次積層した。

【0077】

＜ＨＤＤ用磁気記録媒体の評価＞
［リードライト試験］
得られた磁気記録媒体について、ＤＦＨ機構を搭載した磁気ヘッドで、リードライト試験を行い、エラーの発生枚数を記録した。サンプル数は、実施例１〜４及び比較例１、２において、それぞれ５０枚とした。結果を表１に示す。

【0078】

【表1】

【0079】

＜結果の考察＞
洗浄槽内で洗浄液を整流で流した比較例１、２に比べて、洗浄槽内で洗浄液を乱流で流した実施例１〜４は、ガラス基板の欠陥枚数及び磁気記録媒体のリードライトエラー枚数共に評価結果に優れていた。

【符号の説明】

【0080】

１０ 研磨機
２０ 洗浄キャリア
２３ 保持用ロッド
３０ 洗浄槽
３１ 洗浄液
３２ 洗浄液供給装置
３３ 遮蔽板
３４ 洗浄液供給装置
４０ 洗浄キャリア
４６ 開口
５０ ガラス基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図4】