特許5756273酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜

発明の名称　酸化亜鉛薄膜製造用組成物およびドープ酸化亜鉛薄膜製造用組成物を用いた酸化亜鉛薄膜製造方法、およびこの方法で製造した帯電防止薄膜、紫外線カット薄膜、透明電極薄膜

出願人　東ソー・ファインケム株式会社　（識別番号 301005614）

　　　　特許公開件数ランキング 1078 位（29件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1290 位（22件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5756273

公報発行日　2015年7月29

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5756273

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