特許5756657IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

金属メッキ材料の製造方法に関する。さらに詳しくは、例えば、パターン化された電極などに有用な金属メッキ材料の製造方法に関する。本発明の金属メッキ材料の製造方法によれば、基材としてフレキシブルな材料を用いた場合には、金属蒸着などの煩雑な方法を採らなくても、屈曲させることができるフレキシブルな導電性皮膜を有する金属メッキ材料を容易に製造することができることから、フレキシブルな導電性皮膜を有する金属メッキ材料を工業的に量産することが期待される。本発明の金属メッキ材料の製造方法によって得られたパターン化された電極などの金属メッキ材料は、電子機器などへの応用が期待されるものである。さらに、前記金属メッキ材料は、例えば、ダイヤフラムポンプ、人工筋肉などの用途に使用することが期待されるものである。 なお、本願明細書において、金属メッキ材料とは、表面上に金属メッキが施された材料を意味する。また、本願明細書において、イオン注入とは、イオン照射の概念を含むものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたものであり、マスキングテープを必要とせず、フォトリソグラフィー法を利用した電極の製造方法よりも効率よく金属メッキ材料を製造することができる金属メッキ材料の製造方法を提供することを課題とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、 (1) 基材として高分子材料を用いて金属メッキ材料を製造する方法であって、前記高分子材料として高分子電解質材料を用い、所定のパターンを有するマスクを介して当該高分子電解質材料の表面にイオン注入を行なった後、当該高分子電解質材料に無電解メッキを施すことを特徴とする金属メッキ材料の製造方法、 (2) 高分子電解質材料が、スルホン酸基、カルボキシル基、リン酸基およびホウ酸基からなる・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、マスキングテープを必要とせずに、フォトリソグラフィー法を利用した電極の製造方法よりも効率よく金属メッキ材料を製造することができるという優れた効果が奏される。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜の炭素原子由来のC1sの結合エネルギーについてのX線光電子分光スペクトルを示す図である。

【図2】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜のフッ素原子由来のF1sの結合エネルギーについてのX線光電子分光スペクトルを示す図である。

【図3】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜の酸素原子由来のO1sの結合エネルギーについてのX線光電子分光スペクトルを示す図である。

【図4】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜のイオウ原子由来のS2p3/2の結合エネルギーについてのX線光電子分光スペクトルを示す図である。

【図5】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜のフーリエ変換赤外分光スペクトルを示す図である。

【図6】イオン注入される前のフッ素樹脂膜および製造例1〜4でイオン注入されたフッ素樹脂膜の引っ張り強度を調べた結果を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

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