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特許5758625レジスト下層膜用芳香族環含有化合物およびこれを含むレジスト下層膜用組成物
発明の名称 レジスト下層膜用芳香族環含有化合物およびこれを含むレジスト下層膜用組成物
出願人 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド （識別番号 500005066）
特許公開件数ランキング 14468 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 12296 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-5758625
公報発行日 2015年8月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5758625
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