特許 5765504 光照射装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】5765504

(24)【登録日】2015年6月26日

(45)【発行日】2015年8月19日

(54)【発明の名称】光照射装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20150730BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20150730BHJP

   H05K 3/00 20060101ALI20150730BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/30 572A

   H01L21/30 569H

   H01L21/304 645D

   H05K3/00 Z

【請求項の数】2

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2015-509648(P2015-509648)

(86)(22)【出願日】2014年9月9日

(86)【国際出願番号】JP2014073764

【審査請求日】2015年4月1日

(31)【優先権主張番号】特願2013-189983(P2013-189983)

(32)【優先日】2013年9月13日

(33)【優先権主張国】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000102212

【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100078754

【弁理士】

【氏名又は名称】大井 正彦

(72)【発明者】

【氏名】羽生 智行

【審査官】 佐野 浩樹

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−１６４８５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２４９４７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００９／０２２４２９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００４−１５２８４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０２−０７８２２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−１０８７２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−３３４８４０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０８Ｂ１／００−１／０４

５／００−１３／００

Ｇ０２Ｆ１／１３

１／１３７−１／１４１

Ｈ０１Ｌ２１／０２７

２１／３０

２１／３０４

２１／４６

２１／４６３

Ｈ０５Ｋ３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被処理物を配置する被処理物支持台と、前記被処理物の被処理面に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、前記被処理物と前記紫外線ランプとの間に配置された、当該紫外線ランプからの真空紫外線を透過する光透過窓部材とを備えた光照射装置において、
前記被処理物の被処理面と前記光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が１ｍｍ以下とされており、当該間隙に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給するガス供給手段が設けられており、
前記被処理物支持台における、前記処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に、遮風部材が配設されていることを特徴とする光照射装置。

【請求項2】

前記遮風部材は、前記光透過窓部材と接触した状態とされており、当該光透過窓部材に接触する部分がフッ素樹脂により形成されたものであることを特徴とする請求項１に記載の光照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光照射装置に関する。更に詳しくは、本発明は、例えば、半導体や液晶等の製造工程におけるレジストの光アッシング処理、ナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に付着したレジストの除去あるいは液晶用のガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理、プリント基板製造工程におけるスミアの除去（デスミア）処理に好適な光照射装置に関する。

【背景技術】

【0002】

現在、例えば、半導体や液晶等の製造工程におけるレジストの光アッシング処理、ナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に付着したレジストの除去あるいは液晶用のガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理、プリント基板製造工程におけるスミアの除去（デスミア）処理を行う方法として、紫外線を用いたドライ洗浄方法が知られている。特に、エキシマランプから放射される真空紫外線により生成されるオゾンおよび活性酸素を利用する方法は、より効率良く短時間で所定の処理を行うことができることから、好適に利用されている。このような光照射装置としては、これまでに、種々の構成のものが提案されている（例えば、特許文献１〜特許文献３参照。）。

【0003】

このような真空紫外線を利用した光照射装置のある種のものは、例えば図３に示すように、真空紫外線を放射する紫外線ランプ４１からの光を、例えば酸素ガスなどの処理ガスの雰囲気下に配置された被処理物（ワーク）Ｗの被処理面Ｗａに対して、光透過窓部材１２を介して照射する構成とされている。
この光照射装置においては、複数の紫外線ランプ４１によって光源ユニット４０が構成されている。この光源ユニット４０は、一方（図３における下方）に開口部を有する箱型状のケーシング４２を備えており、このケーシング４２の開口部には、当該開口部を気密に塞ぐよう平板状の光透過窓部材１２が設けられている。ケーシング４２内には、複数の棒状の紫外線ランプ４１が、ランプ中心軸が同一水平面内において互いに平行に伸びる状態で配置されている。また、反射ミラー４３がこれらの紫外線ランプ４１を囲むよう設けられている。
また、この光照射装置において、被処理物Ｗは、被処理物支持台３１の被処理物載置面３１ａに配置される。この被処理物載置面３１ａは、被処理物Ｗの被処理面Ｗａよりも大きな縦横寸法を有している。また、被処理物支持台３１には、被処理物Ｗを加熱する加熱手段（図示せず）が設けられていると共に、ガス供給用貫通孔３２ａおよびガス排出用貫通孔３２ｂが形成されている。ガス供給用貫通孔３２ａおよびガス排出用貫通孔３２ｂは、被処理物載置面３１ａに開口を有しており、これらの開口の間に被処理物Ｗを位置させることができるよう、互いに面方向（ランプの配列方向）に離間した位置に形成されている。
この図の例において、３４は、光透過窓部材１２と被処理物支持台３１との間に所定の大きさの空間を形成するための柱状のスペーサ部材である。このスペーサ部材３４の上面には、シール部材３５が配置されている。そして、光源ユニット４０がシール部材３５を介して被処理物支持台３１上に気密に配置されて光源ユニット４０と被処理物支持台３１との間に処理室Ｓが形成されている。
また、図３においては、ガスの流通方向が矢印で示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特許第２９４８１１０号公報

【特許文献2】特開平１１−２３１５５４号公報

【特許文献3】特開２０１１−１８１５３５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

而して、本発明者らは、処理の効率化を図るために、被処理物の被処理面と光透過窓部材との間に形成される間隙（以下、「被処理物上間隙」ともいう。）に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給し、それと共に当該被処理物上間隙の距離を短くすることを検討した。すると、被処理物上間隙の距離、すなわち被処理物と光透過窓部材との離間距離が１ｍｍ以下である場合には、被処理物の被処理面に対して高い均一性をもって処理を行うことができなくなる、という問題が生じることが明らかとなった。
このような問題が生じる理由は、被処理物と光透過窓部材との離間距離が小さくなるに従って、被処理物の被処理面上に十分な量の処理ガスが流通しなくなるためと推測される。
具体的に説明すると、被処理物支持台の被処理物載置面は、被処理物の被処理面よりも縦横寸法が大きいことから、当該被処理物載置面には、被処理物が位置されない領域（以下、「被処理物周囲領域」ともいう。）が存在する。そして、被処理物が被処理物支持台に配置された状態においては、被処理物周囲領域と光透過窓部材との間に、被処理物および被処理物上間隙を囲むように間隙（以下、「支持台上間隙」ともいう。）が形成される。この支持台上間隙は、被処理物上間隙に比して被処理物Ｗの厚み方向の寸法が大きく、よってコンダクタンスが大きいため、当該被処理物上間隙よりも処理ガスが流れやすくなっている。そのため、光透過窓部材と被処理物との離間距離が大きい場合（具体的には、離間距離が１ｍｍを超える場合）には、被処理物の被処理面上（被処理物上間隙）に一方向に向けて供給された処理ガスは、当該被処理面上を流通する過程において、その一部が略直線状に流動せずに当該被処理物の側方に位置する支持台上間隙に流出する。しかしながら、支持台上間隙に流出する処理ガスの量が少量であるため、被処理物の被処理面上には、処理に必要とされる十分な量の処理ガスが流通する。一方、光透過窓部材と被処理物との離間距離を１ｍｍ以下とした場合には、被処理物上間隙は、コンダクタンスが極めて小さくなって処理ガスが流れにくくなる。そのため、被処理物の被処理面上（被処理物上間隙）から当該被処理物の側方に位置する支持台上間隙に流出する処理ガスの量が多くなる。よって、被処理物の被処理面上には、処理に必要とされる十分な量の処理ガスが流通しなくなると推測される。
また、このような問題は、被処理物Ｗが大面積、具体的には横寸法が５１０ｍｍ以上であって縦寸法が５１５ｍｍ以上であり、被処理面積が２．６×１０⁵ ｍｍ² 以上のものである場合に顕著となることも明らかとなった。

【0006】

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、被処理物を高い処理効率で均一に処理することのできる光照射装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の光照射装置は、被処理物を配置する被処理物支持台と、前記被処理物の被処理面に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、前記被処理物と前記紫外線ランプとの間に配置された、当該紫外線ランプからの真空紫外線を透過する光透過窓部材とを備えた光照射装置において、
前記被処理物の被処理面と前記光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が１ｍｍ以下とされており、当該間隙に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給するガス供給手段が設けられており、
前記被処理物支持台における、前記処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に、遮風部材が配設されていることを特徴とする。

【0008】

本発明の光照射装置においては、前記遮風部材は、前記光透過窓部材と接触した状態とされており、当該光透過窓部材に接触する部分がフッ素樹脂により形成されたものであることが好ましい。

【発明の効果】

【0009】

本発明の光照射装置においては、遮風部材が設けられていることにより、被処理物の被処理面上のコンダクタンスが、当該被処理物における処理ガスの供給方向に伸びる側面側、すなわち被処理物の側方のコンダクタンスに比して大きい状態となっている。そのため、被処理物の被処理面上に対して、ガス供給手段から当該被処理物の被処理面に沿うように一方向に向けて供給された処理ガスが、被処理物の被処理面上から側方に流出することが防止または抑制される。従って、被処理物の被処理面上には、処理に必要とされる量の処理ガスを確実に流通させることができる。しかも、被処理物の被処理面上においては、処理ガスが一方向に向かって略直線状に流通することから、流速分布に高い均一性が得られる。また、被処理物の被処理面と光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が１ｍｍ以下とされている。そのため、被処理物の被処理面に到達する真空紫外線が十分な大きさの強度（光量）となると共に、被処理物の被処理面上において、オゾンおよび活性酸素が安定して生成される。その結果、被処理物を高い処理効率で均一に処理することができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の光照射装置の構成の一例における、当該光照射装置を構成する紫外線ランプの管軸方向に垂直な方向の断面を示す説明用断面図である。

【図2】図１の光照射装置における紫外線ランプの管軸方向の断面を示す説明用断面図である。

【図3】従来の光照射装置の構成の一例を示す説明用断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明の実施の形態について説明する。
図１は、本発明の光照射装置の構成の一例における、当該光照射装置を構成する紫外線ランプの管軸方向に垂直な方向の断面を示す説明用断面図であり、図２は、図１の光照射装置における紫外線ランプの管軸方向の断面を示す説明用断面図である。
この光照射装置１０は、被処理物（ワーク）Ｗを配置する被処理物支持台１１を有する保持装置と、被処理物支持台１１の上方（図１および図２における上方）に配置された光源ユニット２０とを備えてなるものである。そして、光源ユニット２０を構成する複数（図の例においては８本）の紫外線ランプ２１と被処理物支持台１１の被処理物載置面１１ａ上に載置される被処理物Ｗとの間に、光透過窓部材１２が設けられたものである。
光照射装置１０において、被処理物支持台１１は、直方体状の形状を有するものであり、被処理物載置面１１ａは、平坦面とされ、被処理物Ｗの被処理面（上面）Ｗａよりも大きな縦横寸法を有している。また、光透過窓部材１２は、矩形平板状の形状を有するものであり、矩形環状の支持部材１３によって支持されて、被処理物載置面１１ａと平行な状態で対向配置されている。支持部材１３は、窓部材挟持部１３ａを有しており、この窓部材挟持部１３ａによって光透過窓部材１２の外周縁部を密着挟持している。
また、光照射装置１０には、被処理物支持台１１の側面を包囲するように矩形環状の光源ユニット支持台１４が設けられており、この光源ユニット支持台１４の上面に光源ユニット２０が配置されている。また、光源ユニット支持台１４には、被処理物支持台１１を上下方向（図１および図２における上下方向）に摺動可能に収容する収容空間が形成されていると共に、内周面の全周にわたって伸びる凹部１４ａによって窓部材配置部が形成されている。そして、この窓部材配置部に支持部材１３が配設されることにより、光透過窓部材１２と被処理物支持台１１との間に一定の厚みを有する処置室Ｓが形成されている。すなわち、処理室Ｓは、被処理物支持台１１、光透過窓部材１２、支持部材１３および光源ユニット支持台１４によって区画されている。この処理室Ｓにおいて、被処理物載置面１１ａには、中央部に、被処理物Ｗが位置される領域（以下、「被処理物配置領域」ともいう。）が形成されており、この被処理物配置領域を囲むように、被処理物Ｗが位置されない環状の領域（被処理物周囲領域）が存在している。被処理物配置領域には、その全域に、紫外線ランプ２１からの真空紫外線が光透過窓部材１２を介して照射される。そして、この被処理物配置領域により、被処理物Ｗの被処理面Ｗａを、真空紫外線およびオゾン等によって処理することのできる領域（有効処理領域）が形成されている。
この図の例において、被処理物Ｗは、略矩形平板状の形状を有するものである。また、被処理物載置面１１ａの被処理物周囲領域は、支持部材１３によって遮光されるため、紫外線ランプ２１からの真空紫外線が照射されることがない。なお、本願発明の光照射装置は、図１および図２に係る光照射装置において、窓部材挟持部が短く（具体的には、図１および図２における左右寸法が短く）、被処理物支持台の被処理物載置面において、被処理物配置領域（有効処理領域）だけでなく、被処理物周囲領域にも紫外線ランプからの真空紫外線が照射される構成のものであってもよい。

【0012】

保持装置には、被処理物支持台１１を上下方向に駆動する駆動機構が設けられている。この駆動機構によって被処理物支持台１１を上下動することより、被処理物Ｗの被処理面Ｗａと光透過窓部材１２との間に形成される間隙（被処理物上間隙）の距離、すなわち距離被処理物Ｗと光透過窓部材１２との離間距離を調整することができる。すなわち、光照射装置１０においては、被処理物Ｗの厚みによらず、被処理物上間隙の距離を所期の大きさにすることができる。
光照射装置１０においては、被処理物Ｗは、処理室Ｓ内の被処理物配置領域において、被処理面Ｗａが光透過窓部材１２と対向するように配置される。そして、被処理物上間隙の距離（被処理物Ｗと光透過窓部材１２との離間距離）は、１ｍｍ以下とされ、好ましくは０．１〜１.０ｍｍであり、更に好ましくは０．１〜０．５ｍｍであり、特に好ましくは０．３〜０．５ｍｍである。
被処理物上間隙の距離が１ｍｍ以下であることにより、オゾンおよび活性酸素を安定して生成することができると共に、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに到達する真空紫外線を十分な大きさの強度（光量）とすることができる。

【0013】

光源ユニット２０は、一方（図１および図２において下方）に開口部を有する略直方体の箱型形状のケーシング２２を備えている。このケーシング２２内には、複数の棒状の紫外線ランプ２１が配設されている。これらの複数の紫外線ランプ２１は、中心軸が同一水平面内において互いに平行に伸びるよう一定の間隔（図１においては等間隔）で並列している。
そして、光源ユニット２０は、光源ユニット支持台１４の上面に配置されており、これにより、ケーシング２２の開口部が、光透過窓部材１２、光源ユニット支持台１４、支持部材１３および被処理物支持台１１によって閉塞され、ケーシング２２の内部に密閉されたランプ収容室が形成されている。また、複数の紫外線ランプ２１が光透過窓部材１２を介して被処理物Ｗの被処理面Ｗａと対向した状態とされる。

【0014】

紫外線ランプ２１としては、真空紫外線を放射するものであれば、公知の種々のランプを用いることができる。具体的に、紫外線ランプ２１としては、波長１８５ｎｍの真空紫外線を放射する低圧水銀ランプ、中心波長が１７２ｎｍの真空紫外線を放射するキセノンエキシマランプ、あるいは、発光管内にキセノンガスが封入されると共に、発光管の内面に例えば波長１９０ｎｍの真空紫外線を出射する蛍光体が塗布されてなる蛍光エキシマランプなどを例示することができる。
この図の例において、紫外線ランプ２１としては、特定方向（図１および図２における下方向）に光を照射する角型のエキシマランプが用いられている。

【0015】

そして、光照射装置１０には、処理室Ｓに処理ガスを供給するガス供給手段が設けられている。ガス供給手段は、被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上、具体的には略矩形状の被処理物上間隙に、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに沿うように一方向（図２における左方向）に向けて処理ガスを供給することのできるものである。すなわち、ガス供給手段は、処理ガスが、少なくとも被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）において一方向に向かって略直線状に流通するようにガス供給を行うものである。

【0016】

このガス供給手段は、光源ユニット支持台１４における互いに対向する辺部１５Ａ，１５Ｃに形成されたガス供給用貫通孔１６およびガス排出用貫通孔１７と、ガス供給用貫通孔１６に接続された処理ガス供給源（図示せず）とにより構成されている。ガス供給用貫通孔１６は、辺部１５Ａの処理室Ｓを臨む内面における被処理物上間隙と対向する領域に、辺部１５Ａの伸びる方向（図２における紙面に垂直な方向）に沿って配置された横長のガス供給用開口１６ａを有するものである。一方、ガス排出用貫通孔１７は、辺部１５Ｃの処理室Ｓを臨む内面における被処理物上間隙と対向する領域に、辺部１５Ｃの伸びる方向（図２における紙面に垂直な方向）に沿って配置された横長のガス排出用開口１７ａを有するものである。すなわち、ガス排出用開口１７ａは、ガス供給用開口１６ａに対向配置されている。
ここに、ガス供給用開口１６ａおよびガス排出用開口１７ａは、各々、１つの横長スリットによって形成されていてもよく、また複数のスリットにより形成されていてもよい。
この図の例において、ガス供給用開口１６ａおよびガス排出用開口１７ａは、辺部１５Ａ，１５Ｃの内面における被処理物上間隙と対向する領域の全域わたって伸びる横長スリットよりなるものである。
また、図２には、被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）に対する処理ガスの供給方向、すなわち被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上における処理ガスの流通方向が矢印で示されている。

【0017】

ガス供給手段から処理室Ｓに供給される処理ガスとしては、所定濃度の酸素ガスを含むものが用いられる。
処理ガスの具体例としては、例えば酸素ガス、酸素ガスとオゾンガスとの混合ガスなどが挙げられる。
処理ガス中の酸素濃度は、７０体積％以上であることが好ましい。
処理ガス中の酸素ガス濃度が上記の範囲とされることにより、真空紫外線により生成されるオゾンおよび活性酸素の量を多くすることができて所期の処理を確実に行うことができる。

【0018】

ガス供給手段によるガス供給条件としては、被処理物Ｗの被処理面Ｗａの大きさなどに応じ、被処理物Ｗの種類、被処理面Ｗａに必要とされる処理の種類、処理ガスの種類および組成などを考慮して適宜に定められる。例えば、被処理面Ｗａの横寸法が５１０ｍｍ以上であって縦寸法が５１５ｍｍ以上であり、被処理面積が２．６×１０⁵ ｍｍ² 以上である場合には、ガス流量は０．０１〜２ＬＰＭであることが好ましく、またガス流速は、１〜５０ｍｍ／ｓｅｃであることが好ましい。

【0019】

また、光照射装置１０には、処理室Ｓに、遮風部材２５，２５が設けられている。この遮風部材２５，２５は、各々、被処理物支持台１１における、処理ガスの供給方向に伸び、被処理物Ｗが位置しない領域に配置されている。すなわち、遮風部材２５，２５は、被処理物支持台１１における被処理物載置面１１ａの被処理物周囲領域であって、被処理物Ｗ（被処理物配置領域）に沿って処理ガスの供給方向に伸びる領域に配置されている。
この遮風部材２５，２５は、被処理物上間隙の両側方に位置する間隙のコンダクタンスを、当該被処理物上間隙のコンダクタンスに比して小さくすることのできる形状を有している。よって、処理ガスが、被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）において、ガス供給方向以外の方向に流動することを抑制または防止する遮風機能を有するものである。

【0020】

遮風部材２５，２５について具体的に説明すると、当該遮風部材２５，２５は、各々、直方体状の形状を有している。そして、一方の遮風部材２５は、被処理物載置面１１ａにおける被処理物Ｗと光源ユニット支持台１４の辺部１５Ｂとの間に位置する領域に、被処理物Ｗに沿うように配置されている。一方、他方の遮風部材２５は、被処理物載置面１１ａにおける被処理物Ｗと光源ユニット支持台１４の辺部１５Ｄとの間に位置する領域に、被処理物Ｗに沿うように配置されている。また、遮風部材２５，２５の高さ（図１における上下寸法）は、被処理物支持台１１と光透過窓部材１２との離間距離以下であって、被処理物Ｗの厚みよりも大きいものとされている。すなわち、遮風部材２５，２５は、上端部分（図１における上端部分）が、被処理物上間隙における処理ガスの供給方向に伸びる縁部の外方側に配置されている。そして、遮風部材２５，２５は、各々、一側面が、被処理物Ｗの側面（具体的には、辺部１５Ｂ，１５Ｄに対向する側面）および被処理物上間隙の縁部（具体的には、辺部１５Ｂ，１５Ｄに対向する縁部）に接した状態で配置されている。
この図の例において、遮風部材２５，２５は、交換可能に設けられている。遮風部材２５，２５が交換可能であることにより、被処理物Ｗの寸法（具体的には、縦横寸法および厚み）および光照射条件（具体的には、例えば被処理物Ｗと紫外線ランプ２１との離間距離）などに応じて、適宜の大きさの遮風部材２５，２５を用いること、あるいは遮風部材２５，２５の配置位置を調整することなどができる。そのため、光照射装置１０は、被処理物Ｗの寸法および光照射条件の異なる複数種類の被処理物Ｗを処理することができるものとなる。

【0021】

遮風部材２５，２５は、図１および図２に示されているように、遮風機能の観点から、全長が、被処理物Ｗにおける処理ガスの供給方向の寸法と同等であり、高さが、被処理物支持台１１と光透過窓部材１２との離間距離と同等である形状を有するものであることが好ましい。このような形状を有する遮風部材２５，２５によれば、被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）に供給された処理ガスが、被処理物Ｗの側方に位置する間隙に流出することを防止することができる。
この図の例において、遮風部材２５，２５は、被処理物上間隙と光源ユニット支持台１４における辺部１５Ｂ，１５Ｄとの間に形成される略直方体状の間隙を塞ぐことのできる形状を有するものである。すなわち、遮風部材２５，２５は、全長が、被処理物Ｗにおける処理ガスの供給方向の寸法と同等であり、高さが被処理物支持台１１と光透過窓部材１２との離間距離と同等である直方体状の形状を有している。

【0022】

遮風部材２５，２５は、真空紫外線に対する耐性およびオゾンに対する耐性を有する材料よりなるものとされる。
また、遮風部材２５，２５は、図１に示されているように光透過窓部材１２と接触した状態とされるものである場合には、光透過窓部材１２に接触する部分（以下、「窓接触部分」ともいう。）がフッ素樹脂により形成されたものであることが好ましい。このフッ素樹脂により形成された窓接触部分を有する遮風部材２５，２５は、遮風部材２５，２５の全体がフッ素樹脂よりなるものであってもよく、またフッ素樹脂以外の材料よりなる基体を有し、当該基体の上面にフッ素樹脂層が形成されたものであってもよい。
遮風部材２５，２５における窓接触部分をフッ素樹脂により形成することにより、遮風部材２５，２５が光透過窓部材１２に接触することに起因して光透過窓部材１２に破損が発生するなどの弊害が生じることを防止できる。
ここに、遮風部材２５，２５の構成材料の具体例としては、フッ素樹脂の他、ステンレス鋼などが挙げられる。
この図の例において、遮風部材２５，２５は、ステンレス鋼よりなる基体の上面全面にフッ素樹脂層が積層されたものである。

【0023】

光透過窓部材１２を構成する材料としては、紫外線ランプ２１から放射される真空紫外線に対する透過性を有し、真空紫外線およびオゾンに対する耐性を有するものであればよく、例えば石英ガラスを用いることができる。

【0024】

また、光照射装置１０は、被処理物支持台１１に、被処理物Ｗを加熱する加熱手段（図示せず）が設けられた構成とされていることが好ましい。
このような構成によれば、被処理物Ｗの被処理面Ｗａの温度が上昇されることに伴ってオゾンおよび活性酸素による作用を促進させることができるので、効率よく処理を行うことができる。
また、被処理物支持台１１においては、被処理物載置面１１ａの縦横寸法が被処理物Ｗの被処理面Ｗａの縦横寸法より大きいため、被処理物Ｗの被処理面Ｗａを均一に加熱することができる。
加熱手段による加熱条件は、被処理物載置面１１ａの温度が、例えば１００〜１５０℃となる条件である。

【0025】

このような構成の光照射装置１０においては、紫外線ランプ２１からの真空紫外線を含む光を、処理ガスの雰囲気下に配置された被処理物Ｗの被処理面Ｗａに対して、光透過窓部材１２を介して照射することにより、被処理物Ｗの表面処理が行われる。
具体的に説明すると、被処理物Ｗおよび遮風部材２５，２５が配置された処理室Ｓに、処理ガスが、ガス供給用開口１６ａを介して所期のガス供給条件で供給される。このようにして、処理室Ｓには処理ガスが絶え間なく供給され、これにより、処理室Ｓは処理ガス雰囲気とされる。そして、光源ユニット２０を構成する複数の紫外線ランプ２１が一斉に点灯されることにより、当該複数の紫外線ランプ２１からの真空紫外線が光透過窓部材１２を介して被処理物Ｗの被処理面Ｗａに向かって照射される。これにより、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに到達する真空紫外線、および真空紫外線により生成されるオゾンおよび活性酸素によって、被処理物Ｗの被処理面Ｗａの処理が行われる。また、処理室Ｓにおいては、ガス供給用開口１６ａから供給された処理ガスに、当該処理ガスが処理室Ｓを流通する過程において、被処理面Ｗａが処理されることによって発生する反応生成ガス（具体的には、例えば二酸化炭素ガス）が混入される。そして、この反応生成ガスが混入されたガス（以下、「排ガス」ともいう。）は、ガス排出用開口１７ａを介して処理室Ｓの外部に排出される。

【0026】

而して、光照射装置１０においては、処理室Ｓに遮風部材２５，２５が設けられており、この遮風部材２５，２５により、被処理物上間隙における処理ガスの供給方向に伸びる両側が塞がれた状態とされている。すなわち、処理室Ｓにおいては、辺部１５Ａと被処理物Ｗとの間において当該辺部１５Ａに沿って伸びる略矩形状の間隙と、被処理物上間隙と、辺部１５Ｃと被処理物Ｗとの間において当該辺部１５Ｃに沿って伸びる略矩形状の間隙とによって処理ガスの流通空間が形成されている。そのため、ガス供給用開口１６ａから供給された処理ガスは、そのすべてが被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）を、ガス供給用開口１６ａ側からガス排出用開口１７ａ側に向かって略直線状に流通することとなる。その結果、被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上においては、流速分布に高い均一性が得られる。従って、被処理物Ｗの被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）には、ガス供給手段によってガス供給条件を調整することにより、処理に必要とされる量の処理ガスを、所望の流速で流通させることができる。しかも、被処理物上間隙の距離が１ｍｍ以下とされていることから、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに到達する真空紫外線が十分な大きさの強度（光量）となると共に、被処理面Ｗａ上（被処理物上間隙）において、オゾンおよび活性酸素が安定して生成される。その結果、被処理物Ｗを高い処理効率で均一に処理することができる。

【0027】

この光照射装置１０は、例えば、半導体や液晶等の製造工程におけるレジストの光アッシング処理、ナノインプリント装置におけるテンプレートのパターン面に付着したレジストの除去あるいは液晶用のガラス基板やシリコンウエハなどのドライ洗浄処理、プリント基板製造工程におけるスミアの除去（デスミア）処理などに好適に用いられる。

【0028】

本発明の光照射装置においては、上記の実施の形態に限定されず、種々の変更を加えることが可能である。
例えば、遮風部材は、図１および図２に示す形状のものに限定されない。すなわち、遮風部材は、被処理物支持台における、処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に配置することができ、所期の遮風機能を発揮することのできる形状を有するものであればよい。具体的には、例えば図１に係る遮風部材において、全長が、被処理物における処理ガスの供給方向の寸法よりも大きく、両端面のいずれもが、被処理物の側面（具体的には、処理ガスの供給方向に垂直な方向に伸びる側面）から外方に突出した状態に配置される構成のものであってもよい。
このような構成の遮風部材を備えた光照射装置によれば、当該遮風部材の突出した部分がガスガイドとして機能する。そのため、ガス供給用開口から供給された処理ガスを、被処理物の被処理面上（被処理物上間隙）に向かって効率的に流動させることができる。また、排ガスをガス排出用開口に向かって効率的に流動させ、当該ガス排出用開口から速やかに排出することができることから、被処理面の処理に悪影響を及ぼす反応生成物を処理室から効率的に除去することができる。その結果、より一層高い処理効率が得られる。
また、光照射装置は、被処理物上間隙の距離が１ｍｍ以下であればよく、図１および図２に示されているように被処理物支持台が上下方向に動くものでなくてもよい。
また、ガス供給手段は、被処理物の被処理面上に、当該被処理物の被処理面に沿って一方向に向けて処理ガスを供給することのできるものであればよく、例えば図１および図２に係る光照射装置において、ガス供給用開口が被処理物載置面における辺部１５Ａと被処理物との間の領域に設けられ、ガス排出用開口が被処理物載置面における辺１５Ｃと被処理物との間の領域に設けられたものであってもよい。

【符号の説明】

【0029】

１０ 光照射装置
１１ 被処理物支持台
１１ａ 被処理物載置面
１２ 光透過窓部材
１３ 支持部材
１３ａ 窓部材挟持部
１４ 光源ユニット支持台
１４ａ 凹部
１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ 辺部
１６ ガス供給用貫通孔
１６ａ ガス供給用開口
１７ ガス排出用貫通孔
１７ａ ガス排出用開口
２０ 光源ユニット
２１ 紫外線ランプ
２２ ケーシング
２５ 遮風部材
３１ 被処理物支持台
３１ａ 被処理物載置面
３２ａ ガス供給用貫通孔
３２ｂ ガス排出用貫通孔
３４ スペーサ部材
３５ シール部材
４０ 光源ユニット
４１ 紫外線ランプ
４２ ケーシング
４３ 反射ミラー
Ｗ 被処理物
Ｗａ 被処理面

【要約】

本発明は、被処理物を高い処理効率で均一に処理することのできる光照射装置を提供することを目的とするものである。
本発明の光照射装置は、被処理物を配置する被処理物支持台と、被処理物の被処理面に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、被処理物と紫外線ランプとの間に配置された、紫外線ランプからの真空紫外線を透過する光透過窓部材とを備え、被処理物の被処理面と光透過窓部材との間に形成される間隙の距離が１ｍｍ以下とされており、当該間隙に、当該被処理面に沿うように一方向に向けて処理ガスを供給するガス供給手段が設けられており、前記被処理物支持台における、前記処理ガスの供給方向に伸び、被処理物が位置しない領域に、遮風部材が配設されていることを特徴とする。

【図1】

【図2】

【図3】