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特許5771224フォトレジスト組成物およびフォトレジストをパターニングする方法（スルホンアミド含有フォトレジスト組成物およびその使用方法）
発明の名称 フォトレジスト組成物およびフォトレジストをパターニングする方法（スルホンアミド含有フォトレジスト組成物およびその使用方法）
出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション （識別番号 390009531）
特許公開件数ランキング 96 位（295件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 26 位（690件）（共同出願を含む）
出願人 セントラル硝子株式会社 （識別番号 2200）
特許公開件数ランキング 2471 位（8件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 688 位（29件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-5771224
公報発行日 2015年8月26
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5771224
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