【実施例】
【0039】
以下、本実施形態の接着細胞用培養容器の性能及び特性を評価するために行った実施例及び比較例について、
図7〜
図9を参照して説明する。
まず、実施例及び比較例において用いた培養容器に関する、1.製膜、紫外線照射、及びコロナ処理の方法、2.細胞接着性能の評価方法、3.接触角及びヒステリシスの測定方法、及び4.ヒートシール強度の測定方法について、順に説明する。
【0040】
<1.製膜、紫外線照射、及びコロナ処理の方法>
製膜は、ラボプラストミル(東洋精機製作所製)を使用して、押出成形により行った。また、一部の実施例及び比較例においては、ホットプレス(庄司鉄鋼製)を使用して製膜を行った。
【0041】
紫外線照射には、UVランプ(主波長254nm、オゾン発生波長185nmは石英管によってカット,商品名TUV15W/G15T8,フィリップス社製)を使用した。なお、実施例又は比較例において製袋後に紫外線照射をしたもの及び製袋前に紫外線照射(フィルムに対して直接紫外線照射)をしたものは、積算光量5J/cm
2で行った。これは、ランプからフィルムを12cm離して2時間照射したものである。また、樹脂ペレットに紫外線照射をしたものは、積算光量10J/cm
2で行った。これは、ランプ近傍にフィルムを置き2時間照射したものである。積算光量は、紫外線積算光量計UIT−150(ウシオ電機株式会社製)にて測定した。
【0042】
コロナ処理には、高周波電源装置CG−102(春日電機株式会社製)を使用した。また、この際、印加電流を3.5A、フィルムと電極間の距離を5mm、フィルム移動速度を5m/minとして、コロナ放電処理を行った。
【0043】
<2.細胞接着性能の評価方法>
まず、以下のようにして培養する接着細胞を準備した。
使用培地としてNutrient mixture F/12 Ham(シグマアルドリッチ社製)にウシ胎児血清(インビトロジェン社製)を10%添加したものを用い、接着細胞としてCHO−K1(チャイニーズハムスター卵巣)細胞株を用いて、細胞培養ディッシュ(φ6cm,ベクトン・ディッキンソン社製)において培養し、得られた接着細胞を底面より剥離回収して、計数を行った。
【0044】
次に、ペトリディッシュ(φ6cm,ベクトン・ディッキンソン社製)に、予め実施例及び比較例における各フィルムを貼付した。このとき、製袋後に紫外線照射を行ったフィルムも切り出して貼付した。
そして、それぞれのフィルム上に、新鮮な培地150μlと細胞培養ディッシュ底面より剥離回収された細胞懸濁液150μl(液の総量:300μl)を混合しスポット状に播種した。このとき、播種される細胞数は、上記回収される細胞数が実験の度に変わるため、実施例及び比較例毎に異なるが、およそ7.2〜8.9×10
4cells/spotであった。また、培養面積は、2cm
2であった。
1日経過後(24又は28時間後)、浮遊している細胞数と、接着している細胞数を計数し、以下の式にもとづいて、細胞接着率を算出した。
(接着している細胞数)/(浮遊している細胞数+接着している細胞数)=細胞接着率
【0045】
<3.接触角及びヒステリシスの測定方法>
接触角及びヒステリシスの測定には、固液界面解析システムDropMaster 700(協和界面科学株式会社製)を使用した。
図7に示すように、接触角(θs)は、フィルム上に純水3μlを滴下して測定した。また、滑落時ヒステリシス(θa−θr)は、フィルム上に純水30μlを滴下し、1秒毎に1°ずつ測定台を傾け、滑落時の前進接触角(θa)と後退接触角(θr)を接線法により算出して得た。
【0046】
<4.ヒートシール強度の測定方法>
ヒートシール強度の測定には、ヒートシール試験装置(テスター産業株式会社製)を使用した。シール条件は、シール幅を10mm、上側シールバーのみ140℃に加熱、圧力を3kgf/cm
2、シール時間を2秒間とした。
引っ張り試験には、精密万能試験機オートグラフAG−IS(島津製作所株式会社製)を使用し、試験片幅を15mm、M.D.方向に300mm/minの速度で引っ張り、最大試験力(N/15mm)によりシール強度を評価した。
【0047】
次に、
図8を参照して、実施例及び比較例について説明する。同図において、EPPEは、Easy Processing PolyEthylene(易加工性ポリエチレン)を、LLDPEは、Linear Low−Density PolyEthylene(直鎖状低密度ポリエチレン)を、PPは、Polypropylene(ポリプロピレン)を、LDPEは、Low−Density PolyEthylene(低密度ポリエチレン)をそれぞれ示している。
【0048】
また、処理内容の「製袋後UV」は、フィルムを貼り合わせて、四方をシールした後に、254nm波長のUVを照射したことを示している。この紫外線照射においては、積算光量が5J/cm
2となるように照射を行った。
また、処理内容の「直接UV」は、フィルムを露出した状態で254nm波長のUVを照射したことを示している。この紫外線照射においては、積算光量が5J/cm
2となるように照射を行った。
【0049】
また、処理内容の「preUV」は、樹脂ペレットに254nm波長のUVを照射したことを示している。この紫外線照射においては、積算光量が10J/cm
2となるように照射を行った。
また、処理内容の「コロナ処理」は、高周波電源装置CG−102(春日電機株式会社製)を使用して、印加電流を3.5A、フィルムと電極間の距離を5mm、フィルム移動速度を5m/minとして、コロナ放電処理を行ったことを示している。
【0050】
(実施例1)
細胞培養容器の内層として、予め酸化防止剤を含有しているエクセレンFX CX3007(EPPE、住友化学株式会社製)を用い、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層には、エクセレンGMH CB2001(EPPE、住友化学株式会社製)を使用し、二層からなるフィルムを製膜した。
【0051】
次に、このフィルムを袋状に貼り合わせて、四方をシールし、254nm波長の紫外線照射を照射した。
得られた培養容器に、上記のように準備した接着細胞CHO−K1(チャイニーズハムスター卵巣)細胞株を播種して培養を行った。初期播種細胞数は、7.8×10
4cells/spot、培養面積は、2cm
2であった。
【0052】
28時間経過後、浮遊している細胞数と、接着している細胞数を計数し、細胞接着率を算出した。その結果、細胞接着率は、80.8%であった。
また、この培養容器の培養面の接触角、ヒステリシス、及びヒートシール強度を測定した。その結果、接触角は101.9°、ヒステリシスは27.8°、ヒートシール強度は15.8(N/15mm)であった。
【0053】
(実施例2)
細胞培養容器の内層として、予め酸化防止剤を含有しているエクセレンFX CX3502(EPPE、住友化学株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。その他の点は、実施例1と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は87.5%、接触角は103.8°、ヒステリシスは35.9°、ヒートシール強度は18.9(N/15mm)であった。
【0054】
(実施例3)
細胞培養容器の内層として、予め酸化防止剤を含有しているエクセレンGMH CB2001(EPPE、住友化学株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層には、カーネル KS240T(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を使用し、二層からなるフィルムを製膜した。その他の点は、実施例1と同様にして実験を行った。なお、ヒートシール強度の測定は行っていない。その結果、細胞接着率は86.1%、接触角は100.0°、ヒステリシスは26.5°であった。
【0055】
(実施例4)
細胞培養容器の内層として、予め酸化防止剤を含有しているカーネル KS240T(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。その他の点は、実施例1と同様にして実験を行った。なお、ヒートシール強度の測定は行っていない。その結果、細胞接着率は82.0%、接触角は105.7°、ヒステリシスは35.0°であった。
【0056】
(実施例5)
細胞培養容器の内層として、予め酸化防止剤を含有しているカーネル KS340T(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。その他の点は、実施例1と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は87.1%、接触角は104.3°、ヒステリシスは40.9°、ヒートシール強度は17.3(N/15mm)であった。
【0057】
(実施例6)
単層からなる細胞培養容器の層として、予め酸化防止剤を含有しているカーネル KF283(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。さらに、初期播種細胞数を、8.9×10
4cells/spotとした点は、実施例1と同様にして実験を行った。なお、ヒートシール強度の測定は行っていない。その結果、細胞接着率は81.0%、接触角は95.6°、ヒステリシスは30.0°であった。
【0058】
(実施例7)
単層からなる細胞培養容器の層として、予め酸化防止剤を含有しているノバテックPP MG3F(PP、日本ポリプロ株式会社製)を用いて、ホットプレスによりフィルムを製膜した。
次に、このフィルムを露出した状態で254nm波長の紫外線照射を照射した。
得られた培養容器に、上記のように準備した接着細胞CHO−K1(チャイニーズハムスター卵巣)細胞株を播種して培養を行った。初期播種細胞数は、7.2×10
4cells/spot、培養面積は、2cm
2であった。
【0059】
24時間経過後、浮遊している細胞数と、接着している細胞数を計数し、細胞接着率を算出した。その結果、細胞接着率は、82.7%であった。
また、この培養容器の培養面の接触角、及びヒステリシスを測定した。その結果、接触角は97.3°、ヒステリシスは25.9°であった。
【0060】
(実施例8)
単層からなる細胞培養容器の層として、予め酸化防止剤を含有しているエクセレンFX CX3007(EPPE、住友化学株式会社製)を用い、その樹脂ペレットに254nm波長の紫外線照射を照射した。その後、ホットプレスによりフィルムを製膜し、培養容器を製造した。
得られた培養容器を用いて、実施例7と同様に細胞培養を行い、細胞接着率を算出した。その結果、細胞接着率は、91.9%であった。
また、この培養容器の培養面の接触角、及びヒステリシスを測定した。その結果、接触角は102.2°、ヒステリシスは29.2°であった。
【0061】
(比較例1)
細胞培養容器の内層として、実施例1と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例1と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は3.2%、接触角は102.7°、ヒステリシスは16.1°、ヒートシール強度は18.5(N/15mm)であった。
【0062】
(比較例2)
細胞培養容器の内層として、実施例2と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例2と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は1.9%、接触角は103.2°、ヒステリシスは17.0°、ヒートシール強度は20.5(N/15mm)であった。
【0063】
(比較例3)
細胞培養容器の内層として、実施例3と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例3同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は20.7%、接触角は100.1°、ヒステリシスは17.8°であった。
【0064】
(比較例4)
細胞培養容器の内層として、酸化防止剤を含有しないエクセレンGMH CB5002(EPPE、住友化学株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層には、カーネル KM262(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を使用し、二層からなるフィルムを製膜した。
そして、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例3と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は18.6%、接触角は101.0°、ヒステリシスは15.6°であった。
【0065】
(比較例5)
細胞培養容器の内層として、比較例4と同じ樹脂を使用して、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層にも比較例4と同じ樹脂を使用して、二層からなるフィルムを製膜した。
次に、このフィルムを袋状に貼り合わせて、四方をシールし、254nm波長の紫外線照射を照射した。このように紫外線照射を行ったことを除き、その他の点は、比較例4と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は12.5%、接触角は100.4°、ヒステリシスは17.1°であった。
【0066】
(比較例6)
細胞培養容器の内層として、実施例4と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例4と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は13.5%、接触角は106.0°、ヒステリシスは21.9°であった。
【0067】
(比較例7)
細胞培養容器の内層として、実施例5と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例5と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は17.6%、接触角は103.6°、ヒステリシスは25.0°、ヒートシール強度は17.5(N/15mm)であった。
【0068】
(比較例8)
単層からなる細胞培養容器の層として、実施例6と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例6と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は39.0%、接触角は96.8°、ヒステリシスは15.0°であった。
【0069】
(比較例9)
細胞培養容器の内層として、酸化防止剤を含有しないカーネル KM262(LLDPE、日本ポリエチレン株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層には、エクセレンGMH CB5002(EPPE、住友化学株式会社製)を使用し、二層からなるフィルムを製膜した。
そして、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例3と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は16.0%、接触角は100.9°、ヒステリシスは15.6°であった。
【0070】
(比較例10)
細胞培養容器の内層として、比較例9と同じ樹脂を使用して、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層にも比較例9と同じ樹脂を使用して、二層からなるフィルムを製膜した。
次に、このフィルムを袋状に貼り合わせて、四方をシールし、254nm波長の紫外線照射を照射した。このように紫外線照射を行ったことを除き、その他の点は、比較例9と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は17.3%、接触角は100.8°、ヒステリシスは16.2°であった。
【0071】
(比較例11)
単層からなる細胞培養容器の層として、酸化防止剤を含有しないUBEポリエチレン L719(LDPE、宇部丸善ポリエチレン株式会社製)を用いて、押出成形によりフィルムを製膜した。
そして、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例3と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は53.0%、接触角は102.4°、ヒステリシスは15.0°であった。
【0072】
(比較例12)
単層からなる細胞培養容器の層として、比較例11と同じ樹脂を使用して、押出成形によりフィルムを製膜した。
次に、このフィルムを袋状に貼り合わせて、四方をシールし、254nm波長の紫外線照射を照射した。このように紫外線照射を行ったことを除き、その他の点は、比較例11と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は47.9%、接触角は102.3°、ヒステリシスは17.8°であった。
【0073】
(比較例13)
単層からなる細胞培養容器の層として、実施例7と同じ樹脂を使用し、紫外線照射を行わなかったことを除き、その他の点は、実施例7と同様にして実験を行った。その結果、細胞接着率は21.1%、接触角は99.5°、ヒステリシスは16.1°であった。
【0074】
(比較例14)
細胞培養容器の内層として、実施例1と同じ樹脂を使用し、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層にも実施例1と同じ樹脂を使用して、二層からなるフィルムを製膜した。
このフィルムを露出した状態でコロナ放電処理を行い、その接触角とヒートシール強度を測定した。その結果、接触角は87.6°、ヒートシール強度は11.3(N/15mm)であった。
【0075】
(比較例15)
細胞培養容器の内層として、実施例2と同じ樹脂を使用し、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層にも実施例2と同じ樹脂を使用して、二層からなるフィルムを製膜した。
このフィルムを露出した状態でコロナ放電処理を行い、その接触角とヒートシール強度を測定した。その結果、接触角は91.5°、ヒートシール強度は10.6(N/15mm)であった。
【0076】
(比較例16)
細胞培養容器の内層として、実施例5と同じ樹脂を使用し、押出成形によりフィルムを製膜した。なお、外層にも実施例5と同じ樹脂を使用して、二層からなるフィルムを製膜した。
このフィルムを露出した状態でコロナ放電処理を行い、その接触角とヒートシール強度を測定した。その結果、接触角は85.8°、ヒートシール強度は9.2(N/15mm)であった。
【0077】
以上の実施例及び比較例における細胞接着率とヒステリシスの関係を、
図9に示す。
同図において、塗りつぶし●は、実施例で得られた培養容器の結果を示しており、酸化防止剤を含む樹脂を使用して、254nm波長の紫外線を照射したものである。中抜き○は、比較例で得られた培養容器の結果を示しており、酸化防止剤を含む樹脂を使用して、紫外線の照射を行わなかったものである。塗りつぶし■は、比較例で得られた培養容器の結果を示しており、酸化防止剤を含まない樹脂を使用して、254nm波長の紫外線を照射したものである。中抜き□は、比較例で得られた培養容器の結果を示しており、酸化防止剤を含まない樹脂を使用して、紫外線の照射を行わなかったものである。
【0078】
これらの培養容器の内面の接触角は、いずれも95°以上であり、親水化はされていなかった(
図8の実施例1−8,比較例1−13参照)。
一方、ヒステリシスが25°を超えたところで、急激に細胞接着率が増大している。
このように、上記実施例及び比較例の結果から、接着細胞用培養容器の製造において、酸化防止剤を含有するポリエチレン又はポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂を用い、オゾン発生波長を除く紫外線の照射を行うことが好ましいことがわかる。
これにより、接触角が95°以上で、かつヒステリシスが25°より大きい培養面を備えた培養容器を製造することができる。そして、この培養容器を用いて接着細胞用を培養することで、高い細胞接着率を得ることが可能である。
【0079】
本発明は、以上の実施形態や実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内において、種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
例えば、上記実施例では接着細胞としてCHO−K1細胞株を用いているが、これに限定されるものではなく、接着細胞であればその他の細胞を用いることができる。また、培養液の種類や製膜、製袋方法などについても適宜変更することが可能である。また、上記実施形態や実施例では紫外線源としてオゾン発生波長を除いた低圧水銀ランプを使用しているが、接触角が95°以上で、かつヒステリシスが25°より大きい培養面が形成されるものであればこれに限定されるものではなく、例えば254nm波長のUVを照射できる高圧水銀ランプ等を使用することも可能である。