特許 5780630 記録ヘッド及び情報記録再生装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5780630

(24)【登録日】2015年7月24日

(45)【発行日】2015年9月16日

(54)【発明の名称】記録ヘッド及び情報記録再生装置

(51)【国際特許分類】

   G11B 5/31 20060101AFI20150827BHJP

   G11B 5/02 20060101ALI20150827BHJP

【ＦＩ】

   G11B5/31 Z

   G11B5/02 T

【請求項の数】4

【全頁数】20

(21)【出願番号】特願2011-52247(P2011-52247)

(22)【出願日】2011年3月9日

(65)【公開番号】特開2012-190504(P2012-190504A)

(43)【公開日】2012年10月4日

【審査請求日】2014年1月9日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002325

【氏名又は名称】セイコーインスツル株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100142837

【弁理士】

【氏名又は名称】内野 則彰

(74)【代理人】

【識別番号】100123685

【弁理士】

【氏名又は名称】木村 信行

(74)【代理人】

【識別番号】100166305

【弁理士】

【氏名又は名称】谷川 徹

(74)【代理人】

【識別番号】100064908

【弁理士】

【氏名又は名称】志賀 正武

(74)【代理人】

【識別番号】100108578

【弁理士】

【氏名又は名称】高橋 詔男

(72)【発明者】

【氏名】大海 学

(72)【発明者】

【氏名】千葉 徳男

(72)【発明者】

【氏名】平田 雅一

(72)【発明者】

【氏名】篠原 陽子

(72)【発明者】

【氏名】田邉 幸子

(72)【発明者】

【氏名】田中 良和

【審査官】 斎藤 眞

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００９／００８４８８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−０４９７８１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１５２８９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−１６４９３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−１０８５８４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ１１Ｂ ５／００−５／０２４

Ｇ１１Ｂ ５／３１

Ｇ１１Ｂ ５／５６−５／６０

Ｇ１１Ｂ ７／１２−７／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、
該スライダの前記流出端面側に配設され、入射された光束を前記磁気記録媒体の表面に対向する端面側に向けて伝播させる伝播部と、
前記スライダの流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、
前記伝播部の内部に埋設され、該伝播部によって伝播される前記光束から近接場光を発生させる薄膜状の近接場光発生素子と、を備え、
前記近接場光発生素子は、
前記光束の入射によって、前記入射側の表面、及び前記入射側の表面とは反対側の表面に表面プラズモンを発生させるプラズモン発生部と、
前記表面プラズモンを出射端面に向けて伝播させると共に該出射端面から近接場光として発生させる近接場光発生部と、を備え、
前記プラズモン発生部と前記近接場光発生部とは、同材質で一体的に形成され、
前記プラズモン発生部は、前記伝播部の内部を伝播されてくる前記光束の光軸に対して傾斜しており、
前記プラズモン発生部および前記近接場光発生部は、前記近接場光発生素子を前記スライダの流出端面側から見たときに、前記磁気記録媒体の表面に対して平行な方向に延びる横幅が、前記光束の光軸に沿う方向でそれぞれ一定となるように形成され、
前記プラズモン発生部の横幅は、前記近接場光発生部の横幅よりも幅広とされていることを特徴とする記録ヘッド。

【請求項2】

請求項１に記載の記録ヘッドにおいて、
前記プラズモン発生部は、前記傾斜状態を維持しながら前記伝播部を途中で閉塞するように該伝播部内を横断していることを特徴とする記録ヘッド。

【請求項3】

請求項１又は２に記載の記録ヘッドにおいて、
前記近接場光発生部は、前記伝播部の内部を伝播されてくる前記光束の光軸に対して傾斜していることを特徴とする記録ヘッド。

【請求項4】

請求項１から３のいずれか１項に記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、
前記伝播部に前記光束を入射させる光源と、
前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、
該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録する記録ヘッド、及びこれを備えた情報記録再生装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最少限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になりつつある。

【0003】

そこで、上記不具合を解消するために、光を集光したスポット光、或いは近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることが可能とされている。

【0004】

ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行うヘッドが知られている（特許文献１参照）。
この特許文献１に記載の記録ヘッドは、スライダに照射された光を伝播させる導波路と、該導波路の先端部付近における導波路内に配置され、伝播されてきた光から近接場光を発生させる近接場光発生素子と、を備えている。
この近接場光発生素子は、金等の金属材料をパターニング等することで形成された平坦な薄膜体であり、第１機能部と、先端面が導波路の先端面と面一とされた第２機能部と、で構成されている。第１機能部は、導波路の内部を伝播されてきた光を受けて表面プラズモンを励起させる部分である。第２機能部は、その励起された表面プラズモンを先端面に導くと共に、表面プラズモンのエネルギーを近接場光に変換して先端面に局在化させた状態で発生させる部分である。これにより、近接場光を利用してディスクを局所的に加熱することが可能とされている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】米国特許第７２７２０７９号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところが、上記特許文献１に記載の記録ヘッドでは、近接場光発生素子が平坦な薄膜状に形成されており、その平面方向が伝播される光の光軸方向に対して平行となるように導波路内に形成されている。そのため、導波路によって伝播されてきた光のうち、第１機能部の側面に入射した一部の光しか表面プラズモンの励起に寄与しないので、表面プラズモンを効率良く発生させることが困難であると思われる。

【0007】

そこで、近接場光発生素子の膜厚を厚くすることで、第１機能部の側面に光をより多く入射させ易くし、効率良く表面プラズモンを発生させることも考えられる。しかしながら、この場合には、第２機能部の膜厚も厚くなってしまうので、該第２機能部の先端面の面積が増大化してしまい、近接場光の局在化の妨げになってしまうものであった。そのため、ディスクを局所的に加熱し難くなり、高密度記録化が困難になってしまう不都合があった。
また、近接場光発生素子の全体の膜厚を厚くするのではなく、第１機能部だけを膜厚に形成することも考えられる。しかしながらこの場合には、第１機能部と第２機能部との膜厚をそれぞれ変える必要があるので、作製工程が複雑化してしまい、容易に製造することが難しくなってしまう不都合があった。

【0008】

本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、近接場光を効率良く局所的に発生させて、高密度で且つ高い信頼性で記録を行うことができると共に、容易に製造することが可能な記録ヘッド、及びこれを備えた情報記録再生装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明は、前記課題を解決するために以下の手段を提供する。
（１）本発明に係る記録ヘッドは、一定方向に回転する磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、該スライダの前記流出端面側に配設され、入射された光束を前記磁気記録媒体の表面に対向する端面側に向けて伝播させる伝播部と、前記スライダの流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、前記伝播部の内部に埋設され、該伝播部によって伝播される前記光束から近接場光を発生させる薄膜状の近接場光発生素子と、を備え、前記近接場光発生素子は、前記光束の入射によって、前記入射側の表面、及び前記入射側の表面とは反対側の表面に表面プラズモンを発生させるプラズモン発生部と、前記表面プラズモンを出射端面に向けて伝播させると共に該出射端面から近接場光として発生させる近接場光発生部と、を備え、前記プラズモン発生部と前記近接場光発生部とは、同材質で一体的に形成され、前記プラズモン発生部は、前記伝播部の内部を伝播されてくる前記光束の光軸に対して傾斜しており、前記プラズモン発生部および前記近接場光発生部は、前記近接場光発生素子を前記スライダの流出端面側から見たときに、前記磁気記録媒体の表面に対して平行な方向に延びる横幅が、前記光束の光軸に沿う方向でそれぞれ一定となるように形成され、前記プラズモン発生部の横幅は、前記近接場光発生部の横幅よりも幅広とされていることを特徴とする。

【0010】

本発明に係る記録ヘッドによれば、伝播部内に入射された光束を磁気記録媒体の表面に対向する端面側に向けて確実に伝播させることができると共に、この伝播部内に埋設された近接場光発生素子のプラズモン発生部に効率良く入射させることができる。すると、プラズモン発生部が、入射した光束によって表面プラズモンを励起させる。表面プラズモンが励起されると、近接場光発生部がこの表面プラズモンを出射端面に向けて伝播させると共に、その表面プラズモンのエネルギーを近接場光に変換して出射端面から外部に局在化させた状態で発生させる。
そのため、この出射端面に局在化した近接場光と記録素子で発生された記録磁界とを協働させて、磁気記録媒体に各種の情報の書き込みを行うことができる。

【0011】

特に、近接場光発生素子のプラズモン発生部は、従来のものとは異なり伝播部内を伝播されてくる光束の光軸に対して傾斜している。そのため、光束と相互作用する面積を大きく確保することができ、伝播されてくる光束を効率良くプラズモン発生部に入射させて、表面プラズモンの発生効率を向上させることができる。従って、近接場光発生部の出射端面に近接場光を効率良く、しかも局所的に発生させることができ、高密度な記録を行うことができる。
また、上記したように伝播されてくる光束を効率良くプラズモン発生部に入射させることができるので、その分、近接場光の発生に寄与しない漏れ光を低減させることができる。そのため、この漏れ光に起因する誤記録を抑制することができ、書き込みの信頼性を高めることができる。

【0012】

更に、近接場光発生素子は伝播部内に埋設されており、この伝播部によって周囲が覆われた状態となっている。そのため、プラズモン発生部において光束が入射する入射面だけでなく、その入射面とは反対側の表面を含めた外表面全体に効率良く表面プラズモンが励起する。そのうえ、プラズモン発生部の外表面は全て同じ伝播部に接する面であるので、上記表面プラズモンを同じ条件で近接場光発生部に伝播させることができ、損失を抑制し易い。これらの点においても、近接場光を効率良く発生させ易い。
更に、プラズモン発生部及び近接場光発生部は、共に同じ材料からなる同一媒体であるので、両者の接続部分に段差や界面等が生じ難い。従って、表面プラズモンの損失を抑制しながらプラズモン発生部から近接場光発生部に伝播することができ、この点においても近接場光を効率良く発生させ易い。

【0013】

更に、プラズモン発生部と近接場光発生部との膜厚を変化させる必要がなく、近接場光発生部と同じ膜厚のプラズモン発生部を光軸に対して傾斜させれば良いので、例えば伝播部の一部をエッチング等で除去して斜面を形成しておき、その上に薄膜状にパターニングを行うだけでプラズモン発生部及び近接場光発生部を具備する近接場光発生素子を製造することが可能である。
従って、特別な手法を用いることなく、通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら、従来の製造プロセスの流れの中で伝播部及び近接場光発生素子をスライダの流出端面側に同時に作り込むことができる。そのため、容易且つ精度良く、しかも効率良く製造することができ、低コスト化及び量産化に繋げることができる。

【0015】

また、光束と相互作用する面積をより大きく確保することができ、多くの光束をプラズモン発生部に入射させることができる。従って、漏れ光のさらなる低減化を図ると同時に、表面プラズモンをより効率良く発生させることができる。しかもその一方、近接場光発生部の横幅をできるだけ幅狭にできるので、出射端面をより小さくすることが可能である。従って、近接場光のさらなる局在化を図ることができる。
このように、表面プラズモンの発生効率の向上化と、近接場光のさらなる局在化と、を同時に図ることができるので、光束の入射エネルギーを有効に利用して高密度な記録を効果的に行うことができる。

【0016】

（２）上記本発明に係る記録ヘッドにおいて、前記プラズモン発生部が、前記傾斜状態を維持しながら前記伝播部を途中で閉塞するように該伝播部内を横断していても良い。

【0017】

この場合には、プラズモン発生部が伝播部内を横断して該伝播部を途中で閉塞しているので、光束の光路に対してプラズモン発生部が完全に交差する。そのため、伝播されてきた光束を全てプラズモン発生部に入射させることができる。従って、漏れ光を最少限に抑えつつ、高強度の近接場光を発生させることができ、さらなる高密度記録化を図ることができると共に、書き込みの信頼性をさらに高めることができる。

【0018】

（３）上記本発明に係る記録ヘッドにおいて、前記近接場光発生部が、前記伝播部の内部を伝播されてくる前記光束の光軸に対して傾斜していても良い。

【0019】

この場合には、近接場光を発生させる出射端面の位置を変更することが可能であるので、設計の自由度を向上することができる。特に、記録磁界の磁場スポットに対してできるだけ近い位置に近接場光を発生させることが可能であるので、光束の入射エネルギーが弱い場合であっても対象とする記録トラックの磁区に対して信頼性高く記録を行うことができると。

【0020】

（４）本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明に係る記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、前記伝播部に前記光束を入射させる光源と、前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする。

【0021】

本発明に係る情報記録再生装置によれば、上記記録ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。

【発明の効果】

【0022】

本発明に係る記録ヘッドによれば、容易且つ低コストで精度良く近接場光発生素子を製造することが可能であるうえ、近接場光を効率良く局所的に発生させて、高い信頼性で高密度な記録を行うことができる。
また、本発明に係る情報記録再生装置によれば、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】本発明に係る情報記録再生装置の実施形態を示す斜視図である。

【図2】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。

【図3】図２に示すジンバルの平面図である。

【図4】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。

【図5】図４に示す記録ヘッド周辺を拡大した断面図である。

【図6】図５に示す記録ヘッドの流出端面側をさらに拡大した断面図である。

【図7】図６に示す近接場光発生素子をスライダの流出端面側から見た平面図である。

【図8】図６に示す近接場光発生素子をディスク側から見た平面図である。

【図9】図１に示すターミナル基板の平面図である。

【図10】図６に示す記録ヘッドを製造する際の流れを示す工程図である。

【図11】図１０に示す工程の続きの流れを示す工程図である。

【図12】記録ヘッドの変形例を示す図であって、図６に相当する断面図である。

【図13】図１２に示す近接場光発生素子をスライダの流出端面側から見た平面図である。

【図14】図１２に示す近接場光発生素子をディスク側から見た平面図である。

【図15】記録ヘッドの別の変形例を示す図であって、図６に相当する断面図である。

【図16】図１５に示す近接場光発生素子をスライダの流出端面側から見た平面図である。

【図17】図１５に示す近接場光発生素子をディスク側から見た平面図である。

【図18】近接場光発生素子の変形例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

以下、本発明に係る情報記録再生装置の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置は、垂直記録層を有するディスク（磁気記録媒体）に対して、垂直記録方式で書き込みを行う装置である。

【0025】

（情報記録再生装置）
図１に示すように、本実施形態の情報記録再生装置１は、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の基端側から光電気複合配線３３を介して光束Ｌ（図６参照）を供給するレーザ光源２０と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ７と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録ヘッド２に対して供給する制御部５と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。

【0026】

ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料からなる上部開口部を有する箱型形状のものであり、上面視四角形状の底部９ａと、底部９ａの周縁において底部９ａに対して鉛直方向に立設する周壁（不図示）とで構成されている。そして、周壁に囲まれた内側には、上述した各構成品を収容する凹部が形成される。
なお、図１においては、説明を分かりやすくするため、ハウジング９の周囲を取り囲む周壁を省略している。

【0027】

ハウジング９には、該ハウジング９の上部開口部を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。底部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定されている。

【0028】

ディスクＤの外側で、底部９ａの一つの隅角部には、上述したアクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、ピボット軸１０を中心に水平面（ＸＹ方向）内で回動可能なキャリッジ１１が取り付けられている。
このキャリッジ１１は、基端部から先端部に向けて（ディスクＤ方向に向けて）延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、略直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０回りに回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ６に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。

【0029】

アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ６が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。
具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにしたがって先細るテーパ形状に形成されており、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、交互に配置可能に構成されており、アクチュエータ６の駆動によってアーム部１４がディスク面Ｄ１に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。
なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避可能とされている。

【0030】

ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する記録ヘッド２にレーザ光源２０からの光束Ｌを導いて近接場光Ｓ（図６参照）を発生させ、該近接場光Ｓを利用してディスクＤに各種情報を記録再生させるものである。
図２から図５に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ１２は、上記記録ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、該記録ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録ヘッド２をディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、即ち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。

【0031】

記録ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
図５及び図６に示すように、この記録ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離だけ浮上した状態でディスクＤに対向配置され、ディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａを有するスライダ６０と、スライダ６０の流出端面（先端面）６０ａ側に配設された、光伝播素子４０、記録素子４１、再生素子４２と、を備えている。

【0032】

なお、上記スライダ６０は、該スライダ６０からディスクＤを見たときに、ディスクＤの回転方向下流側に流出端面６０ａが位置するように、ディスクＤに対向配置されている。また、この流出端面６０ａに対して向かい合う面は、ディスクＤの回転方向上流側に位置する流入端面として機能する。よって、ディスクＤの回転時、回転するディスクＤによって発生した空気は、流入端面側から浮上面２ａに沿って流れた後、流出端面６０ａ側から抜けるように流動する。
なお、記録ヘッド２は、スライダ６０の流出端面６０ａ側が最もディスク面Ｄ１に近接した状態でディスクＤ上を浮上する。従って、スライダ６０の流出端面６０ａ側に上記各構成品が配置されていることで、これらを可能な限りディスク面Ｄ１に近づけることができ、ディスクＤの保磁力を効率良く低下させてディスクＤへの書き込みが容易とされている。

【0033】

ところで、本実施形態においては、スライダ６０の流出端面６０ａに光伝播素子４０が固定されており、記録素子４１及び再生素子４２が光伝播素子４０の後述するクラッド５１内に組み込まれた状態で配設されている。具体的には、記録素子４１及び再生素子４２は、スライダ６０の流出端面６０ａと光伝播素子４０の後述する伝播部５０との間に位置するようにクラッド５１内に組み込まれている。この際、再生素子４２がスライダ６０の流出端面６０ａに固定され、この再生素子４２に隣接して並ぶように記録素子４１が固定されている。

【0034】

スライダ６０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。また、スライダ６０は、浮上面２ａをディスクＤ側に向けた状態で、ジンバル１７（図３参照）を介してサスペンション３（図３参照）の先端にぶら下がるように支持されている。

【0035】

再生素子４２は、ディスクＤから漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜である。この再生素子４２には、後述する電気配線３１を介して制御部５（図１参照）からバイアス電流が供給されている。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができ、この電圧の変化から信号の再生を行うことが可能とされている。

【0036】

記録素子４１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に位置する補助磁極４５と、磁気回路４６を介して補助磁極４５に接続され、ディスクＤに対して垂直な記録磁界を補助磁極４５との間で発生させる主磁極４７と、磁気回路４６を中心として該磁気回路４６の周囲を渦巻状に巻回されたコイル４８と、を備えている。

【0037】

両磁極４５、４７及び磁気回路４６は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル４８は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路４６との間、両磁極４５、４７との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁層４９によってモールドされている。つまり、両磁極４５、４７、磁気回路４６及びコイル４８は、絶縁層４９によって支持された状態となっている。また、コイル４８には情報に応じて変調された電流が制御部５から供給される。
なお、主磁極４７及び補助磁極４５は、ディスクＤに対向する端面がスライダ６０の浮上面と面一となるように設計されている。

【0038】

光伝播素子４０は、後述する光導波路３２から入射された光束Ｌをディスク面Ｄ１に対向する端面側に向けて伝播させる伝播部５０と、該伝播部５０を内部に閉じ込めるクラッド５１と、で構成される略板状の素子であって、上記したようにスライダ６０の流出端面６０ａに固定されている。
伝播部５０は、スライダ６０の流出端面６０ａに沿って延在しており、一端側がスライダ６０の上方に向き、他端側がディスクＤに向いた状態で主磁極４７の近傍に隣接している。伝播部５０の他端側における端面５０ａは、スライダ６０の浮上面２ａに対して面一とされている。そして、この伝播部５０の他端側における内部には、伝播部５０によって伝播される光束Ｌから近接場光Ｓを発生させる近接場光発生素子７０が埋設されている。

【0039】

なお、本実施形態の伝播部５０は、クラッド５１の屈折率よりも高い屈折率の材料からなり、クラッド５１との屈折率の違いから光束Ｌを全反射条件で導くコアとされている。クラッド５１は、コアである伝播部５０に密着して該伝播部５０を内部に閉じ込めている。

【0040】

また、クラッド５１及びコアとして使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ_２）でコアを形成し、フッ素をドープした石英でクラッド５１を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７となり、クラッド５１の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。また、ゲルマニウムをドープした石英でコアを形成し、石英（ＳｉＯ_２）でクラッド５１を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド５１の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。

【0041】

特に、コアとクラッド５１との屈折率差が大きいほど、コア内に光束Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コアに酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド５１に石英等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域の光束Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコアを形成することも有効である。

【0042】

上記近接場光発生素子７０は、図６から図８に示すように、伝播部５０によって伝播される光束Ｌから近接場光Ｓを発生させる素子であり、金等の導電性材料からなる薄膜とされている。
この近接場光発生素子７０は、光束Ｌの入射によって表面プラズモンを発生させるプラズモン発生部７１と、伝播部５０の端面５０ａと面一とされた出射端面７２ａを有し、上記表面プラズモンを出射端面７２ａに向けて伝播させると共に該出射端面７２ａから近接場光Ｓとして発生させる近接場光発生部７２と、を備えている。

【0043】

プラズモン発生部７１は、伝播部５０の内部を伝播されてくる光束Ｌの光軸Ｍ（図６参照）に対して傾斜している。これに対して、近接場光発生部７２は、光軸Ｍに対して平行に延在しており、上記したように伝播部５０の端面５０ａに露出する面が出射端面７２ａとされている。
これらプラズモン発生部７１及び近接場光発生部７２は、同材質（上記導電性材料）により一体的に形成されている。

【0044】

ところで、図７に示すように、本実施形態では近接場光発生素子７０をスライダ６０の流出端面６０ａ側から見たときに、プラズモン発生部７１の横幅Ｗ１（ディスク面Ｄ１に対して平行な方向に延びる幅）が、近接場光発生部７２の横幅Ｗ２よりも幅広とされている。図示の例では、近接場光発生部７２の横幅Ｗ２は厚みと略同じとされ、プラズモン発生部７１の横幅Ｗ１がそれよりも略６〜８倍程度大きな幅とされている。

【0045】

また、図２から図５に示すように、スライダ６０の下面は上述したようにディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａとされ、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から浮上するための圧力を発生させる面であり、ＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれている。具体的には、スライダ６０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ６０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ６０を最適な状態で浮上させるように設計されている。
スライダ６０は、この浮上面２ａによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、サスペンション３によってディスクＤ側に押さえ付けられる力を受けている。そしてスライダ６０は、この両者の力のバランスによって、ディスク面Ｄ１から浮上している。

【0046】

図２及び図３に示すように、サスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート２２と、ベースプレート２２の先端側にヒンジ板２３を介して連結された平面視略三角状のロードビーム２４と、で構成されている。

【0047】

ベースプレート２２は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口２２ａが形成されている。そして、この開口２２ａを介してベースプレート２２がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート２２の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状の上記ヒンジ板２３が配置されている。このヒンジ板２３は、ベースプレート２２の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート２２の先端からベースプレート２２の長手方向に沿って延出する延出部２３ａとして形成されている。この延出部２３ａは、ヒンジ板２３の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム２４が連結されている。

【0048】

ロードビーム２４は、ベースプレート２２と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート２２の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板２３に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート２２とロードビーム２４との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。

【0049】

また、サスペンション３上には、フレクシャ２５が設けられている。
このフレクシャ２５は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ２５は、ロードビーム２４の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。

【0050】

ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム２４に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム２４に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部２６が形成されており、この切欠部２６に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部２６を備えている。

【0051】

これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓み易くなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム２４にぶら下がった状態となっている。

【0052】

また、図３及び図４に示すように、ロードビーム２４の先端には、パッド部１７ｂ及び記録ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム２４側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録ヘッド２を支持すると共に、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録ヘッド２に荷重を付与する。そして、突起部１９とパッド部１７ｂとの接触点（支持点）が、突起部１９による記録ヘッド２の荷重点とされている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。

【0053】

図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。

【0054】

図１及び図９に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板３０が配置されている。このターミナル基板３０は、ハウジング９に設けられた制御部５と記録ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部５とターミナル基板３０とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板３０と記録ヘッド２とは、電気配線３１により接続されている。この電気配線３１は、各キャリッジ１１に設けられた記録ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号が、電気配線３１を介して記録ヘッド２に出力される。

【0055】

ターミナル基板３０上には、記録ヘッド２の光伝播素子４０に向けて光束Ｌを供給する上記レーザ光源２０が配置されている。レーザ光源２０は、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号を受信し、この信号に基づいて光束Ｌを出射するものであり、各アーム部１４に設けられた記録ヘッド２に対応して基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３個配列されている。各レーザ光源２０の出射側には、出射された光束Ｌを記録ヘッド２まで導く光導波路３２が接続されている。

【0056】

図２及び図３に示すように、光導波路３２と電気配線３１とは、レーザ光源２０と記録ヘッド２との間において、その基端側から先端に至るまで一体的に形成された光電気複合配線３３として構成されている。
この光電気複合配線３３は、ターミナル基板３０の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、光電気複合配線３３は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ２５の支持体１８上に配置されており、該支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。

【0057】

そして、光電気複合配線３３は、サスペンション３の先端、即ちジンバル１７の中間位置において電気配線３１と光導波路３２とに分岐している。
具体的には、光導波路３２は、光電気複合配線３３の先端側における分岐地点からジンバル１７の長手方向に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部２６を跨いで記録ヘッド２の流入端側に直接接続されている。光導波路３２は、光電気複合配線３３の分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録ヘッド２の流入端側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。
つまり、ジンバル１７の下面において、光導波路３２は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録ヘッド２の幅方向（Ｘ方向）中央部から記録ヘッド２の流入端側に引き回されている。

【0058】

一方、上記分岐地点において、電気配線３１はジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分、つまり切欠部２６の外側から引き回されている。そして、切欠部２６の外側から引き回された電気配線３１は、連結部１７ａ上を通って記録ヘッド２の流出端面６０ａ側に接続されている。即ち、電気配線３１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に設けられた再生素子４２と記録素子４１とのそれぞれに対して、記録ヘッド２の外部から直接接続されている。

【0059】

なお、光導波路３２の構成材料は、上記した光伝播素子４０のコア（伝播部５０）及びクラッド５１と同様の材料を用いることも可能であるが、本実施形態では以下に示すような樹脂材料が好適に用いられている。
例えばＰＭＭＡ（メタクリル酸メチル樹脂）により、厚さが３〜１０μｍでコア３２ａを形成し、フッ素含有重合体により、厚さが数十μｍでクラッド３２ｂを形成する組み合わせが考えられる。また、コア３２ａ及びクラッド３２ｂをともにエポキシ樹脂（例えば、コア屈折率１．５２２〜１．５２３、クラッド屈折率１．５１８〜１．５１９）で構成したり、フッ素化ポリイミドで構成したりすることも可能である。この場合、コア３２ａとクラッド３２ｂとを構成する樹脂材料の配合等を調整して、両者の屈折率差を大きくすることが好ましい。例えば、フッ素化ポリイミドの場合、フッ素含有量を調整したり、放射光等のエネルギー照射によって、屈折率を制御したりすることができる。このように、光導波路３２の構成材料に樹脂材料を用いることで、光電気複合配線３３を半導体プロセスにより製造することが可能である。

【0060】

ところで、図６に示すように、光導波路３２の先端面は斜めにカットされたミラー面３５とされており、レーザ光源２０によって導入された光束Ｌを、該光束Ｌの向きが略９０度変わるように反射させている。これにより、ミラー面３５で反射された光束Ｌが、記録ヘッド２の光伝播素子４０を構成する伝播部５０内に導入可能とされている。なお、ミラー面３５は、少なくともコア３２ａを含む領域にアルミ等からなる反射板を蒸着法等により形成するような構成としても構わない。

【0061】

（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する手順について説明する。

【0062】

まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを所定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、ピボット軸１０を回転中心としてキャリッジ１１を回動させ、キャリッジ１１を介してヘッドジンバルアセンブリ１２をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に記録ヘッド２を位置させることができる。

【0063】

この際、記録ヘッド２は、サスペンション３によって支持されていると共に所定の力でディスクＤ側に押さえ付けられている。また、これと同時に記録ヘッド２は、浮上面２ａを利用して、回転するディスクＤによって生じる風圧の影響を受けて浮上する力を受けている。この両者の力のバランスによって、記録ヘッド２はディスクＤ上から離間した位置に浮上している。
しかも記録ヘッド２は、風圧を受けてサスペンション３側に押されるので、記録ヘッド２を固定するジンバル１７のパッド部１７ｂとサスペンション３に形成された突起部１９とが、点接触した状態となる。そして、この浮上する力は、突起部１９を介してサスペンション３に伝わり、該サスペンション３をディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓ませるように作用する。これにより、上記したように記録ヘッド２は浮上する。

【0064】

ここで、情報の記録を行う場合、制御部５はレーザ光源２０を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル４８に供給して記録素子４１を作動させる。
レーザ光源２０が作動すると、光導波路３２に光束Ｌを入射させる。すると、この光束Ｌは、光導波路３２のコア３２ａ内を先端側に向かって進んだ後、図６に示すように、ミラー面３５で反射されて光伝播素子４０の伝播部５０内に導入される。伝播部５０内に導入された光束Ｌは、ディスクＤ側に位置する端面５０ａ側に向かって例えばクラッド５１との界面との間で反射を繰り返しながら伝播部５０内を確実に伝播する。

【0065】

そして、この伝播部５０内を伝播してきた光束Ｌは、その一部が近接場光発生素子７０のプラズモン発生部７１に入射する。すると、プラズモン発生部７１が入射した光束Ｌによって表面プラズモンを励起させる。この表面プラズモンが励起されると、近接場光発生部７２が該表面プラズモンを出射端面７２ａに向けて伝播させると共に、その表面プラズモンのエネルギーを近接場光Ｓに変換して出射端面７２ａから外部に局在化させた状態で発生させる。これにより、ディスクＤはこの近接場光Ｓによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。

【0066】

一方、制御部５によってコイル４８に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路４６内に磁界を発生させるので、主磁極４７と補助磁極４５との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。

【0067】

その結果、近接場光発生部７２の出射端面７２ａに局在化した状態で発生された近接場光Ｓと、記録素子４１で発生された記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。

【0068】

次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、再生素子４２がディスクＤから漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子４２の電圧が変化する。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部５は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
上述したように、記録ヘッド２を利用してディスクＤに対して各種の情報を記録再生することができる。

【0069】

特に、本実施形態の記録ヘッド２によれば、近接場光発生素子７０のプラズモン発生部７１が、従来のものとは異なり伝播部５０内を伝播されてくる光束Ｌの光軸Ｍに対して傾斜している。そのため、光束Ｌと相互作用する面積を大きく確保することができ、伝播されてくる光束Ｌを効率良くプラズモン発生部７１に入射させて、表面プラズモンの発生効率を向上させることができる。
従って、近接場光発生部７２の出射端面７２ａに近接場光Ｓを効率良く、しかも局所的に発生させることができ、高密度な記録を行うことができる。

【0070】

また、上記したように伝播されてくる光束Ｌを効率良くプラズモン発生部７１に入射させることができるので、プラズモン発生部７１に入射しない光束Ｌの量を抑えることができる。そのため、近接場光Ｓの発生に寄与しない漏れ光を低減させることができるので、漏れ光に起因する誤記録を抑制することができ書き込みの信頼性を高めることができる。

【0071】

更に、近接場光発生素子７０は伝播部５０内に埋設されており、この伝播部５０によって周囲が覆われた状態となっている。そのため、プラズモン発生部７１において光束Ｌが入射する入射面だけでなく、その入射面とは反対側の表面も含めた外表面全体に効率良く表面プラズモンが励起させ易い。そのうえ、プラズモン発生部７１の外表面は全て同じ伝播部５０に接する面であるので、表面プラズモンを同じ条件で近接場光発生部７２に伝播させることができ損失を抑制し易い。これらの点においても、近接場光Ｓを効率良く発生させ易い。
また、プラズモン発生部７１及び近接場光発生部７２は、共に同じ材料からなる同一媒体であるので、両者の接続部分に段差や界面等が生じ難い。従って、表面プラズモンの損失を抑制しながらプラズモン発生部７１から近接場光発生部７２に伝播することができ、この点においても近接場光Ｓを効率良く発生させ易い。

【0072】

しかも、本実施形態では、プラズモン発生部７１の横幅Ｗ１が近接場光発生部７２の横幅Ｗ２よりも遥かに大きいので、光束Ｌと相互作用する面積をより大きく確保することができ、多くの光束Ｌをプラズモン発生部７１に入射させることができる。従って、上記作用効果を顕著に奏効することができる。また、その一方で近接場光発生部７２の横幅Ｗ２をできるだけ幅狭にできるので、出射端面７２ａを極力小さくし易い（図８参照）。従って、近接場光Ｓのさらなる局在化を図ることができ、高密度記録化を図り易い。
つまり、本実施形態による近接場光発生素子７０によれば、表面プラズモンを効率良く発生させることができる点と、近接場光Ｓを極力小さなスポットで発生させることができる点と、を同時に果すことができる。

【0073】

また、プラズモン発生部７１と近接場光発生部７２との膜厚を変化させる必要がなく、近接場光発生部７２と同じ膜厚のプラズモン発生部７１を光軸Ｍに対して傾斜させれば良いので、例えば伝播部５０の一部をエッチング等で除去して斜面を形成しておき、その上に薄膜状にパターニングを行うだけで、プラズモン発生部７１及び近接場光発生部７２を具備する近接場光発生素子７０を製造することが可能である。
従って、特別な手法を用いることなく、通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら、従来の製造プロセスの流れの中で伝播部５０及び近接場光発生素子７０をスライダ６０の流出端面６０ａ側に同時に作り込むことができる。そのため、容易に精度良くしかも効率良く製造することができ、低コスト化及び量産化に繋げることができる。

【0074】

ここで、具体的に光伝播素子４０及び近接場光発生素子７０の製造について簡単に説明する。
まず、図１０（ａ）に示すように、後にスライダ６０となるスライダ基板８０の流出端面６０ａ上に半導体技術を利用して再生素子４２及び記録素子４１を作り込むと共に、光伝播素子４０のクラッド層８１及び後に伝播部５０となるコア層８２を順に積層する。次いで、図１０（ｂ）に示すように、半導体技術を利用してコア層８２を加工して、傾斜面８３ａを有する膨出部８３を形成すると共に、それ以外のコア層８２の部分を除去する。

【0075】

次いで、図１０（ｃ）に示すように、上記膨出部８３を覆うように金等の導電性材料を被膜させて、近接場光発生素子７０を形成する。なお、膨出部８３のうち傾斜面８３ａ上に被膜されている部分がプラズモン発生部７１となり、その他の部分に被膜されている部分が近接場光発生部７２となる。

【0076】

次いで、図１０（ｄ）に示すように、近接場光発生素子７０及び露出しているクラッド層８１を覆うように、コア層８２を再度積層する。次いで、図１１（ａ）に示すように、再積層したコア層８２のうち、上記膨出部８３に倣って膨らんだ部分を研磨し、コア層８２の全体を平坦に形成する。次いで、図１１（ｂ）に示すように、このコア層８２を覆うように再度クラッド層８１を積層する。最後に図１１（ｂ）に示すように、これら積層体を点線部分まで研磨加工することで、伝播部５０の内部に近接場光発生素子７０が配設された記録ヘッド２を製造することができる。

【0077】

特に、スライダ６０の流出端面６０ａ側から順に各構成品を作り込む途中で、近接場光発生素子７０の製造工程を一工程追加するだけの簡便な方法で、伝播部５０及びクラッド５１からなる光伝播素子４０と、プラズモン発生部７１及び近接場光発生部７２からなる近接場光発生素子７０と、を同時に作り込むことができるので、製造が容易である。

【0078】

そして、本実施形態の情報記録再生装置１は、上述した記録ヘッド２を備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。また、上述したように、光軸Ｍに対して傾斜したプラズモン発生部７１を利用して効率良く表面プラズモンを発生させることができるので、レーザ光源２０に必要なレーザパワーを下げることができ、消費電力の低減化を図ることができる。

【0079】

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。

【0080】

例えば、上記実施形態では、スライダ６０を浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置１を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面Ｄ１に対向配置されていればディスクＤとスライダ６０とが接触していても構わない。つまり、本発明の記録ヘッド２は、コンタクトスライダタイプのヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。

【0081】

また、上記実施形態では、アーム部１４の片面側のみにヘッドジンバルアセンブリ１２が設けられている構成について説明したが、各ディスクＤ間に差し入れられるアーム部１４の両面に、各ディスクＤに対向するようにそれぞれヘッドジンバルアセンブリ１２を設けるような構成も可能である。
この場合には、アーム部１４の両面側に設けられたヘッドジンバルアセンブリ１２の各記録ヘッド２により、各記録ヘッド２に対向するディスク面Ｄ１の情報の記録再生を行うことができる。つまり、１つのアーム部１４により２枚のディスクＤの情報を記録再生することができるため、情報記録再生装置１の記録容量の増加及び装置の小型化を図ることができる。

【0082】

また、上記実施形態では、光伝播素子４０に光束Ｌを導入するレーザ光源２０をキャリッジ１１の基部１５に取り付けられたターミナル基板３０に配設させた構成としたが、この位置に限定されるものではない。例えば、スライダ６０の上面に配設し、記録ヘッド２に一体的に搭載させても構わない。こうすることで、光導波路３２をキャリッジ１１から引き回す必要がないうえ、浮上時におけるスライダ６０の動きが光導波路３２によって阻害され難いので、より好ましい。

【0083】

また、上記実施形態では、伝播部５０をストレート状に形成したが、この形状に限定されるものではない。例えば、端面５０ａ側に向かうにしたがって漸次先細り形状となるように形成しても構わない。いずれにしても、光束Ｌを伝播できれば良い。

【0084】

また、上記実施形態において、図１２から図１４に示すように、伝播部５０を途中で閉塞するようにプラズモン発生部７１を形成しても構わない。即ち、光軸Ｍに対する傾斜状態を維持した状態で伝播部５０内を横断するようにプラズモン発生部７１を延在させ、伝播部を途中で閉塞させるように形成しても構わない。

【0085】

この場合には、プラズモン発生部７１が伝播部５０を途中で閉塞しているので、伝播される光束Ｌの光路に対してプラズモン発生部７１が完全に交差する。そのため、伝播されてきた光束Ｌを全てプラズモン発生部７１に入射させることができる。従って、漏れ光を最少限に抑えつつ、高強度の近接場光Ｓを発生させることができ、さらなる高密度記録化を図ることができると共に、書き込みの信頼性をさらに高めることができる。

【0086】

また、上記実施形態において、プラズモン発生部７１だけでなく近接場光発生部７２についても、光束Ｌの光軸Ｍに対して傾斜するように形成しても構わない。
例えば、図１５から図１７に示すように、近接場光発生部７２の一部をスライダ６０の流出端面６０ａ側に接近するように傾斜させても構わない。
このように、近接場光発生部７２の少なくとも一部を光軸Ｍに対して傾斜させることで、近接場光Ｓを発生させる出射端面７２ａの位置を変更することが可能であるので、設計の自由度を向上することができる。
特に、図示の例では、近接場光発生部７２の出射端面７２ａが主磁極４７に極力近づいているので、記録磁界の磁場スポットに対してできるだけ近い位置に近接場光Ｓを発生させることが可能であり、光束Ｌの入射エネルギーが弱い場合であっても、対象とする記録トラックの磁区に対して信頼性高く記録を行うことができる。

【0087】

また、上記実施形態において、図１８に示すように、できるだけ角部を生じさせることなく丸みを帯びた外形形状となるように近接場光発生素子７０を形成することが好ましい。このようにすることで、励起させた表面プラズモンを途中でロスさせることなく、近接場光発生部７２の出射端面７２ａまで導き、近接場光Ｓに変換することができる。

【符号の説明】

【0088】

Ｄ…ディスク（磁気記録媒体）
Ｄ１…ディスク面（磁気記録媒体の表面）
Ｌ…光束
Ｍ…光軸
Ｓ…近接場光
１…情報記録再生装置
２…記録ヘッド
３…サスペンション
１０…ピボット軸
１１…キャリッジ
１４…アーム部
２０…レーザ光源（光源）
４１…記録素子
４５…補助磁極
４７…主磁極
５０…伝播部
６０…スライダ
６０ａ…スライダの流出端面
７０…近接場光発生素子
７１…プラズモン発生部
７２…近接場光発生部
７２ａ…近接場光発生部の出射端面

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】