(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5787448
(24)【登録日】2015年8月7日
(45)【発行日】2015年9月30日
(54)【発明の名称】装飾表示体、装飾表示方法および装飾表示システム
(51)【国際特許分類】
B44F 1/06 20060101AFI20150910BHJP
G02B 3/00 20060101ALI20150910BHJP
【FI】
B44F1/06
G02B3/00 A
【請求項の数】4
【全頁数】14
(21)【出願番号】特願2012-167885(P2012-167885)
(22)【出願日】2012年7月30日
(65)【公開番号】特開2014-24287(P2014-24287A)
(43)【公開日】2014年2月6日
【審査請求日】2014年8月22日
【早期審査対象出願】
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】599144859
【氏名又は名称】美濃商事株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100114764
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 正樹
(72)【発明者】
【氏名】大坪 毅
(72)【発明者】
【氏名】内本 宏
【審査官】
岩瀬 昌治
(56)【参考文献】
【文献】
特開2008−065022(JP,A)
【文献】
特開2010−085463(JP,A)
【文献】
特開2006−003276(JP,A)
【文献】
特開平11−242690(JP,A)
【文献】
特開2009−216752(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
B44F 1/06
G02B 3/00
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて0.30mm〜2.0mmの配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材を備え、各画素径が0.10mm〜2.0mmの複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像が透明素材の裏面に投影され、各画素と各集光素とが重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じることにより、各画素の拡大虚像が現出することを特徴とする装飾表示体。
【請求項2】
複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて0.30mm〜2.0mmの配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材の裏面に、各画素径が0.10mm〜2.0mmの複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像を投影し、各画素と各集光素とが重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じることにより、画素の拡大虚像が現出することを特徴とする装飾表示方法。
【請求項3】
複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて0.30mm〜2.0mmの配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材と、
前記透明素材の裏面に、各画素径が0.10mm〜2.0mmの複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像を投影し、各画素と各集光素とが重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じることにより、画素の拡大虚像を現出させる投影機とを備えることを特徴とする装飾表示システム。
【請求項4】
前記投影機はコンピュータにより制御されるものであって、
該コンピュータは、
複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像が記憶される記憶部と、
前記投影機に対して、前記記憶部に記憶されている前記画素パターンの影像を前記透明素材の裏面に投影させる制御部とを備える請求項3に記載の装飾表示システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、遊技機やゲーム機の外層パネル、包装箱、広告体、飾り品、ディスプレイ装置、文房具、土産品、構造体、教材等の各種商品の装飾に適用される装飾表示体、装飾表示方法および装飾表示システムに関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来より、遊技機やゲーム機の外層パネル、包装箱、広告体、飾り品、ディスプレイ装置、文房具、土産品、構造体、教材等の各種商品の装飾として、図柄の拡大虚像を各種商品の表面から上方または下方に現出させる装飾表示体を適用することが知られており、例えば下記特許文献1〜特許文献5に開示されている。
【0003】
これらの装飾表示体は、シート状または板状の透明素材の表面に、複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて所定の配列ピッチで2次元的に配列して集光素パターンが形成されるとともに、上記透明素材の裏面に、着色された複数の画素を各画素の並びに集光素パターンと同じ方向性を持たせて各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列して画素パターンが形成され、各集光素と各画素の配列ピッチが異なるように集光素パターンと画素パターンとが形成されることによって、画素パターンによる立体的な図柄の拡大虚像を現出するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第4907049号
【特許文献2】特許第3488179号
【特許文献3】特開2008−012870号
【特許文献4】特開2003−226100号
【特許文献5】特開2003−226099号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、従来の装飾表示体の画素パターンは、いずれも印刷によって形成されるものばかりであり、それ以外の方法によって画素パターンが形成されるようなものが存在していなかった。
【0006】
本発明は、上述の技術的背景に鑑みてなされたものであって、新規な構成の画素パターンに基づいて画素の拡大虚像を現出させることができ、ひいては趣向性の高い装飾表示体、装飾表示方法および装飾表示システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明は、上記目的を達成するために、複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて所定の配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材を備え、複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像が透明素材の裏面に投影されることを特徴とする。
【0008】
これによれば、透明素材の裏面に投影される画素パターンの影像は、複数の画素が各画素の並びに集光素パターンと同じ方向性を持たせて各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなるものであるため、各画素と各集光素が重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じ、見る位置に制限を受けることなく、揺らぎの少ない静的な状態で、立体的な画素の拡大虚像が透明素材の表面側または裏面側に現出することができる。
【0009】
また、本発明に係る装飾表示方法は、複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて所定の配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材の裏面に、複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像を投影することを特徴とする。
【0010】
また、本発明に係る装飾表示システムは、複数の凸レンズ状の集光素を各集光素の並びに方向性を持たせて所定の配列ピッチで2次元的に配列してなる集光素パターンが表面に形成されたシート状または板状の透明素材と、前記透明素材の裏面に、複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像を投影する投影機とを備えることを特徴とする。
【0011】
また、上記装飾表示システムにおいて、前記投影機はコンピュータにより制御されるものであって、コンピュータは、複数の画素を各画素の並びに前記集光素パターンと同じ方向性を持たせて前記各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなる画素パターンの影像が記憶される記憶部と、前記投影機に対して、前記記憶部に記憶されている前記画素パターンの影像を前記透明素材の裏面に投影させる制御部とを備えるのが好ましい。
【発明の効果】
【0012】
本発明によれば、透明素材の裏面に投影される画素パターンの影像は、複数の画素が各画素の並びに集光素パターンと同じ方向性を持たせて各集光素の配列ピッチと異なる配列ピッチで2次元的に配列してなるものであるため、各画素と各集光素が重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じ、見る位置に制限を受けることなく、揺らぎの少ない静的な状態で、立体的な画素の拡大虚像が透明素材の表面側または裏面側に現出することができる。したがって、従来のように単に印刷された画素の拡大虚像を現出させる場合よりも、趣向性の高い装飾効果を奏することが可能になる。
【0013】
また、本装飾表示体では画素パターンの影像の投影によって拡大虚像が現出することから、投影機のON/OFFを切り替えることによって、画素パターンの影像を透明素材の裏面に投影したり、消したりすることができるため、画素の拡大虚像を任意に現出させたり、消失させたりすることが可能になる。
【0014】
また、投影機により投影される画素パターンの画素の形状、大きさ、配列ピッチ、色などの設定を変更することにより、画素の拡大虚像を種々変化させることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【
図1】第1の実施形態に係る装飾表示体の正面図である。
【
図3】
図1の装飾表示システムの概略構成図である。
【
図5】
図1の装飾表示体の集光素と画素の位置関係を示す正面模式図である。
【
図6】第2の実施形態に係る装飾表示システムの概略構成図である。
【
図8】
図6の装飾表示体の集光素と画素の位置関係を示す正面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
<第1の実施形態>
次に、本発明の第1の実施形態に係る装飾表示システムついて
図1〜
図5を参照しつつ説明する。
【0017】
本実施形態の装飾表示システム1は、
図1〜
図3に示すように、アクリル板等の合成樹脂からなる板状の透明素材11を有する装飾表示体10と、影像を投影する投影機20と、該投影機20を制御するコンピュータ30とを備えている。
【0018】
前記装飾表示体10における透明素材11は、
図1に示すように、表面の全体に亘って、無色透明のインキを用いて複数の凸レンズ状の集光素111aを印刷して集光素パターン111が形成されている。
【0019】
この集光素パターン111は、
図5に示すように、集光素111aを各集光素111aの並びに方向性を持たせて2次元的に配列して形成されており、x方向とこれに直交するy方向へ同じ配列ピッチpで各集光素111aがマトリクス状に等配列して形成されている。
【0020】
なお、本実施形態では、各集光素111aの直径が0.9mm、配列ピッチpが1.0mmに設定されている。また、各集光素111aの配列は、必ずしも直交するパターンである必要はなく、一方の配列方向に対する他方の配列方向が90度より小さい角度または90度より大きい角度をなすようにしてもよい。
【0021】
また、前記透明素材11は、
図4に示すように、所定の厚みdで形成されている。この厚みdは、透明素材11の表面に形成された集光素パターン111の集光素111aによって後述の画素121aによる拡大虚像Z1を現出させる距離に設定されており、集光素111aや画素121aの大きさや配列ピッチによって適宜設定される。なお、本実施形態では、透明素材11の厚みdは2.0mmに設定されている。
【0022】
前記投影機20は、
図3に示すように、透明素材11の裏面から透明素材11と所定距離を隔てて設けられており、後述のコンピュータ30に接続され、該コンピュータ30により制御されるものである。
【0023】
この投影機20は、光源と、光変調部と、投影光学系と(各構成を図示略)を備え、光源から射出した光を影像データに基づいて光変調部で変調し、該光変調部で変調した光を投影光学系によって照射することにより、影像を投影面に投影する。ここでの投影機20は、透明素材11の裏面全体を影像の投影面としており、透明素材11の裏面に対して影像が略直交に投影される態様で設置位置や投影光学系が設定されている。また、透明素材11の裏面の位置で影像の大きさやピントなどが合うように投影光学系が設定されている。
【0024】
また、前記投影機20は、
図2に示すように、コンピュータ30から入力された影像データに基づいて画素パターン121の影像を投影するものであり、画素パターン121の各画素121aが白色となるように光源から射出される光を合成するとともに、各画素121a以外の周辺部分が他の色(黒色など)となるように光源から射出された光を合成して、画素パターン121の影像を投影する。
【0025】
この画素パターン121は、
図5に示すように、透明素材11の裏面において、複数の画素121aが各画素121aの並びに集光素パターン111と同じ方向性を持たせて各集光素111の配列ピッチpと異なる配列ピッチqで2次元的に配列してなるものであり、x方向とこれに直交するy方向へ各画素121aをマトリクス状に等配列して形成されている。なお、本実施形態では、各画素121aの直径が0.9mmに設定されている。
【0026】
また、前記画素パターン121は、
図4および
図5に示すように、集光素111aの配列ピッチpより小さい配列ピッチqで各画素121aが配列しており、本実施形態では画素121aの配列ピッチqが0.95mmに設定されている。
【0027】
これにより、x−y平面の各方向について、複数個おきに集光素111aと画素121aが完全に重なる部分と、その周囲の画素121aが集光素111aから順次内側に位置ずれする部分とが繰り返し生じるようになっている。
【0028】
前記コンピュータ30は、
図3に示すように、投影機20に接続されており、画素パターン121の影像が記憶されている記憶部31と、投影機20の動作を制御する制御部32とを備えている。
【0029】
前記記憶部31は、上述した画素パターン121の影像(データ)が記憶されており、該画素パターン121の影像が制御部32によって適宜読み出される。
【0030】
前記制御部32は、記憶部31に記憶されている画素パターン121の影像を読み出して投影機20に出力する。また、制御部32は、投影機20の動作を制御することによって、画素パターン121の影像を投影機20を介して透明素材11の裏面に投影させる。
【0031】
而して、
図3に示すように、コンピュータ30の制御により投影機20を介して透明素材11の裏面に画素パターン121の影像が投影されると、該画素パターン121の影像は、複数の画素121aが各画素121aの並びに集光素パターン111と同じ方向性を持たせて各集光素111aの配列ピッチpと異なる配列ピッチqで2次元的に配列してなる。このため、x−y平面の各方向について各画素121aと各集光素111aとが重なる部分と位置ずれする部分とが繰り返して生じ、透明素材11の表面側から見た場合、見る位置に制限を受けることなく、揺らぎの少ない静的な状態で、立体的な画素121aの拡大虚像Z1が現出することができる。
【0032】
また、本実施形態では、各画素121aの配列ピッチqが、各集光素111aの配列ピッチpよりも小さく設定されているため、各画素121aの拡大虚像Z1は透明素材11の裏面側に現出する。
【0033】
以上の本装飾表示システム1によれば、投影機20を利用して形成された新規な構成の画素パターン121に基づいて画素121aの拡大虚像Z1を現出させることができる。したがって、従来のように単に印刷された画素の拡大虚像を現出させる場合よりも、趣向性の高い装飾効果を奏することが可能になる。
【0034】
また、本装飾表示体1では画素パターン121の影像の投影によって拡大虚像Z1が現出することから、コンピュータ30の制御などにより投影機20のスイッチのON/OFFを切り替えることによって、画素パターン121の影像を透明素材11の裏面に投影させたり、消したりすることができるため、画素121aの拡大虚像Z1を任意に現出させたり、消失させたりすることが可能である。
【0035】
また、投影機20により投影される画素パターン121の画素121aにおける形状、大きさ、配列ピッチ、色などの設定を変更することにより、画素の拡大虚像を種々変化させることも可能である。
【0036】
<第2の実施形態>
次に、本発明に係る装飾表示システムの第2の実施形態について
図6〜
図8を参照しつつ説明する。なお、以下では上記の実施形態と異なる構成についてのみ説明することとし、同一の構成については説明を省略して同一の符号を付すこととする。
【0037】
本実施形態の装飾表示システム2は、
図7および
図8に示すように、コンピュータ30から入力された画素パターン131の影像データに基づいて、投影機20が集光素111aの配列ピッチpより大きい配列ピッチq’(本実施形態ではq’=1.05mm)で各画素131aが配列してなる画素パターン131の影像を透明素材11の裏面に投影する。このため、x−y平面の各方向について複数個おきに画素131aと集光素111aとが完全に重なる部分と、その周囲の画素131aが集光素111aから順次外側に位置ずれする部分とが繰り返し生じ、透明素材11の表面側から見た場合、見る位置に制限を受けることなく、揺らぎの少ない静的な状態で、立体的な画素131aの拡大虚像Z2が現出することができる。
【0038】
また、本実施形態では、画素131aの配列ピッチq’が、各集光素111aの配列ピッチpよりも大きく設定されているため、各画素131aの拡大虚像Z2を透明素材11の表面側に現出させることができる。
【0039】
なお、上記各実施形態では、透明素材11が板状である場合について説明したが、シート状であってもよい。
【0040】
また、投影機20が投影する画素パターン121、131の影像がコンピュータ30から入力される場合について説明したが、その他の機器から入力されてもよい。あるいは、投影機20に画素パターンの影像が記憶されている記憶部を設け、投影機20が該記憶部から画素パターンの影像を直接読み出して投影させるようにしてもよい。
【0041】
また、コンピュータ30が設けられている場合について説明したが、設けられていなくてもよい。
【0042】
また、各集光素111aの配列ピッチpが1.0mm、画素121a、131aの配列ピッチqが0.95mm、配列ピッチq’が1.05mmである場合について説明したが、その他の配列ピッチであってもよい。但し、画素の拡大虚像を確実に現出させるために、集光素の配列ピッチpは0.30〜2.0mm、画素の配列ピッチは0.20〜2.2mmの範囲内で、集光素と画素の配列ピッチの差異は±20%程度の範囲内で設定されるのが好ましい。
【0043】
また、各集光素111aの配列ピッチpおよび画素121a、131aの配列ピッチq、q’が、いずれも一定である場合について説明したが、いずれも配列ピッチが変化するようにしてもよいし、いずれか一方の配列ピッチが一定で他方の配列ピッチが変化するようにしてもよい。
【0044】
また、透明素材11の厚みが2.0mmに設定されている場合について説明したが、2.0mmでなくてもよい。なお、この透明素材11の厚みdは、集光素111aや画素121a、131aの大きさや配列ピッチによって適宜設定されるものである。例えば、集光素111aおよび画素121a、131aの画素径が0.10〜2.0mm、配列ピッチが0.11〜2.2mmの場合、厚みdは0.10〜20mm、さらに好ましくは0.40〜10mmに設定されるのが好ましい。
【0045】
また、集光素111aおよび画素121a、131aが、円形状である場合について説明したが、その他の形状であってもよい。
【0046】
また、集光素111aを印刷により形成するものとしたが、エンボス加工等のその他の方法により形成してもよい。
【0047】
また、集光素111aおよび画素121a、131aの直径が1.0mmに設定されている場合について説明したが、その他の直径であってもよい。但し、画素の拡大虚像を確実に現出させるために、集光素と貫通孔の直径は0.10〜2.5mmの範囲内で設定されるのが好ましい。
【0048】
また、集光素111aおよび画素121a、131aの直径が同一である場合について説明したが、同一でなくてもよい。
【0049】
また、画素121a、131aが白色で、画素121a、131a以外の周辺部分が他の色(黒色など)である場合について説明したが、互いに異なる色であれば任意の配色でよい。
【0050】
また、画素パターン121、131の影像が透明素材11の裏面の全体に亘って投影される場合について説明したが、一部であってもよい。
【0051】
また、図面に示した集光素111aおよび画素121a、131aの大きさ、配列ピッチ、厚さなどは、説明の便宜上強調的に大きく図示したものであり、実際には非常に小さい集光素111aおよび画素121a、131aが2次元的に数多く配列されている。また、図面上の画素121a、131aは、説明の便宜上図示したものであるが、実際には厚みや形状などがあるものではない。
【0052】
以上、図面を参照して本発明の実施形態を説明したが、本発明は、図示した実施形態のものに限定されない。図示された実施形態に対して、本発明と同一の範囲内において、あるいは均等の範囲内において、種々の修正や変形を加えることが可能である。
【符号の説明】
【0053】
1…装飾表示システム
10…装飾表示体
11…透明素材
111…集光素パターン
111a…集光素
20…投影機
121…画素パターン
121a…画素
30…コンピュータ
31…記憶部
32…制御部
Z1…画素の拡大虚像