特許5789149原子層成長方法及び原子層成長装置

発明の名称　原子層成長方法及び原子層成長装置

出願人　ＪＳＷアフティ株式会社　（識別番号 514140573）

　　　　特許公開件数ランキング 14556 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 12424 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5789149

公報発行日　2015年10月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5789149

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