特許5792189複数の露光経路を利用して荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンをフラクチャリングするための方法およびシステム

発明の名称　複数の露光経路を利用して荷電粒子ビームリソグラフィを用いてパターンをフラクチャリングするための方法およびシステム

出願人　ディー・ツー・エス・インコーポレイテッド　（識別番号 509142184）

　　　　特許公開件数ランキング 2471 位（7件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3250 位（4件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5792189

公報発行日　2015年10月7

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5792189

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