(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態の説明を行う。尚、本実施の形態において、型締装置については、型閉じを行う際の可動プラテンの移動方向を前方とし、型開きを行う際の可動プラテンの移動方向を後方とし、射出装置については、射出を行う際のスクリュの移動方向を前方とし、計量を行う際のスクリュの移動方向を後方として説明する。
【0015】
図1は本発明の実施の形態の成形機における金型装置及び型締装置の型閉じ時の状態を示す図、
図2は本発明の実施の形態の成形機における金型装置及び型締装置の型開き時の状態を示す図である。
【0016】
図において、10は型締装置、Frは射出成形機のフレーム(架台)、Gdは、該フレームFrに対して可動なガイド、11は、図示されないガイド上又はフレームFr上に載置された固定プラテンであり、該固定プラテン11と所定の間隔を置いて、かつ、固定プラテン11と対向させてリヤプラテン13が配設され、固定プラテン11とリヤプラテン13との間に4本のタイバー14(図においては、4本のタイバー14のうちの2本だけを示す。)が架設される。尚、リヤプラテン13は、フレームFrに対して固定される。
【0017】
そして、タイバー14に沿って固定プラテン11と対向させて可動プラテン12が型開閉方向に進退自在に配設される。そのために、可動プラテン12がガイドGdに固定され、可動プラテン12におけるタイバー14と対応する箇所にタイバー14を貫通させるための図示されないガイド穴が形成される。尚、ガイドGdには、後述の吸着板22も固定される。
【0018】
また、固定プラテン11には固定金型15が、可動プラテン12には可動金型16がそれぞれ固定され、可動プラテン12の進退に伴って固定金型15と可動金型16とが接離させられ、型閉じ、型締め及び型開きが行われる。尚、型締めが行われるのに伴って、固定金型15と可動金型16との間に図示されないキャビティ空間が形成され、射出装置17の射出ノズル18から射出された図示されない樹脂がキャビティ空間に充墳される。また、固定金型15及び可動金型16によって金型装置19が構成される。
【0019】
吸着板22は、可動プラテン12と平行にガイドGdに固定される。これにより、吸着板22は、リヤプラテン13より後方において進退自在となる。
【0020】
リニアモータ28は、可動プラテン12を進退させるため、ガイドGdに設けられる。リニアモータ28は、固定子29、及び可動子31を備え、固定子29は、フレームFr上において、ガイドGdと平行に、かつ、可動プラテン12の移動範囲に対応させて形成され、可動子31は、可動プラテン12の下端において、固定子29と対向させて、かつ、所定の範囲にわたって形成される。
【0021】
可動子31は、コア34及びコイル35を備える。そして、コア34は、固定子29に向けて突出させて、所定のピッチで形成された複数の磁極歯33を備え、コイル35は、各磁極歯33に巻装される。尚、磁極歯33は可動プラテン12の移動方向に対して直角の方向に、互いに平行に形成される。また、固定子29は、図示されないコア、及び該コア上に延在させて形成された図示されない永久磁石を備える。該永久磁石は、N極及びS極の各磁極を交互に着磁させることによって形成される。コイル35に所定の電流を供給することによってリニアモータ28を駆動すると、可動子31が進退させられ、それに伴って、ガイドGdにより可動プラテン12が進退させられ、型閉じ及び型開きを行うことができる。
【0022】
尚、本実施の形態においては、固定子29に永久磁石を、可動子31にコイル35を配設するようになっているが、固定子にコイルを、可動子に永久磁石を配設することもできる。その場合、リニアモータ28が駆動されるのに伴って、コイルが移動しないので、コイルに電力を供給するための配線を容易に行うことができる。
【0023】
尚、ガイドGdに可動プラテン12と吸着板22を固定する構成に限られず、可動プラテン12又は吸着板22にリニアモータ28の可動子31を設ける構成としてもよい。また、型開閉機構としては、リニアモータ28に限定されず、油圧式や電動式等であってもよい。
【0024】
可動プラテン12が前進させられて可動金型16が固定金型15に当接すると、型閉じが行われ、続いて、型締めが行われる。そして、型締めを行うために、リヤプラテン13と吸着板22との間に、電磁石ユニット37が配設される。そして、リヤプラテン13及び吸着板22を貫通して延び、かつ、可動プラテン12と吸着板22とを連結するセンターロッド39が進退自在に配設される。該センターロッド39は、型閉じ時及び型開き時に、可動プラテン12の進退に連動させて吸着板22を進退させ、型締め時に、電磁石ユニット37によって発生させられた型締力を可動プラテン12に伝達する。
【0025】
尚、固定プラテン11、可動プラテン12、リヤプラテン13、吸着板22、リニアモータ28、電磁石ユニット37、センターロッド39等によって型締装置10が構成される。
【0026】
電磁石ユニット37は、リヤプラテン13側に形成された電磁石49、及び吸着板22側に形成された吸着部51から成り、該吸着部51は、吸着板22の前端面の所定の部分、本実施の形態においては、吸着板22においてセンターロッド39を包囲し、かつ、電磁石49と対向する部分に形成される。また、リヤプラテン13の後端面の所定の部分、本実施の形態においては、センターロッド39まわりに溝45が形成され、溝45よりも内側にコア(内極)46、及び溝45よりも外側にヨーク(外極)47が形成される。そして、溝45内でコア46まわりにコイル48が巻装される。尚、コア46及びヨーク47は、鋳物の一体構造で構成されるが、強磁性体から成る薄板を積層することによって形成され、電磁積層鋼板を構成してもよい。
【0027】
尚、本実施の形態において、リヤプラテン13とは別に電磁石49が、吸着板22とは別に吸着部51が形成されもよいし、リヤプラテン13の一部として電磁石を、吸着板22の一部として吸着部を形成してもよい。また、電磁石と吸着部の配置は、逆であってもよい。例えば、吸着板22側に電磁石49を設け、リヤプラテン13側に吸着部を設けてもよい。
【0028】
電磁石ユニット37において、コイル48に電流を供給すると、電磁石49が駆動され、吸着部51を吸着し、型締力を発生させることができる。
【0029】
センターロッド39は、後端部において吸着板22と連結させて、前端部において可動プラテン12と連結させて配設される。したがって、センターロッド39は、型閉じ時に可動プラテン12と共に前進させられて吸着板22を前進させ、型開き時に可動プラテン12と共に後退させられて吸着板22を後退させる。そのために、リヤプラテン13の中央部分に、センターロッド39を貫通させるための穴41が形成され、穴41の前端部の開口に臨ませて、センターロッド39を摺動自在に支持するブッシュ等の軸受部材Br1が配設される。
【0030】
型締装置10のリニアモータ28及び電磁石49の駆動は、制御部60によって制御される。制御部60は、CPU及びメモリ等を備え、CPUによって演算された結果に応じて、リニアモータ28のコイル35や電磁石49のコイル48に電流を供給するための回路も備える。制御部60には、また、荷重検出器55が接続される。荷重検出器55は、型締装置10において、少なくとも1本のタイバー14の所定の位置(固定プラテン11とリヤプラテン13との間における所定の位置)に設置され、当該タイバー14にかかる荷重を検出する。図中では、上下二本のタイバー14に荷重検出器55が設置された例が示されている。荷重検出器55は、例えば、タイバー14の伸び量を検出するセンサによって構成される。荷重検出器55によって検出された荷重は、制御部60に送られる。また、制御部60には、後述の位置検出手段100が接続される。尚、制御部60は、
図2においては便宜上省略されている。
【0031】
次に、構成の型締装置10の動作について説明する。
【0032】
制御部60の型開閉処理部61によって型閉じ工程が制御される。
図2の状態(型開き時の状態)において、型開閉処理部61は、コイル35に電流を供給して、リニアモータ28を駆動する。このとき、型開閉処理部61は、後述の位置検出手段100からの情報に基づいて、可動プラテン12の位置を判断し、所定の前進位置まで可動プラテン12が前進されるまでリニアモータ28を駆動する(可動プラテン12の位置制御)。この所定の前進位置では、
図1に示されるように、可動金型16が固定金型15に当接させられる。このとき、リヤプラテン13と吸着板22との間、すなわち、電磁石49と吸着部51との間には、ギャップδが形成される。尚、型閉じに必要とされる力は、型締力と比較されて十分に小さくされる。
【0033】
続いて、制御部60の型締処理部62は、型締工程を制御する。型締処理部62は、コイル48に電流を供給し、吸着部51を電磁石49の吸着力によって吸着する。それに伴って、吸着板22及びセンターロッド39を介して型締力が可動プラテン12に伝達され、型締めが行われる。型締め開始時等、型締力を変化させる際に、型締処理部62は、当該変化によって得るべき目標となる型締力、すなわち、定常状態で目標とする型締力型締力を発生させるために必要な定常的な電流の値をコイル48に供給するように制御している。
【0034】
尚、型締力は荷重検出器55によって検出される。検出された型締力は制御部60に送られ、制御部60において、型締力が設定値になるようにコイル48に供給される電流が調整され、フィードバック制御が行われる。この間、射出装置17において溶融させられた樹脂が射出ノズル18から射出され、金型装置19の各キャビティ空間に充墳される。
【0035】
各キャビティ空間内の樹脂が冷却されて固化すると、型開閉処理部61は、型開き工程を制御する。型締処理部62は、
図1の状態において、コイル48への電流の供給を停止する。それに伴って、型開閉処理部61は、リニアモータ28を駆動し始める。このとき、型開閉処理部61は、後述の位置検出手段100からの情報に基づいて、可動プラテン12の位置を判断し、所定の後退位置まで可動プラテン12が後退されるまでリニアモータ28を駆動する(可動プラテン12の位置制御)。所定の後退位置では、
図2に示されるように、可動金型16が固定金型15から離反され、型開きが実現される。
【0036】
ここで、
図3以降を参照して、本発明の特徴的な構成について説明する。
【0037】
図3は、一実施例による位置検出手段100を概略的に示す図である。尚、
図3は、位置検出手段100を説明する都合上、
図1及び
図2に示す成形機の要部のみを簡略的に示している。また、
図1及び
図2には、図の複雑化を防止する観点から、以下で説明する位置検出手段100の各種構成は図示されていない。
図3(A)は、可動プラテン12が所定の前進位置にある状態(型閉じ時の状態)を示し、
図3(B)は、可動プラテン12が所定の後退位置にある状態(型開き時の状態)を示す。
【0038】
図3に示す実施例による位置検出手段100は、永久磁石102と、磁気センサ104と、磁性材料からなるセンターロッド39の周面部39aとからなる。永久磁石102は、リヤプラテン13側に、センターロッド39の周面部39aを囲繞するように設けられる。磁気センサ104は、リヤプラテン13側に永久磁石102に近接して設けられる。磁気センサ104は、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。センターロッド39の周面部39aは、
図3に示すように、リヤプラテン13側の対向面に対して傾斜が形成される。即ち、センターロッド39の周面部39aは、リヤプラテン13側の対向面の永久磁石102との距離Dが型開閉方向(図の左右方向)に沿って変化するように構成される。
【0039】
ここで、センターロッド39は、上述の如く型開閉動作時に、可動プラテン12と共に移動するため、センターロッド39の周面部39aと永久磁石102との間の距離Dが、可動プラテン12の移動に伴い変化する。センターロッド39の周面部39aと永久磁石102との間の距離Dが変化すると、磁気センサ104が検出する磁束密度が変化する。即ち、磁気センサ104が検出する磁束密度は、センターロッド39の周面部39aと永久磁石102との間の距離Dの変化パターンに応じたパターンで変化する(
図4参照)。
図4は、横軸に可動プラテン12の移動量(原点は、可動プラテン12が所定の後退位置にある状態に対応)を示し、横軸に磁気センサ104が検出する磁束密度を示す。
図4に示すように、センターロッド39の周面部39aと永久磁石102との間の距離Dが大きくなるに従って(可動プラテン12が
図3(B)に示す型閉め用の所定の前進位置に近づくにつれて)、磁束密度が小さくなる傾向を示す。従って、可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)と磁束密度の変化パターンとの対応関係を予め求めておくことで、可動プラテン12の位置検出が可能となる。
【0040】
尚、
図3に示す実施例では、リヤプラテン13側に永久磁石102及び磁気センサ104を設け、センターロッド39側に傾斜面(周面部39a)を設けているが、逆の構成であってもよい。即ち、リヤプラテン13側に傾斜面を設け、センターロッド39側に永久磁石102及び磁気センサ104を設けてもよい。また、センターロッド39の周面部39aは、吸着板22側に向かうにつれて上昇する傾きで傾斜が付けられているが、傾斜の方向は逆であってもよい。即ち、センターロッド39の周面部39aは、可動プラテン12側に向かうにつれて上昇する傾きで傾斜が付けられてもよい。
【0041】
また、
図3に示す実施例では、永久磁石102及び磁気センサ104は、リヤプラテン13における可動プラテン12側端部付近に設けられているが、永久磁石102及び磁気センサ104は、センターロッド39の周面部39aに対向する位置であれば、リヤプラテン13における任意の場所に設置されてもよい。
【0042】
また、
図3に示す実施例では、センターロッド39の構造特徴部(本例では傾斜)を磁気センサ104で検出しているが、他の検出原理に基づく非接触距離センサ(例えば、渦電流センサ、レーザ変位計、静電容量式変位計等)を用いてセンターロッド39の構造特徴部を検出してもよい。
【0043】
図3に示す実施例によれば、センターロッド39の周面部39aに構造特徴部(傾斜)を形成するための加工を行うだけ、安価な磁気センサ104を用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ104が検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)との関係を把握してから位置制御を行うことが可能であり、高い加工精度や取り付け精度も必要としない。
【0044】
図5は、他の一実施例による位置検出手段200を概略的に示す図である。尚、
図5は、位置検出手段200を説明する都合上、
図1及び
図2に示す成形機の要部のみを簡略的に示している。また、
図1及び
図2には、図の複雑化を防止する観点から、以下で説明する位置検出手段200の各種構成は図示されていない。
図5(A)は、可動プラテン12が所定の前進位置にある状態(型閉じ時の状態)を示し、
図5(B)は、可動プラテン12が所定の後退位置にある状態(型開き時の状態)を示す。
【0045】
図5に示す実施例による位置検出手段200は、永久磁石202と、磁気センサ204A,204Bと、磁性材料からなるセンターロッド39の周面部に形成された凹部列39b、39cとからなる。永久磁石202は、リヤプラテン13側に、センターロッド39の周面部39aを囲繞するように設けられる。磁気センサ204A,204Bは、リヤプラテン13側に永久磁石202に近接して設けられる。磁気センサ204A,204Bは、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。磁気センサ204A,204Bは、
図5に示すように、軸方向に視て互いに対して対角な周位置に設けられてよい。磁気センサ204A,204Bは、センターロッド39の周面部に形成された凹部列39b、39cにそれぞれ対向するように設けられる。凹部列39b及び39cは、それぞれ、型開閉方向(図の左右方向)に沿って等間隔(等しいピッチ)に並んだ複数個の凹部から構成される。凹部列39bと凹部列39cは、
図5(B)に示すように、互いに対して型開閉方向に沿って位相がずれた周期で形成されてもよい。この位相ずれ量dは、例えば凹部列39bの各凹部間の間隔(ピッチ)に対して非対称な量(1/2ピッチ以外であり、例えば1/4ピッチ)であってもよい。
【0046】
ここで、
図3に示した実施例と同様に、センターロッド39は、上述の如く型開閉動作時に、可動プラテン12と共に移動するため、センターロッド39の周面部39aと永久磁石202との間の距離が、凹部列39b,39cに起因して可動プラテン12の移動に伴い変化する。
図6は、横軸に可動プラテン12の移動量(原点は、可動プラテン12が所定の後退位置にある状態に対応)を示し、横軸に磁気センサ204Aが検出する磁束密度を示す。
図6に示すように、1組の凹凸(例えば、凹部列39bの1つの凹部とそれに隣接した凸部)を磁気センサ204Aが通過した場合、磁気センサ204Aの出力は1つの正弦波状となる。従って、複数組の凹凸を形成することで、位置分解能を高めることができる。また、
図3に示す実施例では、凹部列39bと凹部列39cとが上述の如く位相がずれて配置されているので、磁気センサ204A,204Bの出力も位相がずれた正弦波となり、可動プラテン12の進行方向(前進又は後退)を判断することも可能である。
【0047】
尚、
図5に示す実施例では、リヤプラテン13側に永久磁石202及び磁気センサ204A,204Bを設け、センターロッド39側に凹部列39b及び39cを設けているが、逆の構成であってもよい。即ち、リヤプラテン13側に凹部列39b及び39cを設け、センターロッド39側に永久磁石202及び磁気センサ204A,204Bを設けてもよい。
【0048】
また、
図5に示す実施例では、永久磁石202及び磁気センサ204A,204Bは、リヤプラテン13における可動プラテン12側端部付近に設けられているが、永久磁石202及び磁気センサ204A,204Bは、センターロッド39の凹部列39b及び39cに対向する位置であれば、リヤプラテン13における任意の場所に設置されてもよい。
【0049】
また、
図5に示す実施例では、センターロッド39の構造特徴部(本例では凹部列39b及び39c)を磁気センサ204A,204Bで検出しているが、他の検出原理に基づく非接触距離センサ(例えば、渦電流センサ、レーザ変位計、静電容量式変位計等)を用いてセンターロッド39の構造特徴部を検出してもよい。
【0050】
図5に示す実施例によれば、センターロッド39の周面部に構造特徴部(凹部列39b及び39c)を形成するための加工を行うだけ、安価な磁気センサ204A,204Bを用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ204A,204Bが検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)との関係を把握してから位置制御を行うことが可能であり、高い加工精度や取り付け精度も必要としない。
【0051】
また、
図5に示す実施例は、上述の
図3に示す実施例と有効に組み合わせることが可能である。即ち
図5に示す実施例による位置検出手段200と、上述の
図3に示す実施例による位置検出手段100とは、センターロッド39の周方向で互いにオフセットした位置に独立して設けられてもよい(但し、永久磁石202は共用されてもよい。)
図7は、他の一実施例による位置検出手段300を概略的に示す図である。尚、
図7は、位置検出手段300を説明する都合上、
図1及び
図2に示す成形機の要部のみを簡略的に示している。また、
図1及び
図2には、図の複雑化を防止する観点から、以下で説明する位置検出手段300の各種構成は図示されていない。
図7は、可動プラテン12が所定の前進位置にある状態(型閉じ時の状態)を示す。
【0052】
図7に示す実施例による位置検出手段300は、永久磁石302と、磁気センサ304と、磁性材料からなるフレームFrの上面に形成された傾斜面306とからなる。永久磁石302は、ガイドGd側に、フレームFrに対向して設けられる。磁気センサ304は、ガイドGd側に永久磁石302に近接して設けられる。磁気センサ304は、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。フレームFrの傾斜面306は、
図7に示すように、ガイドGd側の対向面に対して傾斜が形成される。即ち、フレームFrの傾斜面306は、ガイドGd側の対向面の永久磁石302との距離Dが型開閉方向(図の左右方向)に沿って変化するように構成される。傾斜面306は、リニアモータ28等のような他の構成部品の設置されていない位置に形成される(即ち図の紙面鉛直方向でリニアモータ28等に対してオフセットして形成される)。
【0053】
ここで、ガイドGdは、上述の如く型開閉動作時に移動するため、フレームFrの傾斜面306と永久磁石302との間の距離Dが、ガイドGdの移動(及びそれによる可動プラテン12の移動)に伴い変化する。フレームFrの傾斜面306と永久磁石302との間の距離Dが変化すると、磁気センサ304が検出する磁束密度が変化する。即ち、磁気センサ304が検出する磁束密度は、フレームFrの傾斜面306と永久磁石302との間の距離Dの変化パターンに応じたパターンで変化する(
図4参考)。従って、可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)と磁束密度の変化パターンとの対応関係を予め求めておくことで、可動プラテン12の位置検出が可能となる。
【0054】
尚、
図7に示す実施例では、ガイドGd側に永久磁石302及び磁気センサ304を設け、フレームFr側に傾斜面306を設けているが、逆の構成であってもよい。即ち、ガイドGd側に傾斜面を設け、フレームFr側に永久磁石302及び磁気センサ304を設けてもよい。また、フレームFrの傾斜面306は、吸着板22側に向かうにつれて下降する傾きで傾斜が付けられているが、傾斜の方向は逆であってもよい。即ち、フレームFrの傾斜面306は、吸着板22側に向かうにつれて上昇する傾きで傾斜が付けられてもよい。
【0055】
また、
図7に示す実施例では、傾斜面306は、フレームFrの上面よりも下方(フレームFr内)に形成されているが、フレームFrの上面よりも上に形成されてもよい。例えば、傾斜面306は、フレームFrの上面に取り付けられる部材(又はフレームFrの突出部)により構成されてもよい。
【0056】
また、
図7に示す実施例では、永久磁石302及び磁気センサ304は、ガイドGdにおけるリヤプラテン13の下方位置付近に設けられているが、永久磁石302及び磁気センサ304は、フレームFrの傾斜面306に対向する位置であれば、ガイドGdにおける任意の場所に設置されてもよい。また、フレームFrの傾斜面306は、可動プラテン12の下方位置付近に設けられてもよい。例えば、フレームFrの傾斜面306は、リニアモータ28の関連部材から型開閉方向でオフセットして設けられてもよい。
【0057】
また、
図7に示す実施例では、フレームFrの構造特徴部(本例では傾斜)を磁気センサ304で検出しているが、他の検出原理に基づく非接触距離センサ(例えば、渦電流センサ、レーザ変位計、静電容量式変位計等)を用いてフレームFrの構造特徴部を検出してもよい。
【0058】
図7に示す実施例によれば、フレームFrの傾斜面306に構造特徴部を形成するための加工又は取り付けを行うだけ、安価な磁気センサ304を用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ304が検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)との関係を把握してから位置制御を行うことが可能であり、高い加工精度や取り付け精度も必要としない。
【0059】
図8は、他の一実施例による位置検出手段400を概略的に示す図である。尚、
図8は、位置検出手段400を説明する都合上、
図1及び
図2に示す成形機の要部のみを簡略的に示している。また、
図1及び
図2には、図の複雑化を防止する観点から、以下で説明する位置検出手段400の各種構成は図示されていない。
図8は、可動プラテン12が所定の前進位置にある状態(型閉じ時の状態)を示す。
【0060】
図8に示す実施例による位置検出手段400は、永久磁石402と、磁気センサ404と、磁性材料からなるフレームFrの上面に形成された凹部列406とからなる。永久磁石402は、ガイドGd側に、フレームFrに対向して設けられる。磁気センサ404は、ガイドGd側に永久磁石402に近接して設けられる。磁気センサ404は、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。フレームFrの凹部列406は、
図8に示すように、型開閉方向(図の左右方向)に沿って等間隔(等しいピッチ)に並んだ複数個の凹部から構成される。凹部列406は、
図5に示した実施例と同様に、2列で形成されてもよい。この場合、磁気センサ404も対応して2つ設けられる。また、この場合、2列の凹部列406は、
図5(B)に示した実施例と同様、互いに対して型開閉方向に沿って位相がずれた周期で形成されてもよい。この位相ずれ量は、例えば凹部列406の各凹部間の間隔(ピッチ)に対して非対称な量(1/2ピッチ以外であり、例えば1/4ピッチ)であってもよい。凹部列406は、リニアモータ28等のような他の構成部品の設置されていない位置に形成される(即ち図の紙面鉛直方向でリニアモータ28等に対してオフセットして形成される)。
【0061】
ここで、ガイドGdは、上述の如く型開閉動作時に移動するため、フレームFrの上面と永久磁石402との間の距離が、凹部列406に起因してガイドGdの移動(及びそれによる可動プラテン12の移動)に伴い変化する。例えば、1組の凹凸(例えば、凹部列406の1つの凹部とそれに隣接した凸部)を磁気センサ404が通過した場合、磁気センサ404の出力は1つの正弦波状となる(
図6参照)。また、2列の凹部列406が列毎に位相がずれて配置されている場合には、2つの磁気センサ404の出力も位相がずれた正弦波となるので、可動プラテン12の進行方向(前進又は後退)を判断することも可能である。
【0062】
尚、
図8に示す実施例では、ガイドGd側に永久磁石402及び磁気センサ404を設け、フレームFr側に凹部列406を設けているが、逆の構成であってもよい。即ち、ガイドGd側に凹部列を設け、フレームFr側に永久磁石402及び磁気センサ404を設けてもよい。
【0063】
また、
図8に示す実施例では、凹部列406は、フレームFrの上面よりも下方(フレームFr内)に形成されているが、フレームFrの上面よりも上に形成されてもよい。例えば、凹部列406は、フレームFrの上面に取り付けられる部材(又はフレームFrの突出部)により構成されてもよい。また、フレームFrに溝を形成し、その溝の中に、凹部列406を形成した磁性体部材を取り付けてもよい。
【0064】
また、
図8に示す実施例では、永久磁石402及び磁気センサ404は、ガイドGdにおけるリヤプラテン13の下方位置付近に設けられているが、永久磁石402及び磁気センサ404は、フレームFrの凹部列406に対向する位置であれば、ガイドGdにおける任意の場所に設置されてもよい。また、フレームFrの凹部列406は、可動プラテン12の下方位置付近に設けられてもよい。例えば、フレームFrの凹部列406は、リニアモータ28の関連部材から型開閉方向でオフセットして設けられてもよい。
【0065】
また、
図8に示す実施例では、フレームFrの構造特徴部(本例では凹凸)を磁気センサ404で検出しているが、他の検出原理に基づく非接触距離センサ(例えば、渦電流センサ、レーザ変位計、静電容量式変位計等)を用いてフレームFrの構造特徴部を検出してもよい。
【0066】
図8に示す実施例によれば、フレームFrの上面に構造特徴部(凹部列406)を形成するための加工又は取り付けを行うだけ、安価な磁気センサ404を用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ404が検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)との関係を把握してから位置制御を行うことが可能であり、高い加工精度や取り付け精度も必要としない。
【0067】
また、
図8に示す実施例は、上述の
図7に示す実施例と有効に組み合わせることが可能である。即ち
図8に示す実施例による位置検出手段400と、上述の
図7に示す実施例による位置検出手段300とは、互いに機械横断方向(図の紙面鉛直方向)でオフセットした位置(例えば機械横断方向でフレームFrの両側)に独立して設けられてもよい(但し、永久磁石402は共用されてもよい。)
図9は、本発明の実施の形態の成形機における金型装置及び型締装置の他の実施例を示す図である。本実施例の型締装置10Aは、トグル機構を使用して型開閉動作を行う型締装置である。
図1等に示した型締装置10と同様であってよい構成要素については、同一の参照符合を付して説明を省略する。
【0068】
トグルサポート115は、固定プラテン11との間に所定の距離を置いて、フレームFrに対して移動可能に配設される。タイバー14は、固定プラテン11とトグルサポート115との間に架設される。可動プラテン12とトグルサポート115との間には、トグル機構120が取り付けられる。トグルサポート115の後端にはトグル機構120を作動させる型締モータ126が配設される。型締モータ126は、回転運動を往復運動に変換するボールねじ機構等から成る図示されない運動方向変換装置を備え、駆動軸125を進退(図における左右方向に移動)させることによって、トグル機構120を作動させることができる。尚、トグル機構120は油圧により駆動されてもよい。
【0069】
トグル機構120は、駆動軸125に取り付けられたクロスヘッド124、該クロスヘッド124に揺動可能に取り付けられた第2トグルレバー123、トグルサポート115に揺動可能に取り付けられた第1トグルレバー121、及び、可動プラテン12に揺動可能に取り付けられたトグルアーム122から成る。そして、第1トグルレバー121と第2トグルレバー123との間、及び、第1トグルレバー121とトグルアーム122との間が、それぞれ、リンク結合される。なお、図示の例では、トグル機構120は、いわゆる、内巻五節点ダブルトグル機構であり、上下が対称の構成を有するが、トグル機構120の構成は任意である。
【0070】
型締モータ126が駆動して、クロスヘッド124を進退させることによって、トグル機構120を作動させることができる。この場合、クロスヘッド124を前進(図における右方向に移動)させると、可動プラテン12が前進させられて型閉が行われる。そして、型締モータ126による推進力にトグル倍率を乗じた型締力が発生させられ、該型締力によって型締が行われる。
【0071】
トグルサポート115には、図示されないタイバー挿通孔が複数、例えば、四つ形成され、タイバー14の図における左端が、それぞれのタイバー挿通孔に挿入される。なお、タイバー14の図示されない右端は、固定ナット14aによって固定プラテン11に固定されている。また、可動プラテン12の四隅の角部には、図示されない切欠き又は挿通孔が複数、例えば、四つ形成され、タイバー14が挿通される。
【0072】
成形機は、
図9に示すように、
図7で説明した位置検出手段300を備える。位置検出手段300は、永久磁石302と、磁気センサ304と、磁性材料からなるフレームFrの上面に形成された傾斜面306とからなる。永久磁石302は、可動プラテン12側に、フレームFrに対向して設けられる。磁気センサ304は、可動プラテン12側に永久磁石302に近接して設けられる。磁気センサ304は、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。フレームFrの傾斜面306は、
図9に示すように、可動プラテン12側の対向面に対して傾斜が形成される。即ち、フレームFrの傾斜面306は、可動プラテン12側の対向面の永久磁石302との距離Dが型開閉方向(図の左右方向)に沿って変化するように構成される。傾斜面306は、ガイド等のような他の構成部品の設置されていない位置に形成される(即ち図の紙面鉛直方向でガイド等に対してオフセットして形成される)。位置検出手段300に関して各種取りうる変形例は、上述の通りである。
【0073】
図9に示す実施例によれば、フレームFrの傾斜面306に構造特徴部を形成するための加工又は取り付けを行うだけ、安価な磁気センサ304を用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ304が検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動プラテン12の移動距離(ひいては可動プラテン12の位置)との関係を把握し、稼動時にこの関係に基づいて位置検出を行うことが可能である。
【0074】
尚、図示の例では、成形機は、位置検出手段300を備えているが、上述した他の位置検出手段100,200,400のいずれかを備えてもよい。
図3等を参照して上述した位置検出手段100を備える場合、タイバー14側に周面部39aを形成し、永久磁石102及び磁気センサ104を可動プラテン12側(例えば四隅の切欠き又は挿通孔のいずれか)に、周面部39aに対向して設ければよい。
図5等を参照して上述した位置検出手段200を備える場合、タイバー14側に凹部列39b、39cを形成し、永久磁石202及び磁気センサ204A,204Bを可動プラテン12側(例えば四隅の切欠き又は挿通孔のいずれか)に、凹部列39b、39cに対向して設ければよい。
図8を参照して上述した位置検出手段400の場合、フレームFrの傾斜面306に代えて、磁性材料からなるフレームFrの上面に凹部列406を形成すればよい。位置検出手段100,200,400に関して各種取りうる変形例は、上述の通りである。
【0075】
図10は、本発明の実施の形態の成形機における金型装置及び射出装置の他の実施例を示す図である。
図1等に示したものと同様であってよい構成要素については、同一の参照符合を付して説明を省略する。また、
図10では、型締装置の図示は省略されている。
【0076】
可塑化移動装置は、成形機に設けられた射出装置210を移動するために設けられる。射出装置210は成形機のフレームFr上で、固定金型15を支持する固定プラテン11に対して可動ガイド230を介して移動可能に支持される。可動金型16は、上述の実施例と同様に固定金型15に対して移動可能に設けられ、可動金型16を固定金型15に押し付けて金型を閉じた状態で樹脂充填工程及び保圧工程が行なわれ、可動金型16を固定金型15から離して金型を開いた状態で成形品の取り出し工程及び樹脂計量工程が行われる。
【0077】
射出装置210は溶融した樹脂を計量して押し出すためのスクリュ212を有しており、スクリュ212の先端にノズル214が設けられている。このノズル214の先端から溶融樹脂が吐出される。溶融樹脂を金型に注入し充填する充填工程では、射出装置210を固定プラテン11に向けて移動し、ノズル214を固定金型15又は固定プラテン11の注入部に対して押し付ける(ノズルタッチ)。
【0078】
可塑化移動装置は、射出装置210を移動するための移動機構であり、油圧シリンダ220と、油圧シリンダ220に作動媒体である作動油を供給する油圧回路(図示せず)とを含む。油圧シリンダ220のシャフト220aの先端は固定プラテン11に固定されており、油圧シリンダ220の前側に作動油を供給することで、可動ガイド230(それに伴い可動ガイド230に支持された射出装置210全体)は固定プラテン11(すなわち金型)に向かって移動する。一方、油圧シリンダ220の後側に作動油を供給することで、可動ガイド230(それに伴い可動ガイド230に支持された射出装置210全体)は固定プラテン11(すなわち金型)から離れる方向に移動する。
【0079】
成形機は、
図10に示すように、
図7で説明した位置検出手段300を備える。位置検出手段300は、永久磁石302と、磁気センサ304と、磁性材料からなるフレームFrの上面に形成された傾斜面306とからなる。永久磁石302は、可動ガイド230側に、フレームFrに対向して設けられる。磁気センサ304は、可動ガイド230側に永久磁石302に近接して設けられる。磁気センサ304は、任意の種類のセンサであってよく、例えばホールセンサやMR素子等であってよい。フレームFrの傾斜面306は、
図10に示すように、可動ガイド230側の対向面に対して傾斜が形成される。即ち、フレームFrの傾斜面306は、可動ガイド230側の対向面の永久磁石302との距離Dが射出装置移動方向(図の左右方向)に沿って変化するように構成される。位置検出手段300に関して各種取りうる変形例は、上述の通りである。
【0080】
図10に示す実施例によれば、フレームFrの傾斜面306に構造特徴部を形成するための加工又は取り付けを行うだけ、安価な磁気センサ304を用いて位置検出を実現することができる。また、リニアエンコーダを用いる場合に比べて取り付けが容易であり、また、実装後の磁気センサ304が検出する磁束密度の変化パターンに基づいて、当該磁束密度の変化パターンと可動ガイド230の移動距離(ひいてはノズル214の位置)との関係を把握し、稼動時にこの関係に基づいて位置検出を行うことが可能である。
【0081】
尚、図示の例では、成形機は、位置検出手段300を備えているが、
図8を参照して上述した位置検出手段400を備えてもよい。この場合、フレームFrの傾斜面306に代えて、磁性材料からなるフレームFrの上面に凹部列406を形成すればよい。位置検出手段400に関して各種取りうる変形例は、上述の通りである。
【0082】
以上、本発明の好ましい実施例について詳説したが、本発明は、上述した実施例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。
【0083】
例えば、上述した実施例では、型開閉動作時に可動する可動部材、及び、固定部材の組み合わせは、センターロッド39とリヤプラテン13の組み合わせ(
図3及び
図5)、ガイドGdとフレームFrの組み合わせ(
図7及び
図8)であるが、本発明は、他の任意の組み合わせ(例えば可動プラテン12とタイバー14の組み合わせ)に対して適用可能である。さらには、本発明は、成形機全体における任意の可動部材と任意の固定部材との組み合わせに対して適用することができる。
【0084】
また、上述した実施例では、磁気センサと永久磁石とがセットとして用いられている(例えば
図3に示す位置検出手段100の場合、永久磁石102及び磁気センサ104)、磁気センサ自体に磁束を発生させる機能を持たせる場合には、永久磁石を省略することも可能である。また、永久磁石に代えて電磁石を用いることも可能である。
【0085】
尚、本国際出願は、2011年3月8日に出願した日本国特許出願2011−050791号に基づく優先権を主張するものであり、その全内容は本国際出願にここでの参照により援用されるものとする。