特許5792723スパッタリング装置、成膜方法、および制御装置

発明の名称　スパッタリング装置、成膜方法、および制御装置

出願人　キヤノンアネルバ株式会社　（識別番号 227294）

　　　　特許公開件数ランキング 7170 位（2件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1361 位（13件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5792723

公報発行日　2015年10月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5792723

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-5792723「スパッタリング装置、成膜方法、および制御装置」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録