特許5796237フェノール系分子性ガラス、およびフェノール系分子ガラスを含むフォトレジスト組成物、および基板上にレジスト像を発生させるための方法

発明の名称　フェノール系分子性ガラス、およびフェノール系分子ガラスを含むフォトレジスト組成物、および基板上にレジスト像を発生させるための方法

出願人　インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション　（識別番号 390009531）

　　　　特許公開件数ランキング 96 位（295件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 26 位（690件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5796237

公報発行日　2015年10月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5796237

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