【図1】ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。

【図2】散乱光を低減するように設計された結像光が通過するための貫通開口部が設けられたミラーを含む図１に記載の投影露光装置の投影光学系の一部分の子午断面図である。

【図3】ミラーの後面から見た貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図4】ミラーの内部領域における貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図5】ミラーの反射面から見た貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図6】投影光学系の２つのミラーを含み、散乱光を低減するように設計された結像光が通過するための貫通開口部を有する一体的なミラー本体を有する投影光学系の一部分の図２と類似の図である。

【図7】ミラー本体の片側から見た図６に記載の一体的なミラー本体内の貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図8】図６に記載の一体的なミラー本体の内部領域における貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図9】図７に示している側と反対の側から見た一体的なミラー本体内の貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図10】投影光学系の瞳平面の領域に配置された散乱光に対する貫通開口部を有するミラーの領域における図１に記載の投影露光装置のための投影光学系の別の実施形態の一部分の子午断面図である。

【図11】投影光学系が瞳掩蔽光学系であり、図内に示すミラーが瞳の近くに配置された結像光が通過するための貫通開口部とアセンブリ開口部部分とを有する図１に記載の投影露光装置のための投影光学系の別の実施形態のミラーの平面図である。

【図12】投影光学系の中間像平面に配置された２つの散乱光絞りを含む図１に記載の投影露光装置のための投影光学系の別の実施形態の一部分の図２と類似の図である。

【図13】図１２に記載の投影光学系を通過する結像光のビーム経路内で見た時の２つの散乱光絞りのうちの第１のもの輪郭を描く図である。

【図14】図１２に記載の投影光学系を通過する結像光のビーム経路内で見た時の２つの散乱光絞りのうちの第２のもの輪郭を描く図である。

【図15】散乱光を低減するように設計された結像光が通過するための貫通開口部が設けられた投影光学系の２つのミラーを含む一体的なミラー本体の別の実施形態を含む投影光学系の一部分の図２と類似の図である。

【図16】ミラー本体の片側から見た図１５に記載の一体的なミラー本体内の貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図17】一体的なミラー本体の内部領域における貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図18】図１５に示す側とは反対の側から見た一体的なミラー本体内の貫通開口部の輪郭を描く図である。

【図19】投影光学系の瞳に近い３つのミラーの反射面の領域内に３つの散乱光掩蔽絞りを含む図１に記載の投影露光装置内に使用するべき投影光学系の別の実施形態の一部分の図２と類似の図である。

【図20】３つの散乱光掩蔽絞りのうちの第１のもの輪郭を描く図である。

【図21】３つの散乱光掩蔽絞りのうちの第２のもの輪郭を描く図である。

【図22】３つの散乱光掩蔽絞りのうちの第３のもの輪郭を描く図である。

【図23】合計の散乱光部分だけではなく投影光学系の個々のミラーの散乱光寄与も示す図１に記載の投影露光装置の投影光学系の像視野の視野高さにわたって散乱光低減手段を用いて取得することができる散乱光分布の散乱光のうちで１μｍよりも大きい範囲を有する部分に関する概略図である。

【図24】４７ｎｍよりも大きい範囲を有する散乱光部分の散乱光分布の図２３と類似の図である。