技術分野
この発明は、窒素添加量が数千ppm未満の高純度酸素ガスを原料ガスとした窒素添加レス・オゾン発生器を搭載した窒素添加レス・オゾン発生ユニット
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献1に開示された従来の多オゾン処理装置へのオゾン供給するオゾンガス供給システムは以上のように構成されており、窒素や水分を含んだ原料酸素ガスを供給し、1つのオゾン発生器71からオゾンガスを出力し、出力する配管系統を分配配管させる構成にしている。このため、出力するオゾンガスには、窒素酸化副生物質や硝酸クラスタやOHラジカル物質が含まれた活性ガスを供給されることになり、出力配管材質と窒素酸化副生物質や硝酸クラスタやOHラジカル物質との化学分解や酸化反応で、異常加熱や腐食に伴う金属コンタミネーションが多く含まれるオゾンガスを供給することになるという問題点があった。
この発明はのような課題を解決するためになされたものであり、原料ガスに窒素ガスを添加させない高純度酸素ガスのみで、高純度で、かつ高濃度のオゾンガスを生成できる窒素添加レス・オゾン発生器を搭載し、オゾン発生器自身を低温に冷やし、オゾン発生器自身を断熱材で覆って
オゾン 発生器の放電部分を効率良く冷やせるよう構成にすることにより、該窒素添加レス・オゾン発生器から出力されるオゾンガスをより多く出力することが可能な窒素添加レス・オゾン発生ユニットを得ることを目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
この発明に係る窒素添加レス・オゾン発生ユニットは、放電面にオゾンを生成するための光触媒物質を有し、オゾンガスを発生する窒素添加レス・オゾン発生器と、前記窒素添加レス・オゾン発生器に高電圧を供給するオゾン電源と、前記オゾン発生器に関連した制御手段とを備え、前記制御手段は、前記窒素添加レス・オゾン発生器に供給される原料ガス流量を制御するマスフローコントローラ(MFC)を含む流量検出・流量調整手段・・・ 続きを
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【発明の効果】
この発明に係る窒素添加レス・オゾン発生ユニットにおける窒素添加レス・オゾン発生器は、15℃以下の低温冷却媒体の供給及び排出口である冷却媒体入出口が形成されており結露発生が懸念される所定の構成面を覆って断熱材からなる断熱層を形成しているため、断熱層によって大気温度の影響を受けることなくオゾン発生器自身を低温に冷却することにより、所定の構成面における結露発生を確実に防止することができる。その結果、窒素添加レス・オゾン発生器の収納部の外部に存在するオゾン電源、制御手段に結露した水分が浸入することによる不具合を確実に回避することができオゾン発生器、オゾン電源、制御手段を一体構成にできる。
加えて、上述した断熱層によって大気温度の影響を低減化して収納部内の温度を比較的低温に保つことにより、光触媒層による光触媒効果を向上させ、その結果、オゾン発生効率及びオゾン分解効果を高め、品質の高いオゾンをより多く発生させることができる効果を奏する。
この発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】 本発明の実施の形態で用いる窒素添加レス・オゾン発生器の構成を示すブロック図である。
【図2】 図1で示した窒素添加レス・オゾン発生器による出力オゾン濃度特性を示すグラフである。
【図3】 オゾン発生時における酸素分子と光触媒とによる酸素分子の酸素原子への解離メカニズムを示す模式図である。
【図4】 酸素原子と酸素分子との三体衝突によるオゾンの生成メカニズムを示す模式図である。
【図5】 この発明の実施の形態である窒素添加レス・オゾン発生ユニット7及びその周辺の構成を示す説明図である。
【図6】 原料ガス流量Qに対するオゾンガス濃度のオゾン濃度特性を示すグラフである。
【図7】 図5で示した高電圧供給部の詳細を示す説明図である。
【図8】 窒素添加レス・オゾン発生器の構成の詳細を示す説明図である。
【図9】 従来のオゾン発生器の構成図である。
【図10】 窒素を添加した原料酸素ガスと従来のオゾン発生器との組合せで、オゾン発生内容を模式的に示す説明図である。
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