特許5825504IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

表面改質銅部材の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、銅の表面改質をして活性及び耐久性を向上させた表面改質銅部材の製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

前記目的を達成する本発明は、銅又は銅合金からなる基体の表面を、炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を用いて400〜1030℃で加熱処理を行って炭素ドープされた酸化銅又は炭素ドープ銅合金酸化物層からなる炭素ドープ酸化物層を形成するか、又は少なくとも炭素を含む化合物を含有するガスの燃焼ガス若しくは燃焼排ガスを用いて形成した雰囲気中で400〜1030℃で加熱処理して炭素ドープされた酸化銅又は炭素ドー・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明の表面改質銅部材は、銅部材の表面を比較的容易に改質でき、活性及び耐久性が向上したものである。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の表面改質銅部材2の外観を示す写真である。

【図2】本発明の表面改質銅部材2のSEM観察像である。

【図3】本発明の表面改質銅部材3のSEM観察像である。

【図4】本発明の表面改質銅部材3のラマン分光分析を示す図である。

【図5】本発明の有機合成方法1で用いた装置の概略構成を示す図である。

【図6】本発明の有機合成方法1の反応生成物の結果を示す図である。

【図7】本発明の有機合成方法1の炭化水素生成速度とカソード分極電位との関係を示す図である。

【図8】本発明の有機合成方法2の装置の概略構成を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

11,21 電解液   12,22 電解室   13,23 隔膜   14,24 アノード   15,25 カソード   16 ガス拡散層   17 集電極   18 ガス導入部材   18a 入口   18b 出口   26 ガス導入管

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