特許 5854577 炭化水素の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5854577

(24)【登録日】2015年12月18日

(45)【発行日】2016年2月9日

(54)【発明の名称】炭化水素の製造方法

(51)【国際特許分類】

   C07C 1/24 20060101AFI20160120BHJP

   C07B 61/00 20060101ALI20160120BHJP

   C07C 7/04 20060101ALI20160120BHJP

   C07C 9/15 20060101ALI20160120BHJP

   C07C 9/22 20060101ALI20160120BHJP

   A61K 8/31 20060101ALN20160120BHJP

   A61Q 5/06 20060101ALN20160120BHJP

   A61Q 17/04 20060101ALN20160120BHJP

   A61Q 19/00 20060101ALN20160120BHJP

   A61Q 19/10 20060101ALN20160120BHJP

【ＦＩ】

   C07C1/24

   C07B61/00 300

   C07C7/04

   C07C9/15

   C07C9/22

   !A61K8/31

   !A61Q5/06

   !A61Q17/04

   !A61Q19/00

   !A61Q19/10

【請求項の数】8

【全頁数】32

(21)【出願番号】特願2008-544813(P2008-544813)

(86)(22)【出願日】2006年12月5日

(65)【公表番号】特表2009-519264(P2009-519264A)

(43)【公表日】2009年5月14日

(86)【国際出願番号】EP2006011647

(87)【国際公開番号】WO2007068371

(87)【国際公開日】20070621

【審査請求日】2009年12月3日

【審判番号】不服2014-5943(P2014-5943/J1)

【審判請求日】2014年4月2日

(31)【優先権主張番号】05027253.3

(32)【優先日】2005年12月14日

(33)【優先権主張国】EP

(73)【特許権者】

【識別番号】505066718

【氏名又は名称】コグニス・アイピー・マネージメント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

【氏名又は名称原語表記】Ｃｏｇｎｉｓ ＩＰ Ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ ＧｍｂＨ

(74)【代理人】

【識別番号】100081422

【弁理士】

【氏名又は名称】田中 光雄

(74)【代理人】

【識別番号】100101454

【弁理士】

【氏名又は名称】山田 卓二

(74)【代理人】

【識別番号】100104592

【弁理士】

【氏名又は名称】森住 憲一

(74)【代理人】

【識別番号】100083356

【弁理士】

【氏名又は名称】柴田 康夫

(72)【発明者】

【氏名】ユルゲン・ファルコヴスキ

(72)【発明者】

【氏名】マルクス・ディーアカー

(72)【発明者】

【氏名】ミヒャエル・ノイス

(72)【発明者】

【氏名】カール・ハインツ・シュミット

(72)【発明者】

【氏名】シュテファン・ヴュルケルト

(72)【発明者】

【氏名】ラルス・ツァンダー

【合議体】

【審判長】 佐藤 健史

【審判官】 冨永 保

【審判官】 瀬良 聡機

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００３−２８６１３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 英国特許出願公告第５４３３２７（ＧＢ，Ａ）

【文献】 ＥＬＭＥＲ Ｊ ＢＡＤＩＮ，ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＴＨＥ ＡＭＥＲＩＣＡＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ，１９４３年１０月，Ｖ６５，Ｎ１０，ｐｐ．１８０９−１８１３

【文献】 ＨＥＲＭＡＮ ＰＩＮＥＳ ｅｔ ａｌ．，ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＴＨＥ ＡＭＥＲＩＣＡＮＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ，１９５５年，ｐｐ．５０９９−５１０２

【文献】 ＨＥＲＭＡＮ ＰＩＮＥＳ ｅｔ ａｌ．，ＪＯＵＲＮＡＬ ＯＦ ＴＨＥ ＡＭＥＲＩＣＡＮＮ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＳＯＣＩＥＴＹ，１９５４年，ｐｐ．７７１−７７２

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

C07C1/24,7/04,9/00

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

水素および触媒の存在下、１００〜３００℃の温度および０．２〜３０MPa（２〜３００ｂａｒ）の圧力での第一級アルコールの還元脱ヒドロキシメチル化により、反応中に形成される水を除去しながら、アルカンより１個多い炭素原子を炭素鎖に有する第一級アルコールから直鎖飽和アルカンを製造する方法であって、８〜２４個の炭素原子を含有する脂肪アルコールを第一級アルコールとして使用し、触媒を、使用される脂肪アルコールの量に基づいて、０．１〜３重量％の量で使用することを特徴とする方法。

【請求項2】

反応を、１８０〜３００℃の温度で行うことを特徴とする、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

反応を、０．２〜２５MPa（２〜２５０ｂａｒ）の圧力下で行うことを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。

【請求項4】

ニッケル含有触媒を触媒として使用することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。

【請求項5】

使用される第一級アルコールが、一般式：
Ｒ−ＯＨ
［式中、Ｒは、８〜１８個の炭素原子を含有する飽和直鎖アルキル基である。］
に相当することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。

【請求項6】

第一級アルコールが偶数個の炭素原子を含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。

【請求項7】

第一級アルコールの混合物を使用することを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。

【請求項8】

反応後、得られた生成物を精製することを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、脂肪アルコールからの炭化水素の製造方法、および該炭化水素の好ましくは化粧品への使用に関する。

【背景技術】

【0002】

ライトエモリエントとしても知られている易揮発性油成分は、化粧品業界では多くの組成物に使用されている。多数の易揮発性成分が、特に、装飾用化粧品およびケア組成物に使用されている。これらの成分は例えば、揮発性環状シリコーン（例えばシクロペンタシロキサンまたはシクロメチコン）或いは石油化学プロセス由来の炭化水素であり得る。該炭化水素は、その製造方法に起因して、主に、（例えばイソドデカンの場合のように）引火点が５０℃を下回り得る直鎖および分枝炭化水素の混合物である。このような組成物の例および応用に関する記述は、例えば、"Handbook of Cosmetic Science and Technology", A Barel, M. Paye, H. Maibach, Marcel Dekker Inc. 2001のような一般的な著作物に見られる。しかしながら、毒物学的理由および安全性の理由から、このような組成物のための代替原料に対する要求が将来的には存在するであろう。

【発明の開示】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

本発明が解決しようとする課題は、一方で、生態学的および毒物学的に安全であり、他方で、性能に関する制限なしに典型的な化粧用組成物において直接置き換えることができる、代替原料を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0004】

例えば脂肪アルコールのようなヒドロキシル化合物が、特別に実施された反応によって、炭素原子１個分短い炭素鎖を有する純粋な炭化水素に、高い選択率で転化され得ることが見出された。

【0005】

従って、本発明はまず、水素および触媒の存在下、１００〜３００℃の温度および０．２〜３０MPa（２〜３００ｂａｒ）の圧力での第一級アルコールの脱ヒドロキシメチル化により、反応中に水を除去しながら、アルカンより１個多い炭素原子を炭素鎖に有する第一級アルコールから直鎖飽和アルカンを製造する方法であって、８〜２４個の炭素原子を有する脂肪アルコールを第一級アルコールとして使用し、触媒を、使用される脂肪アルコールの量に基づいて、０．１〜３重量％の量で使用することを特徴とする方法に関する。

【発明を実施するための最良の形態】

【0006】

含まれる反応は、脱ヒドロキシメチル化および還元脱ヒドロキシメチル化として知られている。該反応は、有機第一級アルコールに対するものであり、それ自体既知である。Journal of Catalysis 17, 375-383 (1970)の"Hydrogenolysis of Alcohols"と題するHermann PinesおよびT.P. Kobylinskiによる論文から、とりわけネオペンチルアルコールがイソブタンに転化され得ることが知られている。水素雰囲気中、ニッケル触媒の存在下におけるブタノールのプロパンへの反応も記載されている。しかしながら、このような反応に長鎖脂肪アルコールを使用することは記載されていない。加えて、上記論文に記載されている反応は、工業規模で実施されておらず、「ミクロ」規模でしか実施されていない。有機第一級アルコールの還元脱メチル化も、Zeitschrift fuer Naturforschung, Part B, 1982, 37B(3)の"Direction Reduction of Alcohols to Hydrocarbons"と題するW.F. Maier, I. ThisおよびP. Schleyerによる論文に記載されているが、適当な出発物質として、長鎖脂肪アルコールは開示または提案されていない。UK 1,051,826は、水素雰囲気下におけるニッケル触媒を用いたジオールの還元脱メチル化を記載している。脂肪アルコールの触媒的脱水素化は、Journal of the American Chemical Society, 第65巻、第10号、1943, 第1809〜1813頁の"Catalytic Dehydrogenation I. Catalytic Conversion of Alcohols into Aldehydes, Paraffins and Olefins"と題する論文にElmer J. Badinによって記載されている。対象となる方法は、常圧で実施されており、低収率でしかパラフィンを得ることができない。

【0007】

特定鎖長を有する高純度炭化水素は、本発明に従って得られた反応混合物から、好ましくは粗生成物の精製後、例えば分留および再び好ましくは脱臭後、製造され得る。このように得られた特定鎖長を有する炭化水素は、いわゆるライトエモリエントとしての化粧用組成物に個々の成分として使用されるか、或いは特定の方法で混合されて、例えば拡散挙動、揮発性または引火点のような特殊な特性を持たせることができる。

【0008】

ヒドロキシル含有成分は、メタノールによるエステル交換および続く水素化によって、例えばココナツ油、パーム油またはパーム核油のような再生可能な原料から既知の方法で製造され得る、上記鎖長を有する脂肪アルコールであってよい。純粋な脂肪アルコールに加えて、工業規模で製造された、他の直鎖または分枝、一価または多価アルコール、アルコール混合物または誘導体化アルコールも基本的に使用することができ、好ましい。本発明の方法によれば、他の方法では製造することが困難な炭素原子数が奇数個であるアルカンを、容易に得ることができるので、炭素原子数が偶数個である鎖を有する脂肪アルコールの使用が特に好ましい。好ましい態様では、使用される第一級アルコールは、一般式：
Ｒ−ＯＨ
［式中、Ｒは、８〜１８個の炭素原子、好ましくは１０〜１６個の炭素原子、特に１２〜１６個の炭素原子を有する飽和直鎖アルキル基である。］
に相当する。

【0009】

アルコールから炭化水素への反応は、水素の存在下で実施しなければならず、水の除去を伴わなければならない。

【0010】

特に適当な触媒は、白金、ルビジウムまたはニッケル含有触媒である。しかしながら、ニッケル触媒が好ましく使用され、例えばEngelhardまたはKata Leunaから入手可能な触媒のような市販ニッケル含有水素化触媒が特に好ましい。触媒は、半回分法には懸濁触媒として、連続法には固定床触媒として使用され得る。触媒は、反応混合物中の第一級脂肪アルコールの量に基づいて好ましくは０．１〜３重量％の量で存在する。好ましい態様では、触媒は、０．２〜２重量％の量で、より好ましくは０．５〜１．０重量％の量で使用され得る。懸濁法においては、使用される脂肪アルコールの量に基づいて０．１〜２重量％の触媒濃度が適していることがわかっている。好ましい範囲は、０．５〜１．０重量％ニッケルである。

【0011】

本発明の方法に必要な反応温度は、１８０〜３００℃の範囲、好ましくは２００〜２８０℃の範囲、特に２２０〜２６０℃の範囲である。

【0012】

本発明の方法に適した反応圧力は、０．２〜３０MPa（２〜３００ｂａｒ）の範囲、好ましくは０．２〜２５MPa（２〜２５０ｂａｒ）の範囲、特に０．５〜１０MPa（５〜１００ｂａｒ）の範囲である。０．５〜８MPa（５〜８０ｂａｒ）の範囲が特に好ましく、１〜５MPa（１０〜５０ｂａｒ）の範囲が最も好ましい。

【0013】

反応中に形成された反応水は除去されなければならない。従って、懸濁触媒と共に初期導入されたアルコールに水素を添加し、同時に反応器から形成された反応水または反応ガスを除去することが有利であることがわかっている。連続法では、例えば多段階法によって、水の除去を行うことができる。次いで形成された反応混合物を濾過し、触媒を除去しなければならない。続いて分留を実施し、残留アルコールおよびごく少量の二量体反応生成物を除去する。得られた塔底生成物を次の反応に再循環できる。その後、臭い改善のために脱臭工程を追加してもよい。

【0014】

本発明はまた、上記方法によって製造された炭化水素の化粧品への使用に関する。

【0015】

特に、炭素原子数が奇数個である炭化水素を、本発明の方法によって容易に得ることができる。従って、本発明はとりわけ、７〜２３個の奇数個の炭素原子を有する直鎖飽和アルカンの化粧品への使用に関する。このようなアルカンの例は、ｎ−ノナン、ｎ−ウンデカン、ｎ−トリデカンおよびｎ−ヘプタデカンを包含する。

【0016】

本発明は、本発明の方法によって製造された個々の炭化水素および各種炭化水素の混合物の使用を包含する。

【0017】

本発明に従って製造された炭化水素は、例えば、ヘアシャンプー、ヘアローション、フォームバス、シャワーバス、クリーム、ジェル、ローション、アルコール性および水性／アルコール性溶液、エマルション、ワックス／脂肪組成物、スティック製剤、パウダーおよび軟膏のような化粧品の製造に使用され得る。これらの製剤は、更なる助剤および添加剤として、穏やかな界面活性剤、油成分、乳化剤、真珠光沢ワックス、粘稠要素、増粘剤、過脂肪剤、安定剤、ポリマー、シリコーン化合物、脂肪、ワックス、レシチン、リン脂質、生物起源剤、紫外線保護因子、酸化防止剤、消臭剤、制汗剤、フケ防止剤、フィルム形成剤、膨潤剤、防虫剤、日焼け剤、チロシナーゼ阻害剤（色素脱失剤）、ヒドロトロープ、可溶化剤、防腐剤、香油、色素などを含み得る。本発明の炭化水素は、好ましくは油成分として使用される。

【0018】

本発明によって、特定鎖長を有する炭化水素を、いわゆるライトエモリエントとしての化粧用組成物に個々の成分として使用するか、或いは特定の方法でそれらを混合して、例えば拡散挙動、揮発性または引火点のような特殊な特性を持たせることが特に可能である。とりわけ、構成ブロック原理（組み合わせ原理）に従った炭化水素の混合の可能性は、分枝および非分枝炭化水素の複合混合物としてしかほとんど存在しない石油化学由来の炭化水素に優る大きな利点を与える。これらの場合、蒸留による更なる後処理は、相当な努力をもってしか実施されないか、或いは生成物中に残留する望ましくない異性体残渣の問題を伴う。加えて、化粧品用途に特に重要である所定の炭化水素または所定の炭化水素混合物の毒物学的評価は、非常に簡単かつ安全である。

【実施例】

【0019】

１）１−テトラデカノールからのトリデカンの製造
１０００ｇの１−テトラデカノール（４．７ｍｏｌ；Cognis社製Lorol C 14）を、１０ｇのニッケル触媒（Engelhard社製Ni-5249 P；ニッケル含有量＝６３重量％）と共に、撹拌可能な圧力容器に導入し、２４０℃まで加熱した。次いで、ガス分散管を通して２MPa（２０ｂａｒ）の圧力下、１２時間にわたって水素を添加し、同時に反応器の蓋についているバルブを通して反応ガスを除去した。続いて、生成物を冷却し、取り出し、濾過した。８４５ｇの反応生成物収量が得られた。
ＧＣ分析は以下の組成を示した：８９．０％のトリデカン、２．１％のテトラデカン、４．１％の１−テトラデカノール、４．２％の二量体反応生成物。
その後、反応生成物を蒸留によって分留して純粋なトリデカンを得、窒素で脱臭した。無色高純度液体の実質的に無臭である生成物が得られた。

【0020】

２）１−ドデカノールからのウンデカンの製造
１０００ｇの１−ドデカノール（５．４ｍｏｌ；Cognis社製Lorol C 12）を、１０ｇのニッケル触媒（Engelhard社製Ni-5249 P；ニッケル含有量＝６３重量％）と共に、撹拌可能な圧力容器に導入し、２４０℃まで加熱した。次いで、ガス分散管を通して２MPa（２０ｂａｒ）の圧力下、８時間にわたって水素を添加し、同時に反応器の蓋についているバルブを通して反応ガスを除去した。続いて、生成物を冷却し、取り出し、濾過した。８３５ｇの反応生成物収量が得られた。
ＧＣ分析は以下の組成を示した：６８．４％のウンデカン、０．６％のドデカン、２１．７％の１−ドデカノール、７．２％の二量体反応生成物。
その後、反応生成物を蒸留して純粋なウンデカンを得、次いで窒素で脱臭した。無色高純度液体の実質的に無臭である生成物が得られた。

【0021】

３）ウンデカンおよびトリデカンを含む化粧品
以下の実施例は、（実施例２に従って得た）ウンデカンまたは（実施例１に従って得た）トリデカンのいずれかを含む。

【0022】

実施例３．１：万能クリーム

【表1】

【0023】

製造方法：
相Ｉの成分を８０〜８５℃で溶融し、均一になるまで撹拌した。相ＩＩの成分を８０〜８５℃まで加熱し、相Ｉに撹拌しながらゆっくりと添加し、その温度で更に５分間撹拌した。次いでエマルションを撹拌しながら冷却し、６５〜５５℃で均質化した。エマルションが均一になったとき、撹拌しながら３０℃まで更に冷却した。続いて相ＩＩＩの成分を添加し、更に撹拌した。

【0024】

実施例３．２：唇を潤し保護するための芳香性軟膏

【表2】

【0025】

製造方法：
相Ｉを８５℃で溶融し、相ＩＩを添加し、温度を８０℃で維持した。（Dimethicone 50 ctsで湿らせ、４０℃に予熱した）型に注入する前に、相ＩＩＩをゆっくりと添加した。溶融体を型に注入し、４０℃まで冷却した。型を冷蔵庫で約０℃まで冷却した。

【0026】

実施例３．３：スタイリングワックス

【表3】

【0027】

全成分を８０℃まで加熱して均質化することによって、スタイリングワックスを製造した。

【0028】

実施例３．４：潤いを与えるボディミルク

【表4】

【0029】

相Ｉおよび水を室温で撹拌しながら混合することによって、潤いを与えるボディミルクを製造した。次いで相ＩＩＩを添加し、均一になるまで撹拌を継続し、膨潤混合物を得た。続いて相ＩＶを添加し、その後相Ｖを添加した。そしてｐＨを調整した。

【0030】

実施例３．５：Ｏ／Ｗ軟質クリーム

【表5】

【0031】

相Ｉを８０℃に加熱することによってクリームを製造した。相ＩＩも８０℃まで加熱し、撹拌しながら相Ｉに添加した。得られた混合物を撹拌しながら冷却し、適当な分散装置（例えばUltra Turrax）を用いて約５５℃で均質化した。次いで相ＩＩＩを連続的に撹拌しながら添加し、相ＩＶを添加し、ｐＨを調整した。

【0032】

実施例３．６：Ｏ／Ｗクリーム

【表6】

【0033】

最初の８つの成分を８５℃で溶融した。硫酸マグネシウムおよびグリセリンを水に溶解し、得られた混合物を８５℃に加熱した。この水相を油相に添加し、混合相を分散させた。分散体を連続的に撹拌しながら４０℃まで冷却し、その後、ベンジルアルコール、Hydagen BおよびIrgasan DP300を混合してエマルションに添加した。全体を連続的に撹拌しながら３０℃まで冷却し、均質化した。

【0034】

実施例３．７：ボディウォッシュクレンジングエマルション

【表7】

【0035】

以下の実施例は全て、（実施例２に従って得た）ウンデカンまたは（実施例１に従って得た）トリデカンのいずれかを含む。全ての量は重量％である。

【表8-1】

【0036】

【表8-2】

【0037】

【表9-1】

【0038】

【表9-2】

【0039】

【表10-1】

【0040】

【表10-2】

【0041】

【表11-1】

【0042】

【表11-2】

【0043】

【表12-1】

【0044】

【表12-2】

【0045】

【表13-1】

【0046】

【表13-2】

【0047】

【表14-1】

【0048】

【表14-2】

【0049】

【表15-1】

【0050】

【表15-2】

【0051】

【表16-1】

【0052】

【表16-2】

【0053】

付表
１）Abil（登録商標）EM 90
INCI：セチルジメチコンコポリオール
製造業者：Tego Cosmetics（Goldschmidt）
２）Amphisol（登録商標）K
INCI：カリウムセチルホスフェート
製造業者：Hoffmann La Roche
３）Antaron（登録商標）V 220
INCI：ＰＶＰ／エイコセンコポリマー
製造業者：GAF General Aniline Firm Corp.（IPS-Global）
４）Antaron（登録商標）V 216
INCI：ＰＶＰ／ヘキサデセンコポリマー
製造業者：GAF General Aniline Firm Corp.（IPS-Global）
５）Arlacel（登録商標）83
INCI：ソルビタンセスキオレエート
製造業者：Uniqema（ICI Surfacants）
６）Arlacel（登録商標）P 135
INCI：ＰＥＧ−３０ ジポリヒドロキシステアレート
製造業者：Uniqema（ICI Surfacants）
７）Bentone（登録商標）38
INCI：クオタニウム−１８ ヘクトライト
製造業者：Rheox（Elementis Specialties）
８）Carbopol（登録商標）980
INCI：カルボマー
製造業者：Goodrich
９）Carbopol（登録商標）2984
INCI：カルボマー
製造業者：Goodrich
１０）Carbopol（登録商標）ETD 2001
INCI：カルボマー
製造業者：BF Goodrich

【0054】

１１）Carbopol（登録商標）Ultrez 10
INCI：カルボマー
製造業者：Goodrich
１２）Cegesoft（登録商標）C 17
INCI：ミリスチルラクテート
製造業者：グリューナウ在Cognis Deutschland GmbH
１３）Ceraphyl（登録商標）45
INCI：ジエチルヘキシルマレート
製造業者：International Specialty Products
１４）Cetiol（登録商標）868
INCI：エチルヘキシルステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
１５）Cetiol（登録商標）A
INCI：ヘキシルラウレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
１６）Cetiol（登録商標）B
INCI：ブチルアジペート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH（Henkel）
１７）Cetiol（登録商標）J 600
INCI：オレイルエルケート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
１８）Cetiol（登録商標）OE
INCI：ジカプリリルエーテル
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
１９）Cetiol（登録商標）PGL
INCI：ヘキシルデカノール、ヘキシルデシルラウレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２０）Cetiol（登録商標）CC
INCI：ジカプリリルカーボネート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH

【0055】

２１）Cetiol（登録商標）SB 45
INCI：シアバターブチロスパーマムパーキー（Ｌｉｎｎｅ）
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２２）Cetiol（登録商標）SN
INCI：セテアリルイソノナノエート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH（Henkel）
２３）Cutina（登録商標）E 24
INCI：ＰＥＧ−２０ グリセリルステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２４）Cutina（登録商標）MD
INCI：グリセリルステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２５）Dehymuls（登録商標）FCE
INCI：ジココイルペンタエリスリチルジステアリルシトレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２６）Dehymuls（登録商標）HRE 7
INCI：ＰＥＧ−７ 水素化ひまし油
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２７）Dehymuls（登録商標）PGPH
INCI：ポリグリセリル−２ ジポリヒドロキシステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
２８）Dow Corning（登録商標）244 Fluid
INCI：シクロメチコン
製造業者：Dow Corning
２９）Dow Corning（登録商標）245 Fluid
INCI：シクロペンタシロキサンシクロメチコン
製造業者：Dow Corning
３０）Dow Corning（登録商標）2502
INCI：セチルジメチコン
製造業者：Dow Corning

【0056】

３１）Dry（登録商標）Flo Plus
INCI：アルミニウムデンプンオクテニルスクシネート
製造業者：National Starch
３２）Elfacos（登録商標）ST 37
INCI：ＰＥＧ−２２ ドデシルグリコールコポリマー
製造業者：Akzo-Nobel
３３）Elfacos（登録商標）ST 9
INCI：ＰＥＧ−４５ ドデシルグリコールコポリマー
製造業者：Akzo-Nobel
３４）Emery（登録商標）1780
INCI：ラノリンアルコール
製造業者：Cognis Corporation（Emery）
３５）Emulgade（登録商標）PL 68/50
INCI：セテアリルグルコシド、セテアリルアルコール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
３６）Emulgade（登録商標）SE-PF
INCI：グリセリルステアレート、セテアレス−２０、セテアレス−１２、セテアリルアルコール、セチルパルミテート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
３７）Eumulgin（登録商標）B 2
INCI：セテアレス−２０
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
３８）Eumulgin（登録商標）VL 75
INCI：ラウリルグルコシド（および）ポリグリセリル−２ ジポリヒドロキシステアレート（および）グリセリン
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
３９）Eusolex（登録商標）OCR
INCI：オクトクリレン
製造業者：Merck
４０）Eusolex（登録商標）T 2000
INCI：二酸化チタン、アルミナ、シメチコン
製造業者：Rona（Merck）

【0057】

４１）Eutanol（登録商標）G
INCI：オクチルドデカノール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
４２）Eutanol（登録商標）G 16
INCI：ヘキシルデカノール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
４３）Eutanol（登録商標）G 16 S
INCI：ヘキシルデシルステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
４４）Finsolv（登録商標）TN
INCI：Ｃ１２／１５アルキルベンゾエート
製造業者：Findex（Nordmann/Rassmann）
４５）Generol（登録商標）R
INCI：ブラシカカンペストリス（菜種）ステロール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
４６）Glucate（登録商標）DO
INCI：メチルグルコースジオレエート
製造業者：NRC Nordmann/Rassmann
４７）Hostaphat（登録商標）KL 340 N
INCI：トリラウレス−４ ホスフェート
製造業者：Clariant
４８）Isolan（登録商標）PDI
INCI：ジイソステアロイルポリグリセリル−３ ジイソステアレート
製造業者：Goldschmidt AG
４９）Keltrol（登録商標）T
INCI：キサンタンガム
製造業者：CP Kelco
５０）Lameform（登録商標）TGI
INCI：ポリグリセリル−３ ジイソステアレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５０）Lanette（登録商標）14
INCI：ミリスチルアルコール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH

【0058】

５１）Lanette（登録商標）E
INCI：ナトリウムセテアリルスルフェート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５２）Lanette（登録商標）O
INCI：セテアリルアルコール
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５３）Monomuls（登録商標）90-0-18
INCI：グリセリルオレエート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５４）Myrj（登録商標）51
INCI：ＰＥＧ−３０ ステアレート
製造業者： Uniqema
５５）Myritol（登録商標）331
INCI：ココグリセリド
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５６）Myritol（登録商標）PC
INCI：プロピレングリコールジカプリレート／ジカプレート
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
５７）Neo Heliopan（登録商標）303
INCI：オクトクリレン
製造業者：Haarmann & Reimer
５８）Neo Heliopan（登録商標）AP
INCI：二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート
製造業者：Haarmann & Reimer
５９）Neo Heliopan（登録商標）AV
INCI：エチルヘキシルメトキシシンナメート
製造業者：Haarmann & Reimer
６０）Neo Heliopan（登録商標）BB
INCI：ベンゾフェノン−３
製造業者：Haarmann & Reimer

【0059】

６１）Neo Heliopan（登録商標）E 1000
INCI：イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート
製造業者：Haarmann & Reimer
６２）Neo Heliopan（登録商標）Hydro（Na塩）
INCI：フェニルベンズイミダゾールスルホン酸
製造業者：Haarmann & Reimer
６３）Neo Heliopan（登録商標）MBC
INCI：４−メチルベンジリデンカンファー
製造業者：Haarmann & Reimer
６４）Neo Heliopan（登録商標）OS
INCI：エチルヘキシルサリチレート
製造業者：Haarmann & Reimer
６５）Novata（登録商標）AB
INCI：ココグリセリド
製造業者：Cognis Deutschland GmbH
６６）Parsol（登録商標）1789
INCI：ブチルメトキシジベンゾイルメタン
製造業者：Hoffmann-La Roche（Givaudan）
６７）Pemulen（登録商標）TR-2
INCI：アクリレート／Ｃ１０−３０アルキルアクリレートクロスポリマー
製造業者：Goodrich
６８）Photonyl（登録商標）LS
INCI：アルギニン、二ナトリウムアデノシントリホスフェート、マンニトール、ピリドキシンＨＣＬ、フェニルアラニン、チロシン
製造業者：Laboratoires Serobiologiques（Cognis）
６９）Prisorine（登録商標）ISAC 3505
INCI：イソステアリン酸
製造業者：Uniqema
７０）Prisorine（登録商標）3758
INCI：水素化ポリイソブテン
製造業者：Uniqema

【0060】

７１）Ravecarb（登録商標）106
INCI：ポリカーボネートジオール
製造業者：Enichem
７３）SFE（登録商標）839
INCI：シクロペンタシロキサンおよびジメチコン／ビニルジメチコンクロスポリマー
製造業者：GE Silicones
７４）Silikonoel Wacker AK（登録商標）350
INCI：ジメチコン
製造業者：Wacker
７５）Squatol（登録商標）S
INCI：水素化ポリイソブテン
製造業者：LCW（7-9 rue de l'Industrie 95310 St-Ouen l'Aumone France）
７６）Tego（登録商標）Care 450
INCI：ポリグリセリル−３ メチルグルコースジステアレート
製造業者：Tego Cosmetics（Goldschmidt）
７７）Tego（登録商標）Care CG 90
INCI：セテアリルグルコシド
製造業者：Goldschmidt
７８）Tween（登録商標）60
INCI：ポリソルベート６０
製造業者：Uniqema（ICI Surfactants）
７９）Uvinul（登録商標）T 150
INCI：オクチルトリアゾン
製造業者：BASF
８０）Veegum（登録商標）Ultra
INCI：アルミニウムマグネシウムシリケート
製造業者：Vanderbilt
８１）Z-Cote（登録商標）HP 1
INCI：酸化亜鉛、ジメチコン
製造業者：BASF