特許5871875プラズマ処理方法

発明の名称　プラズマ処理方法

出願人　中微半▲導▼体▲設▼▲備▼（上海）有限公司　（識別番号 512302452）

　　　　特許公開件数ランキング 29927 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 24180 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5871875

公報発行日　2016年3月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5871875

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