特許 5875135 ＲＩ製造装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5875135

(24)【登録日】2016年1月29日

(45)【発行日】2016年3月2日

(54)【発明の名称】ＲＩ製造装置

(51)【国際特許分類】

   G21G 1/10 20060101AFI20160218BHJP

【ＦＩ】

   G21G1/10

【請求項の数】3

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2011-45283(P2011-45283)

(22)【出願日】2011年3月2日

(65)【公開番号】特開2012-181145(P2012-181145A)

(43)【公開日】2012年9月20日

【審査請求日】2013年4月12日

【審判番号】不服2014-17373(P2014-17373/J1)

【審判請求日】2014年9月2日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002107

【氏名又は名称】住友重機械工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100117499

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 誠

(72)【発明者】

【氏名】田中 秀樹

【合議体】

【審判長】 森林 克郎

【審判官】 川端 修

【審判官】 今浦 陽恵

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００５−１２７９０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−９５５５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２２３９４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１０／１２９１５７（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ２１Ｇ １／００−５／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

荷電粒子を加速させる加速器と、
前記加速器で加速された前記荷電粒子が照射されて放射性同位元素を製造するターゲットと、
前記加速器及び前記ターゲットを取り囲んで放射線を遮蔽する壁体である自己シールドと、
前記自己シールドによって囲まれるように形成された内部空間において前記自己シールドと前記加速器との間に配置され、前記ターゲットを取り囲んで放射線を遮蔽する壁体であるターゲットシールドと、を備え、
前記自己シールドは複数のパーツからなり、前記複数のパーツのうちの少なくとも一つは移動可能な構成とされ、
前記ターゲットシールドは、
開閉可能な扉を有し、
前記扉を閉じた状態において、前記扉と当該扉に隣接する他の部材とのつなぎ目である面が、前記自己シールドの前記複数のパーツ同士のつなぎ目である面とずれた位置に形成され、同一平面上に配置されないように構成されている
ことを特徴とするＲＩ製造装置。

【請求項2】

前記ターゲットシールドは、
ガンマ線を遮蔽するガンマ線遮蔽板と、
当該ガンマ線遮蔽板の前記ターゲット側に配置され、中性子線を遮蔽する中性子線遮蔽板と、を備えることを特徴とする請求項１に記載のＲＩ製造装置。

【請求項3】

前記ターゲット内の放射性同位元素を導出する導出管を通過させる切欠き部が、前記ターゲットシールドの下面側に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載のＲＩ製造装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ＲＩ（放射性同位元素）製造装置に関する。

【背景技術】

【0002】

例えばポジトロン断層撮影（ＰＥＴ；Ｐｏｓｉｔｒｏｎ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ）に用いる、放射性元素で標識された検査用薬剤の製造や、放射線治療においては、サイクロトロン等の粒子加速器が使用される。粒子加速器の稼動時には、中性子線やガンマ線などの放射線が発生するため、放射線を遮蔽する必要がある。

【0003】

放射線の遮蔽は、従来より、粒子加速器が設置される建屋自体を放射線遮蔽壁体により被覆することで行ってきたが、近年、建屋の重量及びコストの低減を図る観点から、粒子加速器自体を放射線遮蔽壁体により取り囲んで遮蔽する、いわゆる自己シールド型の粒子加速器システムが開発されてきている（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

特許文献１に記載の加速器システムでは、加速器自体を取り囲む自己シールド（放射線遮蔽壁体）が、固定側の放射線遮蔽壁体と可動側の放射線遮蔽壁体とに分割されて形成され、可動側の放射線遮蔽壁体を移動させて内部を開放できるように構成されている。例えば、加速器であるサイクロトロンをメンテナンスするときは、可動側のブロックを移動させて内部を開放することで、容易に内部にアクセスできるようになっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００５−１２７９０１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ＲＩを製造するＲＩ製造装置のターゲットは、直接、荷電粒子ビームに曝されるため、日々の運転により放射化が進行する。放射化が進行すると、運転停止後（荷電粒子ビームの照射停止後）であってもターゲットから放射線が放射されるため、自己シールド内部に設けられたターゲット以外の機器のメンテナンスの際には放射線の減衰を待ってから自己シールドを開放する必要があった。そのため、運転停止時間が長くなるという問題があった。

【0007】

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、自己シールド内に配置された機器のメンテナンスの際に、放射化されたターゲットからの被爆のおそれを低減することができ、放射線の減衰のための待機時間を短縮することが可能なＲＩ製造装置の提供を目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明のＲＩ製造装置は、荷電粒子を加速させる加速器と、加速器で加速された荷電粒子が照射されて放射性同位元素を製造するターゲットと、加速器及びターゲットを取り囲んで放射線を遮する壁体である自己シールドと、自己シールドによって囲まれるように形成された内部空間において自己シールドと加速器との間に配置され、ターゲットを取り囲んで放射線を遮蔽する壁体であるターゲットシールドと、を備え、自己シールドは複数のパーツからなり、複数のパーツのうちの少なくとも一つは移動可能な構成とされ、ターゲットシールドは、開閉可能な扉を有し、扉を閉じた状態において、扉と当該扉に隣接する他の部材とのつなぎ目である面が、自己シールドの複数のパーツ同士のつなぎ目である面とずれた位置に形成され、同一平面上に配置されないように構成されていることを特徴としている。

【0009】

このように構成されたＲＩ製造装置によれば、自己シールドより内側に、ターゲットを取り囲んで放射線を遮蔽する壁体であるターゲットシールドを備える構成であるため、放射化されたターゲットから放射される放射線を遮蔽することができる。そのため、自己シールドを開放しても、ターゲットからの放射線はターゲットシールドによって遮蔽されるため、自己シールドより内側に配置されたターゲット以外の機器をメンテナンスする際には、放射線の減衰を待たずに作業を行うことが可能であり、作業者の被爆のおそれを低減することができる。また、自己シールドより内側にターゲットシールドを備える構成であるため、ターゲットシールドよりも外側に配置された自己シールドは、従来よりも少ない遮蔽材料で従来と同じ遮蔽効果を生むことになる。
また、このＲＩ製造装置においては、自己シールドは複数のパーツからなり、複数のパーツのうちの少なくとも一つは移動可能な構成とされ、ターゲットシールドは、開閉可能な扉を有し、扉を閉じた状態において、扉と当該扉に隣接する他の部材とのつなぎ目である面が、自己シールドの複数のパーツ同士のつなぎ目である面とずれた位置に形成され、同一平面上に配置されないように構成されている。このように、ターゲットシールドに扉が設けられていると、内側に配置されたターゲットをメンテナンスする際には、扉を開放することで容易にアクセスすることが可能であるため、ターゲットの交換作業などのメンテナンス作業を容易とすることが可能となる。また、ターゲットシールドの扉のつなぎ目と、外側の自己シールドのつなぎ目とが、ずれた位置に配置されることで、上記の両方のつなぎ目が同一平面上に配置されることを回避して、つなぎ目からの放射線の透過のおそれを防止することができる。

【0010】

ここで、ターゲットシールドは、ガンマ線を遮蔽するガンマ線遮蔽板と、当該ガンマ線遮蔽板のターゲット側に配置され、中性子線を遮蔽する中性子線遮蔽板と、を備える構成であることが好適である。このようにターゲット側に中性子線遮蔽板を備え、その外側にガンマ線遮蔽板を備える構成であると、中性子線が中性子線遮蔽板に当たることで発生するガンマ線を外側のガンマ線遮蔽板によって遮蔽することができる。

【0012】

また、ターゲット内の放射性同位元素を導出する導出管を通過させる切欠き部が、ターゲットシールドの下面側に設けられていることが好ましい。ターゲット内に収容されている放射性同位元素は、導出管を通過してＲＩ製造装置の外部まで導出される。このとき、放射線を遮蔽する必要が少ないターゲットの下面側に、導出管を通過させる切欠き部が設けられていると、この切欠き部を通過した放射線は、床面に当たって反射することで減衰されること、さらに、反射することで距離が増加して距離による減衰が大きくなることにより、作業者の被爆のおそれを低減される。また、作業者がメンテナンスの際にターゲットシールドの直下に入り込む必要もなく、下方に直進する放射線による被曝を考慮する必要もないことから、ターゲットの底面側を覆う放射線遮蔽壁体がない場合でも特に問題にならない。

【発明の効果】

【0013】

このように本発明によれば、ターゲットを取り囲んで放射線を遮蔽するターゲットシールドを備えているため、自己シールドを開放した場合であっても放射化されたターゲットからの被爆のおそれを低減することができ、自己シールド内に配置されたターゲット以外の機器のメンテナンスの際に、放射線の減衰のための待機時間を短縮することができ、運転停止時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置のＸＹ面に沿った断面図である。

【図2】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置のＺＸ面に沿った断面図である。

【図3】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置のＸＹ面に沿った断面図であり、ターゲットシールドが開放された状態を示す図である。

【図4】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置の加速器を示す斜視図である。

【図5】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置のターゲットシールド（左側）を拡大して示す断面図である。

【図6】本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置のターゲットシールド（右側）を拡大して示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下、本発明によるＲＩ製造装置の好適な実施形態について、図１〜図６を参照しながら説明する。なお、図面の説明において、同一又は相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、図面の位置関係に基づくものとする。

【0016】

（ＲＩ製造装置）
図１は、本発明の実施形態に係るＲＩ製造装置の断面図である。本実施形態に係るＲＩ製造装置１は、放射性同位元素（ＲＩ）を製造するものである。ＲＩ製造装置１は、例えばＰＥＴ用サイクロトロンとして使用可能であり、ＲＩ製造装置１で製造されたＲＩは、例えば放射性同位元素標識化合物（ＲＩ化合物）である放射性薬剤（放射性医薬品を含む）の製造に用いられる。病院等のＰＥＴ検査（陽電子断層撮影検査）に使用される放射性同位元素標識化合物としては、^１８Ｆ−ＦＬＴ（フルオロチミジン）、^１８Ｆ−ＦＭＩＳＯ（フルオロソニダゾール）、^１１Ｃ−ラクロプライド等がある。

【0017】

ＲＩ製造装置１は、いわゆる自己シールド型の粒子加速器システムであり、荷電粒子を加速させる加速器（サイクロトロン）２と、この加速器２を取り囲んで放射線を遮蔽するための放射線シールド（壁体）である自己シールド６とを備えている。自己シールド６によって囲まれるように形成された内部空間Ｓには、加速器２の他に、ＲＩを製造するために用いられるターゲット３、加速器２の内部を真空にするための真空ポンプ４などが配置されている。さらに、内部空間には、加速器２の運転に必要な付属品、ターゲット３内のＲＩを装置外に導出するための導出チューブ（図示せず）、ターゲット３の冷却に用いられる付属機器などが配置されている。

【0018】

（加速器）
加速器２は、図４に示すように、いわゆる縦型のサイクロトロンであり、一対の磁極２２と、真空箱２３と、これらの一対の磁極２２及び真空箱２３を取り囲む環状のヨーク２４とを有している。一対の磁極２２は、一部が真空箱２３内で上面同士が所定間隔空けて対面している。これらの一対の磁極２２の隙間内で、水素イオン等の荷電粒子が多重加速される。真空ポンプ４は、加速器２内の真空環境を維持するために使用されるものであり、例えば加速器２の側部に固定されている。

【0019】

（ターゲット）
ターゲット３は、加速器２から照射された荷電粒子ビームを受けてＲＩを製造するためのものであり、内部に原料（例えばターゲット水）を収容する収容部が形成されている。ターゲット３は、一般的に、図１及び図２に示すように加速器２の側部に固定されている。ターゲット３は、荷電粒子ビームに最も曝される部位であり、運転中に放射化され運転停止後であっても放射線を放出するようになる。本実施形態のＲＩ製造装置１では、複数のターゲット３を備えている。ターゲット３は、加速器２を挟んで図示Ｘ方向の両側に配置されている。例えば、図示左側に配置されたターゲット３（３Ａ）は上段側に配置され、図示右側に配置されたターゲット３（３Ｂ）は下段側に配置されている（図２参照）。導出チューブは、ターゲット３の収容部に連通すると共に接続され製造されたＲＩをＲＩ製造装置１外へ導出する流体通路を形成している。

【0020】

（自己シールド）
自己シールド６は、図１〜図３に示すように、複数のパーツからなり、複数のパーツとしてリア壁体６２とフロント壁体６３とを備えている。リア壁体６２は、加速器２の背面側を覆うように配置されている。リア壁体６２は、例えば、加速器２の背面の全部、加速器２の側部の両側のうち背面側の半分、加速器２の天井側の面のうち背面側の半分を覆うように形成されている。

【0021】

フロント壁体６３は、加速器２の正面側を覆うように配置されている。フロント壁体６３は、例えば、加速器２の正面の全部、加速器２の側部の両側のうち正面側の半分、加速器２の天井側の面のうち正面側の半分を覆うように形成されている。リア壁体６２とフロント壁体６３とは、加速器２を挟んで互いに対向して配置され、加速器２及びターゲット３などを取り囲んで放射線を遮蔽する壁体である。

【0022】

リア壁体６２は、床面に固定された固定側の放射線遮蔽壁体として機能し、フロント壁体６３は、床面上を移動可能な可動側の放射線遮蔽壁体として機能する。可動側の放射線遮蔽壁体は、固定側の放射線遮蔽壁体に対して接近、離間するように移動可能な構成とされている。なお、リア壁体６２及びフロント壁体６３のうち少なくとも一方を移動可能な構成とすればよく、両方を移動可能な構成としてもよい。自己シールド６は、リア壁体６２及びフロント壁体６３とは異なる他の放射線遮蔽壁体を備える構成でもよい。フロント壁体６３の移動には、レールとローラーとによる移動機構などを用いることができる。

【0023】

自己シールド６を構成する放射線遮蔽壁体は、主にコンクリートによって構成されている。具体的には、金属製の枠体内に、コンクリートが充填されている。使用されるコンクリートとしては、放射線遮蔽能の観点から比重の大きいコンクリート、例えば、磁鉄鋼などの比重が大きい骨材を使用した高密度の遮蔽用コンクリートを使用することが好適である。また、コンクリートの内面側に、鉛、ポリエチレンなどの他の放射線遮蔽材料を備える構成としてもよい。

【0024】

（ターゲットシールド）
ここで、本実施形態に係るＲＩ製造装置１は、自己シールド６と加速器２との間に配置され、ターゲット３を取り囲んで放射線を遮蔽する壁体であるターゲットシールド７，８を備えている。ターゲットシールド７は、左側の側部に配置されたターゲット３Ａ（３）を覆うように形成されターゲット３Ａからの放射線を遮蔽する。ターゲットシールド８は右側の側部に配置されたターゲット３Ｂ（３）を覆うように形成され、ターゲット３Ｂからの放射線を遮蔽する。ターゲット３Ａ，３Ｂからの放射線としては、運転中において核反応により生じる中性子線、ガンマ線があり、運転停止後において放射化されたターゲット３Ａ，３Ｂ自体から発生するガンマ線がある。

【0025】

ターゲットシールド７は、ターゲット３Ａの正面側を覆う正面板７１、ターゲット３Ａの側面側を覆う側面板７２、ターゲット３Ａの背面側を覆う背面板７３、ターゲット３Ａの上面側を覆う天板７４、及びターゲット３Ａの底面側を覆う底板７５を備えている。正面板７１及び背面板７３は、ターゲット３Ａを挟んで図示Ｙ方向に対向して配置されている。また、正面板７１は、図１に示すように、外側の端部が内側の端部（加速器２側の端部）よりも後方に配置されるように傾斜している。側面板７２は、ターゲット３Ａを挟んで加速器２と対向して配置されている。天板７４及び底板７５は、ターゲット３Ａを挟んで図示Ｚ方向に対向して配置されている。

【0026】

ターゲットシールド８は、ターゲット３Ｂの正面側を覆う正面板８１、ターゲット３Ｂの側面側を覆う側面板８２、ターゲット３Ｂの背面側を覆う背面板８３、及びターゲット３Ｂの上面側を覆う天板８４を備えている。正面板８１及び背面板８３は、ターゲット３Ｂを挟んで図示Ｙ方向に対向して配置されている。また、正面板８１は、図１に示すように、外側の端部が内側の端部（加速器２側の端部）より後方に配置されるように傾斜している。側面板８２は、ターゲット３Ｂを挟んで、加速器２と対向して配置されている。天板８４及び底板８５は、ターゲット３Ｂを挟んで図示Ｚ方向に対向して配置されている。

【0027】

ターゲットシールド８では、底面側には、放射線遮蔽壁体が配置されていない。また、ターゲットシールド８では、図１に示すように、ターゲット３Ｂの背面に配置された真空ポンプ４の背面側に背面板８３が配置されている。ターゲットシールド８によって囲まれた空間に真空ポンプ４が配置されているが、背面板８３は、ターゲット３Ｂと真空ポンプ４との間に配置されていてもよい。また、ターゲットシールド８によって囲まれる空間内にターゲット３以外の部品を配置する場合には、上下方向Ｚにおいて、ターゲット３に対応する部分にのみ放射線遮蔽壁体を配置する構成でもよい。ターゲットシールド８の側面板８２は、前後方向Ｙにおいて複数（本実施形態では２つ）に分割されている構成でもよい。

【0028】

なお、ターゲットシールドの形状及び配置は、上記のもの限定されず、その他のターゲットシールドでもよい、要は、ターゲット３（３Ａ，３Ｂ）を取り囲むように配置され、ターゲット３から生じる放射線を遮蔽可能な構成であればよい。例えば、天板７１，８１及び／又は底板７５を備えていない構成でも良い。水平面（ＸＹ平面）と交差する面に進行する放射線を遮蔽する壁体であるターゲットシールドでもよい。

【0029】

（ターゲットシールド：２重構造）
図５は、ターゲットシールド７を拡大して示す断面図である。ターゲットシールド７は、図５に示すように、ガンマ線を遮蔽するガンマ線遮蔽板（７１Ａ，７２Ａ，７３Ａ）と、ガンマ線遮蔽板のターゲット３側に配置され、中性子線を遮蔽する中性子線遮蔽板（７１Ｂ，７２Ｂ，７３Ｂ）とを備えている。正面板７１は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板７１Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板７１Ｂとが積層されて構成されている。側面板７２は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板７２Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板７２Ｂとが積層されて構成されている。背面板７３は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板７３Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板７３Ｂとが積層されて構成されている。同様に、天板７４及び底板７５も、ガンマ線遮蔽板と中性子線遮蔽板とが積層されて構成されている。

【0030】

図６は、ターゲットシールド８を拡大して示す断面図である。ターゲットシールド８は、図６に示すように、ガンマ線を遮蔽するガンマ線遮蔽板（８１Ａ，８２Ａ，８３Ａ）と、ガンマ線遮蔽板のターゲット３側に配置され、中性子線を遮蔽する中性子線遮蔽板（８１Ｂ，８２Ｂ，８３Ｃ）とを備えている。正面板８１は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板８１Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板８１Ｂとが積層されて構成されている。側面板８２は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板８２Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板８２Ｂとが積層されて構成されている。背面板８３は、板厚方向の外側に配置されたガンマ線遮蔽板８３Ａと、内側に配置された中性子線遮蔽板８３Ｂとが積層されて構成されている。同様に、天板８４も、ガンマ線遮蔽板と中性子線遮蔽板とが積層されて構成されている。

【0031】

中性子線遮蔽板は、例えば、ボルトナットを用いてガンマ線遮蔽板の内側（ターゲット３側の面）に固定されている。中性子線を遮蔽する放射線遮蔽材料としては、ポリエチレン（ＰＥ）、水（Ｈ_２Ｏ）などが挙げられる。ガンマ線を遮蔽する放射線遮蔽材料としては、鉛（Ｐｂ）、タングステン（Ｗ）などが挙げられる。また、ガンマ線を遮蔽する放射線遮蔽材料としては、鉄（Ｆｅ）以上の密度を有する物質でもよい。放射線遮蔽材料としては、その他の材料を用いてもよい。

【0032】

（ターゲットシールド：扉）
図３は、ターゲットシールドの扉が開放された状態を示す図である。図３に示すように、ターゲットシールド７，８は開閉可能な扉７Ｄ，８Ｄを有する構成である。ターゲットシールド７では、正面板７１、側面板７２、天板７４及び底板７５が一体的に形成され、開閉可能な扉７Ｄとして機能する。ターゲットシールド８では、正面板８１、側面板８２及び天板８４が一体的に形成され、開閉可能な扉８Ｄとして機能する。

【0033】

ターゲットシールド７の扉７Ｄは、ヒンジ７８を有し、Ｚ軸方向に延在する中心軸周りに揺動可能な構成とされている。ターゲットシールド８の扉８Ｄは、ヒンジ８８を有し、Ｚ軸方向に延在する中心軸周りに揺動可能な構成とされている。また、扉７Ｄ，８Ｄの構成は、ヒンジ７８，８８を備える構成に限定されず、例えば、ターゲットシールド７，８の壁体の一部がスライドすることで、開閉されるものでもよい。

【0034】

また、図１に示すように、扉７Ｄを閉じた状態において、ターゲットシールド７の扉７Ｄと背面板７３とのつなぎ目（接合面）Ｆ１は、自己シールド６のパーツ同士（リア壁体６２，フロント壁体６３）のつなぎ目Ｆ２とずれた位置に形成され、同一直線上に配置されないように構成されている。同様に、扉８Ｄを閉じた状態において、ターゲットシールド８の扉８Ｄと他の部材とのつなぎ目は、自己シールド６同士のつなぎ目Ｆ４とずれた位置に形成され、同一直線上に配置されないように構成されている。

【0035】

（ターゲットシールド：切欠き部）
また、ターゲットシールド７には、製造されたＲＩをターゲット３から抜き出すための導出管を通過させる切欠き部７５ａが形成されている。この切欠き部７５ａは、ターゲットシールド７の下面側に設けられていることが好適である。本実施形態のターゲットシールド７では、底板７５に、切欠き部７５ａが設けられ、導出管はこの切欠き部７５ａを通り、ターゲットシールド７外へ導出されている。導出管は、床面に設けられたピット内を通じて、ＲＩ製造装置外へ送り出される。

【0036】

（作用）
次にこのように構成されたＲＩ製造装置１の作用について説明する。まず、加速器２によって荷電粒子が加速され、荷電粒子ビームがターゲット３へ照射される。ターゲット３の収容部内のターゲット水は、荷電粒子ビームが照射されて核反応しＲＩを製造する。製造されたＲＩは導出管内を流れＲＩ製造装置１外に送られる。例えば、製造されたＲＩは、ＲＩ化合物を合成するための放射性化合物合成装置（ＲＩ化合物合成装置）へ供給される。ＲＩ化合物合成装置で合成されたＲＩ化合物は、放射性薬剤濃縮装置へ供給されて濃縮され放射性薬剤（製品）として回収される。

【0037】

また、運転中において、自己シールド６及びターゲットシールド７，８は閉じられた状態で使用される。ＲＩ製造装置１の運転において、ターゲット３で発生した放射線は、ターゲットシールド７，８によって遮蔽されると共に、自己シールド６によって遮蔽されることになる。

【0038】

続いて、運転停止状態において、ＲＩ製造装置１のメンテナンスを実施する場合には、自己シールド６のフロント壁体６３を移動させて、内部を開放する。このとき、ターゲットシールド７，８は、閉じられている状態であるため、ターゲット３が放射化されている場合であっても、ターゲット３から発生する放射線は、ターゲットシールド７，８によって遮蔽されることになる。これにより、ターゲット３以外の機器類を整備する場合には、ターゲット３からの放射線の減衰を待つことなく、メンテナンス作業を開始することができる。そのため、従前のようにターゲット３からの放射線の減衰を待つ必要がないため、メンテナンス作業のための運転停止時間を短縮することができる。

【0039】

このように本実施形態のＲＩ製造装置１では、ターゲット３を取り囲んで放射線を遮蔽するターゲットシールド３を備えているため、放射化されたターゲット３から放射される放射線を遮蔽することが可能である。そのため、作業者の被爆のおそれを低減することができる。また、自己シールド６よりも内側に、ターゲットシールド７，８を備える構成であるため、ターゲットシールド７，８よりも外側に配置された自己シールド６は、従来よりも少ない遮蔽材料で従来と同じ遮蔽効果を生むことになり、遮蔽材料の使用量を削減することができる。

【0040】

また、ターゲットシールド７，８は、ガンマ線遮蔽板の内側（ターゲット３側）に、中性子線遮蔽板が設けられているため、ターゲット３からの中性子線が中性子線遮蔽板に当たることで発生するガンマ線を外側のガンマ線遮蔽板によって遮蔽することができる。

【0041】

また、ターゲットシールド７，８は、扉を有する構成であるため、ターゲット３をメンテナンスする際には、扉を開放することで容易にアクセスすることができる。また、ターゲットシールド７，８と隣接する部材とのつなぎ目と、自己シールド６同士のつなぎ目とが同一直線上に配置されないように構成されているため、放射線遮蔽壁のつなぎ目から放射線が透過するおそれを抑制することができる。

【0042】

また、ターゲットの底板７５に切欠き部７５ａが設けられ、この切欠き部７５ａは、導出管を通過させるための開口部として利用されている。このように、導出管を通過させる切欠き部が、ターゲット３の底面側に設けられていると、この切欠き部を通過した放射線が、床面（例えば、コンクリートなど）に当たって反射することで減衰される。また、放射線が反射することで、放射線の距離による減衰も大きくなる。そのため、作業者の被爆のおそれを低減することができる。また、作業者がメンテナンスの際に、ターゲットシールド７，８の真下に入り込む必要もないため、下方に直進する放射線による被曝のおそれは少ない。

【0043】

以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態にあっては、ターゲットシールドは、ガンマ線遮蔽板と中性子線遮蔽板とを備える構成であるが、ガンマ線遮蔽板からなるターゲットシールドでもよい。

【0044】

また、上記実施形態では、導出管を通過させる切欠き部が底板に形成されているが、切欠き部の位置は、底板に限定されない。その他の背面板、天板などに導出管などを通過させる開口が設けられている構成でもよい。

【0045】

また、ターゲットシールドは、加速器側に固定されている構成に限定されず、例えば、移動しないリア壁体６２に固定されたターゲットシールドや、支持部材を介し床面に固定されたターゲットシールドでもよい。

【0046】

また、上記実施形態では、加速器をサイクロトロンとして説明しているが、加速器はサイクロトロンに限定されず、他の加速器（例えばシンクロサイクロトロンやシンクロトロン）でも良い。

【符号の説明】

【0047】

１…ＲＩ製造装置、２…加速器、３…ターゲット、４…真空ポンプ、５…導出チューブ、６…自己シールド、７、８…ターゲットシールド、７１，８１…正面板、７２，８２…側面板、７３，８３…背面板、７４，８４…天板、７５…底板、７５ａ…切欠き部、７８，８８…ヒンジ、Ｓ…内部空間。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】