【実施例】
【0062】
実施例1:低硫黄ディーゼル生成物のための構成
一実施形態では、隔壁塔を、低硫黄ディーゼルを生成するための2つの反応塔反応システムにおいて分留装置として使用することができる。
図1は、この型式のシステムの例を概略的に示している。
図1に示される実施形態では、反応塔110は、供給材料の水素化精製及び/又は水素化分解のための1つ以上の段(又は段階)を含む。
図1は、1つの水素化精製段階112と1つの水素化分解段階114とを含む反応塔110を示している。しかしながら、任意の他の都合のよい段の組み合わせを、反応塔110において選択的に含めることができる。
図1は複数の段を含む反応塔110を示しているが、別の実施形態では、複数の段をもつ単一の反応塔の代わりに、複数の直列の反応塔を使用することができることに留意されたい。
【0063】
水素化精製段階では、供給材料105は、水素化精製段階112において、効果的な水素化精製条件の下で水素化精製触媒に露出される。水素化精製段階における触媒は、例えば支持体上に第VIB族金属及び/又は第VIII族金属を含む(例えば、コバルト、ニッケル、モリブデン、タングステン、又はこれらの任意の組み合わせを含む;金属の好ましい組み合わせは、ニッケルとモリブデン、又はニッケルとコバルトとモリブデンを含む;適切な支持体には、シリカ、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニア等、及びこれらの組み合わせを含むことができる)従来の水素化精製触媒のように、水素化精製反応に触媒作用を及ぼす触媒でありえる。
【0064】
水素化精製段階における反応条件は、供給材料ストリームの硫黄含有量を減少させるのに適した条件とすることができる。水素化精製反応条件には、約0.3hr
−1〜約5.0hr
−1のLHSV、約500psig(約3.4MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の全圧力、約500°F(約260℃)〜約800°F(約427℃)の温度、及び少なくとも約80%の水素(残りは不活性ガス)を含有する処理ガスを含むことができる。好ましくは、反応条件には、約0.5hr
−1〜約1.5hr
−1のLHSV、約1400psig(約9.7MPag)〜約2000psig(約13.8MPag)の全圧力、及び約700°F(約371℃)〜約750°F(約399℃)の温度を含むことができる。
【0065】
一実施形態では、水素化精製段階に送出される処理ガスの量は、当該段階における水素の消費に基づくことができる。水素化精製段階のための処理ガス比は、当該段階において新たな供給材料のバレル当たりに消費される水素の量の約2倍〜約5倍とすることができる。典型的な水素化精製段階は、水素化精製される供給材料の性質を含む種々の要因に応じて、約50scf/bbl(約8Nm
3/m
3)〜約1000scf/bbl(約170Nm
3/m
3)の水素を消費し得る。かくして、処理ガス比は、約100scf/bbl(約17Nm
3/m
3)〜約5000scf/bbl(約840Nm
3/m
3)とすることができる。好ましくは、処理ガス比は、消費される水素の量の約4倍〜約5倍とすることができる。上述の処理ガス比が水素の流量に言及していることに留意されたい。水素が、水素以外のガスを含有するストリームの一部として送出される場合には、ガスストリーム全体についての処理ガス比は、比例して大きくすることができる。
【0066】
第1反応塔は、水素化分解段階114のような、1つ以上の付加的な水素化処理段階を含むこともできる。水素化分解触媒の例には、ニッケル、ニッケル−コバルト−モリブデン、コバルト−モリブデン、ニッケル−タングステン、及び/又はニッケル−モリブデンを含むことができるが、最後の2つのうち一方又は両方が好ましい。貴金属触媒の非限定的な例は、白金及び/又はパラジウムをベースとするものを含む。貴金属触媒と他の金属触媒の両方に使用してもよい多孔質支持材料は、アルミナ、シリカ、アルミナ−シリカ、珪藻土、地質珪藻土、マグネシア、チタニア、ジルコニア、又はこれらの組み合わせのような、耐火酸化材を包含することができるが、アルミナ、シリカ及び/又はアルミナ−シリカが好ましく最も普通である。ゼオライト支持体、特にUSYのような粗孔フォージャサイトを、追加して又は代わりに使用することができる。適切な水素化分解条件には、約200℃〜約450℃の温度、約5barg(約0.5MPag)〜約300barg(約30MPag)の水素圧、及び約0.05hr
−1〜約10hr
−1のLHSVを含むことができる。
【0067】
一実施形態では、水素化分解段階に送出される処理ガスの量は、当該段階における水素の消費に基づくことができる。水素化精製段階についての処理ガス比は、当該段階において新たな供給材料のバレル当たりに消費される水素の量の約2倍〜約15倍とすることができる。一般的な水素化分解段階は、水素化分解される供給材料の性質を含む種々の要因に応じて、約50scf/bbl(約8Nm
3/m
3)〜約1000scf/bbl(約170Nm
3/m
3)の水素を消費し得る。かくして、処理ガス比は、約100scf/bbl(約17Nm
3/m
3)〜約15000scf/bbl(約2500Nm
3/m
3)とすることができる。好ましくは、処理ガス比は、消費される水素の量の約4倍〜約5倍とすることができる。上述の処理ガス比が水素の流量に言及していることに留意されたい。水素が、水素以外のガスを含有するストリームの一部として送出される場合には、ガスストリーム全体についての処理ガス比は、比例して大きくすることができる。
【0068】
次いで、反応塔110からの流出物125は、隔壁塔130の第1容積132に通すことができる。流出物125は、少なくとも3つの部分に分留することができる。第1容積132では、塔底カット(又は留分)142及びディーゼルカット144/147を生成することができる。流出物125の軽質部分は、隔壁塔内を上昇して、共通容積136に入ることができる。共通容積136は、1つ以上のカット、例えばケロシンカット143とナフサカット145に分けることもできる。
【0069】
塔底カット142及び/又はディーゼルカット144/147の少なくとも一部は、第2反応塔150に通すことができる。
図1に示される実施形態では、第2反応塔150は、単一の水素化分解段階を含む。或いは、第2反応塔150は、1つ以上の水素化精製段階及び/又は、水素化分解段階のような1つ以上の他の水素化処理段階を含むことができる。
【0070】
一実施形態では、第2反応塔における水素化精製段階及び/又は水素化処理段階は、上述の触媒及び反応条件を用いることができる。或いは、反応塔150における水素化精製段階は、より温和な一組の効果的な反応条件を含むことができる。一実施形態では、水素化精製段階における触媒は、必要に応じて支持体上に第VIB族金属及び/又は第VIII族金属を含むことができる。典型的な金属には、ニッケル、モリブデン、タングステン及びそれらの組み合わせを含むことができる。典型的な支持体には、シリカ、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニア及びそれらの組み合わせを含むことができる。第2反応塔における(水素化精製段階の)反応条件には、供給材料ストリームの硫黄含有量、又は少なくとも供給材料ストリームのディーゼル及び/又は軽油部分の硫黄含有量を、約30wppm以下まで、好ましくは約15wppm以下又は約10wppm以下まで減少させるのに適した条件を含むことができる。反応条件には、有利には、約0.5hr
−1〜約1.5hr
−1のLHSV、約250psig(約1.7MPag)〜約800psig(約5.5MPag)の全圧力、及び約550°F(約288℃)〜約750°F(約399℃)の温度、好ましくは、約0.9hr
−1〜約1.1hr
−1のLHSV、約350psig(約2.4MPag)〜約600psig(約4.1MPag)の全圧力、及び約625°F(約329℃)〜約675°F(約357℃)の温度を含むことができる。処理ガス比は、水素化精製段階について上述した手順に従って選択されることができる。
【0071】
複数の水素化精製を含む実施形態では、後の方の段階における水素化精製条件は、前の方の段階における条件よりも過酷さを緩和することができる。例えば、後の方の水素化精製段階における圧力は、前の方の水素化精製段階における圧力の約250psig(1.7MPag)未満、例えば、約300psig(約2.1MPag)未満、約600psig(約4.1MPag)未満、又は約900psig(9.2MPag)未満とすることができる。追加して又は代わりに、後の方の水素化精製段階におけるLHSVは、前の方の水素化精製段階におけるLHSVよりも少なくとも約0.2hr
−1多く、例えば、少なくとも約0.5hr
−1多くすることができる。さらに、追加して又は代わりに、後の方の水素化精製段階における運転開始温度は、前の方の水素化精製段階における運転開始温度よりも約15℃〜約30℃低くすることができる。
【0072】
次いで、第2反応塔150からの流出物165は、隔壁塔130の第2容積134に通すことができる。隔壁塔130は、流出物165を分留して、少なくとも塔底留分172と、任意的ではあるが好ましくは生成物(ディーゼル)留分174と、並びに共通容積136に上昇することができる軽質部分とにすることができる。生成物留分174がディーゼル留分であるときには、塔底留分172は、流動接触分解プロセスのような別のプロセスへの供給材料として適当であるかもしれない未転換減圧軽油を含むことができる。特に生成物留分174が殆どないか全くない一定の状況では、塔底留分172は、ディーゼル留分を包含することができる。ディーゼル留分は有利には、低硫黄ディーゼル生成物、好ましくは超低硫黄ディーゼル生成物として使用するのに適切なものとすることができる。ディーゼル留分が超低硫黄ディーゼル生成物である一実施形態では、隔壁塔130の隔壁135は、第1容積132の比較的高い硫黄含有量生成物を、第2容積134の比較的低い硫黄生成物から分離した状態に維持することができる。
【0073】
図1における実施形態は、塔底留分172及びディーゼル留分174のいずれも第2反応塔150へのリサイクルを示していないことに留意すべきである。その代わり、第1容積132を出るストリーム142及び/又は147のみが、
図1では第2反応塔150への供給材料として使用される。
図1に示される実施形態は、このようにして、分留装置からの塔底部分の過剰なリサイクルの可能性を回避している。その結果、
図1に示される実施形態では、多核芳香族化合物の生成を減少させることができる。
【0074】
図1のような一実施形態では、所望ならば、少なくとも2つの異なるグレードの生成物を、隔壁塔の各分離容積によって生成することができる。例えば、第1分離容積からのディーゼル留分と第2分離容積からのディーゼル留分との相違には、異なる硫黄含有量、異なる沸点又は蒸留特性、又は別の特徴を含むことができる。
【0075】
ディーゼル留分の硫黄含有量が相違している場合には、第1分離容積からのディーゼル留分の硫黄含有量は有利には、第2分離容積からのディーゼル留分の硫黄含有量を超えることができる。第1分離容積からのディーゼル留分の硫黄含有量は、少なくとも約15wppm、例えば、少なくとも約25wppm、少なくとも約50wppm、少なくとも約100wppm、又は少なくとも約250wppmとすることができる。追加して又は代わりに、第1分離容積からのディーゼル留分の硫黄含有量は、約400wppm以下、例えば、約200wppm以下、約100wppm以下、又は約50wppm以下とすることができる。さらに、追加して又は代わりに、第2分離容積からのディーゼル留分の硫黄含有量は、約50wppm以下、例えば、約30wppm以下、約20wppm以下、又は約15wppm以下、又は約10wppm以下とすることができる。
【0076】
蒸留特性に関して、隔壁塔における分離容積は、T5沸点が少なくとも約215°F(約102℃)、例えば、少なくとも約250°F(約121℃)、少なくとも約350°F(約177℃)、少なくとも約450°F(約232℃)、又は少なくとも約500°F(約260℃)のディーゼル沸点範囲カットを生成するように構成することができる。追加して又は代わりに、隔壁塔における分離容積は、T95沸点が約800°F(約427℃)以下、例えば、約700°F(約371℃)以下、約600°F(約316℃)以下、約550°F(約288℃)以下、約500°F(約260℃)以下、又は約450°F(約232℃)以下のディーゼル沸点範囲カットを生成するように構成されることができる。2つ以上のディーゼル沸点範囲ストリームが別々の容積で生成される場合には、上記のT5とT95の値は、各ストリームを別個に特徴づけるか、又は両方のストリームをひとまとめにして特徴づけるかに使用されることができることに留意されたい。
【0077】
一実施形態では、第2分離容積に対する第1分離容積からのディーゼル沸点範囲ストリームのT5沸点の差は、少なくとも約5℃、例えば、少なくとも約10℃、少なくとも約25℃、又は少なくとも約50℃とすることができる。追加して又は代わりに、第2分離容積に対する第1分離容積からのディーゼル沸点範囲ストリームのT95沸点の差は、少なくとも約5℃、例えば、少なくとも約10℃、少なくとも約25℃、又は少なくとも約50℃とすることができる。
【0078】
各分離容積は、より高い沸点のディーゼル範囲ストリーム及び/又は軽油沸点範囲ストリームのような、少なくとも1つのより高い沸点範囲ストリームを生成することもできる。各分離容積からの塔底部は一般に、より高い沸点範囲ストリームとなり、いくつかの実施形態では、複数のディーゼル沸点範囲及び/又は軽油沸点範囲ストリームが、各分離容積から生成されることができる。各分離容積からの塔底ストリーム(又は他の付加的なディーゼル又はより高い沸点範囲ストリーム)は、硫黄含有量、蒸留特性、及び/又は1つ以上の特性に基づいて異なり得る。
【0079】
追加して又は代わりに、蒸留特性に関して、隔壁塔における分離容積は、T5沸点が少なくとも約550°F(約288℃)、例えば、少なくとも約600°F(約316℃)、少なくとも約700°F(約371℃)、又は少なくとも約800°F(約427℃)の軽油沸点範囲カットを生成するように構成されることができる。追加して又は代わりに、隔壁塔における分離容積は、T95沸点が約1100°F(約593℃)以下、例えば、約1000°F(約538℃)以下、約900°F(約482℃)以下、又は約800°F(約427℃)以下の軽油沸点範囲カットを生成するように構成することができる。
【0080】
一実施形態では、第2分離容積に対する第1分離容積からの軽油沸点範囲ストリームのT5沸点の差は、少なくとも約5℃、例えば、少なくとも約10℃、少なくとも約25℃、又は少なくとも約50℃とすることができる。追加して又は代わりに、第2分離容積に対する第1分離容積からの軽油沸点範囲ストリームのT95沸点の差は、少なくとも約5℃、例えば、少なくとも約10℃、少なくとも約25℃、少なくとも約50℃、又は少なくとも約100℃とすることができる。
【0081】
限定するわけではないが、ナフサ沸点範囲ストリーム、ケロシン沸点範囲ストリーム、軽留分ストリーム(C
4炭化水素)、又はこれらの組み合わせを含む1つ以上のストリームを、隔壁塔の共通容積から取り出し/形成することができる。水素、硫化水素、アンモニア及び/又は他の非凝縮性ガスの別個のストリームを生成することもでき、或いはこれらの成分は、軽質留分ストリームのような、別のストリームの一部として、共通容積から出ることができる。ケロシン沸点範囲ストリームは、少なくとも約200°F(約93℃)、例えば、少なくとも約215°F(約102℃)又は少なくとも約250°F(約121℃)のT5沸点を有することができる。ケロシン沸点範囲ストリームは、追加して又は代わりに、約450°F(約232℃)以下、例えば、約400°F(約204℃)以下又は約350°F(約177℃)以下のT95沸点を有することができる。ナフサ沸点範囲ストリームは、少なくとも約85°F(約29℃)、例えば、少なくとも約100°F(約38℃)又は少なくとも約120°F(約49℃)のT5沸点を有することができる。ナフサ沸点範囲ストリームは、追加して又は代わりに、約250°F(約121℃)以下、例えば、約215°F(約102℃)以下又は約200°F(約93℃)以下のT95沸点を有することができる。
【0082】
実施例2:種々のグレードの低温流れ特性を生成するための構成
別の実施形態では、隔壁塔を、複数のグレードのディーゼル並びに複数のグレードの塔底生成物を生成するための2つの反応塔反応システムにおいて分留装置として使用することができる。
図2は、この型式のシステムの例を概略的に示している。
図2に示す実施形態では、反応塔210は、供給材料の水素化精製及び/又は水素化分解のための1つ以上の段階を含む。
図2は、1つの水素化精製段階212及び1つの水素化分解段階214を含む反応塔210を示している。しかしながら、任意の他の便利な段階の組み合わせを選択的に反応塔210において含むことができる。
図2が複数の段階を含む反応塔210を示しているが、別の実施形態では、複数の段階をもつ単一の反応塔の代わりに、複数の直列の反応塔を使用することができることに留意されたい。
【0083】
水素化精製段階では、供給材料205は、水素化精製段階212において効果的な水素化精製条件の下で水素化精製触媒に露出される。水素化精製段階における触媒は、例えば第VIB族金属及び/又は第VIII族金属を支持体上に含む(例えば、コバルト、ニッケル、モリブデン、タングステン、又はこれらの任意の組み合わせを包含する;金属の好ましい組み合わせは、ニッケルとモリブデン、又はニッケルとコバルトとモリブデンを含む;適切な支持体には、シリカ、シリカ−アルミナ、アルミナ、チタニア等、及びこれらの組み合わせを含むことができる)従来の水素化精製触媒のように、水素化精製反応に触媒作用を及ぼすことができる触媒でありえる。
【0084】
水素化精製段階における反応条件は、供給材料ストリームの硫黄含有量を減少させるのに適した条件とすることができる。水素化精製反応条件には、約0.3hr
−1〜約5.0hr
−1のLHSV、約500psig(約3.4MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の全圧力、約500°F(約260℃)〜約800°F(約427℃)の温度、及び少なくとも約80%の水素(残りは不活性ガス)を含有する処理ガスを含むことができる。好ましくは、反応条件には、約0.5hr
−1〜約1.5hr
−1のLHSV、約1400psig(約9.7MPag)〜約2000psig(約13.8MPag)の全圧力、及び約700°F(約371℃)〜約750°F(約399℃)の温度を含むことができる。
【0085】
一実施形態では、水素化精製段階に送出される処理ガスの量は、当該段階における水素の消費に基づくことができる。水素化精製段階についての処理ガス比は、当該段階における新たな供給材料のバレル当たりに消費される水素の量の約2倍〜約5倍とすることができる。一般的な水素化精製段階は、水素化精製される供給材料の性質を含む種々の要因に応じて、約50scf/bbl(約8Nm
3/m
3)〜約1000scf/bbl(約170Nm
3/m
3)の水素を消費し得る。かくして、処理ガス比は、約100scf/bbl(約17Nm
3/m
3)〜約5000scf/bbl(約840Nm
3/m
3)とすることができる。好ましくは、処理ガス比は、消費された水素の量の約4倍〜約5倍とすることができる。上述の処理ガス比は水素の流量に言及していることに留意されたい。水素が、水素以外のガスを含有するストリームの一部として送出される場合には、ガスストリーム全体についての処理ガス比は、比例して多くすることができる。
【0086】
第1反応塔は、水素化分解段階114のような、1つ以上の付加的な水素化処理段階を含むことができる。水素化分解触媒の例には、ニッケル、ニッケル−コバルト−モリブデン、コバルト−モリブデン、ニッケル−タングステン、及び/又はニッケル−モリブデンを含むことができるが、最後の2つのうち一方又は両方が好ましい。貴金属触媒の非限定的な例は、白金及び/又はパラジウムをベースとするものを含む。貴金属触媒と他の金属触媒の両方について使用してもよい多孔質支持材料は、アルミナ、シリカ、アルミナ−シリカ、珪藻土、地質珪藻土、マグネシア、チタニア、ジルコニア、又はこれらの組み合わせのような耐火酸化材を包含することができるが、アルミナ、シリカ及び/又はアルミナ−シリカが好ましく最も普通である。ゼオライト支持体、特にUSYのような粗孔フォージャサイトが、追加して又は代わりに使用され得る。適切な水素化分解条件には、約200℃〜約450℃の温度、約5barg(約0.5MPag)〜約300barg(約30MPag)の水素圧、及び約0.05hr
−1〜約10hr
−1のLHSVを含むことができる。
【0087】
一実施形態では、水素化分解段階に送出される処理ガスの量は、当該段階における水素の消費に基づくことができる。水素化精製段階についての処理ガス比は、当該段階における新たな供給材料のバレル当たりに消費される水素の量の約2倍〜約15倍とすることができる。一般的な水素化分解段階は、水素化分解される供給材料の性質を含む種々の要因に応じて、約50scf/bbl(約8Nm
3/m
3)〜約1000scf/bbl(約170Nm
3/m
3)の水素を消費し得る。かくして、処理ガス比は、約100scf/bbl(約17Nm
3/m
3)〜約15000scf/bbl(約2500Nm
3/m
3)とすることができる。好ましくは、処理ガス比は、消費される水素の量の約4倍〜約5倍とすることができる。上述の処理ガス比が水素の流量に言及していることに留意されたい。水素が、水素以外のガスを含有するストリームの一部として送出される場合には、ガスストリーム全体についての処理ガス比は、比例して多くすることができる。
【0088】
次いで、反応塔210からの流出物225は、隔壁塔230の第1容積232に通すことができる。流出物225は、少なくとも3つの部分に分留することができる。第1容積232では、塔底カット242及びディーゼルカット244/247を生成することができる。流出物225の軽質部分は、隔壁塔内を上昇して、共通容積236に入ることができる。共通容積236は、1つ以上のカット、例えば、ケロシンカット243及びナフサカット245に分離することもできる。
【0089】
次いで、塔底カット242及び/又はディーゼルカット244/247の少なくとも一部は、第2反応塔250に通すことができる。
図2に示す実施形態では、第2反応塔250は、接触脱ろう段階252と、水素化仕上げ段階254とを含む。或いは、第2反応塔250には、水素化精製、水素化分解、接触脱ろう、及び/又は水素化仕上げ段階のような、1つ以上の他の水素化処理段階を含むことができる。
【0090】
一実施形態では、第2反応塔250における接触脱ろう及び水素化仕上げ段階252/254は、水素化精製及び/又は水素化分解について上述した触媒及び反応条件を用いることができる。或いは、第2反応塔250における接触脱ろう及び水素化仕上げ段階は、温和な組の効果的な反応条件を含むことができる。第2反応塔(の接触脱ろう及び水素化仕上げ段階)における反応条件には、供給材料ストリームの硫黄含有量、又は少なくとも供給材料ストリームのディーゼル及び/又は軽油部分の硫黄含有量を、約30wppm以下まで、好ましくは約15wppm以下又は約10wppm以下まで減少させるのに適した条件を含めることができる。反応条件には有利には、約0.5hr
−1〜約1.5hr
−1のLHSV、約250psig(約1.7MPag)〜約800psig(約5.5MPag)の全圧力、及び約550°F(約288℃)〜約750°F(約399℃)の温度、好ましくは、約0.9hr
−1〜約1.1hr
−1のLHSV、約350psig(約2.4MPag)〜約600psig(約4.1MPag)の全圧力、及び約625°F(約329℃)〜約675°F(約357℃)の温度を含むことができる。処理ガス比は、水素化精製段階について上述した手順に従って選択されることができる。
【0091】
複数の水素化処理段階を含む実施形態では、後の方の段階における水素化処理条件は、前の方の段階における条件よりも過酷さが緩和され得る。例えば、後の方の水素化処理段階における圧力は、前の方の水素化処理/水素化精製段階における圧力よりも約250psig(1.7MPag)低く、例えば、約300psig(約2.1MPag)低く、約600psig(約4.1MPag)低く、又は約900psig(9.2MPag)低くすることができる。追加して又は代わりに、後の方の水素化処理段階におけるLHSVは、前の方の水素化処理/水素化精製段階におけるLHSVよりも少なくとも約0.2hr
−1多く、例えば、少なくとも約0.5hr
−1多くすることができる。さらに、追加して又は代わりに、後の方の水素化処理段階における運転開始温度は、前の方の水素化処理/水素化精製段階における運転開始温度よりも約15℃〜約30℃低くすることができる。
【0092】
段階252のような接触脱ろう段階では、供給材料242/247を、接触脱ろう条件の下で接触脱ろう触媒に露出することができる。一般に、接触脱ろうは、ディーゼル及び/又は軽油沸点範囲供給材料のような供給材料内で長鎖分子を選択的に水素化分解し及び/又は水素化異性化することによって達成することができる。典型的な脱ろう触媒には、限定するわけではないが、結晶質アルミノシリケート(ゼオライト)又はシリコアルミノホスフェート(SAPO)のようなモレキュラーシーブを含むことができる。これらの触媒は、存在するならば好ましくは第VIII族金属、特に第VIII貴金属を含む、金属水和物成分を担持してもよい。脱ろう条件には、約280℃〜約380℃の温度、約300psig(約2.1MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の圧力、及び約0.1hr
−1〜約5.0hr
−1のLHSVを含むことができる。
【0093】
一実施形態では、脱ろう段階に送出される処理ガスの量は、当該段階における水素の消費に基づくことができる。脱ろう段階についての処理ガス比は、当該段階における新たな供給材料のバレル当たりに消費される水素の量の約2倍〜約15倍とすることができる。一般的な接触脱ろう段階は、脱ろうされる供給材料の性質を含む種々の要因に応じて、約50scf/bbl(約8Nm
3/m
3)〜約200scf/bbl(約34Nm
3/m
3)の水素を消費し得る。かくして、処理ガス比は、約100scf/bbl(約17Nm
3/m
3)〜約3000scf/bbl(約500Nm
3/m
3)とすることができる。好ましくは、処理ガス比は、消費される水素の量の約4倍〜約5倍とすることができる。上述の処理ガス比が水素の流量に言及していることに留意されたい。水素が、水素以外のガスを含有するストリームの一部として送出される場合には、ガスストリーム全体についての処理ガス比は、比例して多くすることができる。
【0094】
種々の実施形態では、接触脱ろうに使用されるモレキュラーシーブは、ZSM−48のような、10員環の1−Dモレキュラーシーブを含むことができる。このようなシーブは、主として供給材料内で分子を異性化することによって、脱ろうを実施することができる。ZSM−48に対する一般的なシリカ対アルミナ比は、約250対1以下、又は約200対1以下とすることができる。好ましくは、ZSM−48のシリカ対アルミナ比は、約110対1未満とすることができる。触媒を形成するため、ZSM−48は、限定するわけではないが、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ジルコニア、又はこれらの混合物を含むバインダと合成することができる。追加して又は代わりに、他の適切なバインダは、当業者には明らかであろう。
【0095】
図2に示す実施形態では、接触脱ろう段階252からの出力は、次いで、水素化仕上げ段階254に通すことができる。水素化仕上げ触媒の例には、限定するわけではないが、第VIB族金属及び/又は第VIII族金属を含有する触媒を含むことができる。一実施形態では、少なくとも1つの金属は、強力な水素化機能を与えるように硫化されることができる。追加して又は代わりに、水素化仕上げ触媒には、Pt、Pd、又はこれらの組み合わせのような、第VIII族貴金属を含むことができる。一実施形態では、金属は、触媒の重量を基にして約30重量%以上の量、好ましくは約50重量%以上の量(例えば、バルク金属触媒として)バルク状態で存在してもよい。或いは、金属は、限定するわけではないがシリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア等又はこれらの組み合わせ(好ましくは、少なくともアルミナを包含する)のような低酸性酸化物を含むことができる非晶質又は結晶質酸化物材料上で支持されてもよい。支持体は、付加的に、例えばハロゲン化、特にフッ素化によって調整してもよい。支持された触媒の金属含有量は、非貴金属に対して約25重量%程度、通常は約20重量%以下とすることができる。一実施形態では、好ましい水素化仕上げ触媒には、珪酸含量が比較的高いメソ多孔質材料であるM41Sクラス/群の触媒に属する結晶質材料を含むことができる。M41Sクラス/群の触媒の例には、MCM−41(好ましい)、MCM−48、及びMCM−50が含まれる。
【0096】
水素化仕上げ条件には、約125℃〜約425℃、好ましくは約180℃〜約280℃の温度、約500psig(約3.4MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)、好ましくは約1500psig(約10.3MPag)〜約2500psig(約17.2MPag)の全圧力、及び約0.1hr
−1〜約5hr
−1、好ましくは約0.5hr
−1〜約1.5hr
−1のLHSVを含むことができる。処理ガス比は、水素化精製段階について上述した手順に従って選択することができる。
【0097】
次いで、第2反応塔250からの流出物265は、隔壁塔230の第2容積234に通すことができる。隔壁塔230は、流出物265を分留して、少なくとも塔底留分272と、任意的ではあるが好ましくは生成物(極寒用ディーゼル)留分274と、及び共通容積236に上昇することができる軽質部分とにすることができる。生成物留分274が極寒用ディーゼル留分であるときには、塔底留分272は、潤滑剤基本原料の生成物用の供給材料のような、別のプロセスへの供給材料として適当であるかもしれない脱ろうされた減圧軽油を含むことができる。極寒用ディーゼル留分は、好ましくは低温度環境におけるディーゼル燃料として使用するのに適している。或いは、極寒用ディーゼル留分の部分は、第1反応塔からのディーゼル留分244の部分とブレンドすることができる。
【0098】
図2のような一実施形態では、所望ならば、少なくとも2つの異なるグレードの生成物を、隔壁塔の各分離容積によって生成することができる。例えば、第1分離容積からのディーゼル留分と第2分離容積からの生成物留分との相違には、生成物についての異なる硫黄含有量、異なる沸点範囲及び/又は蒸留特性、又は留分の低温流れ特性のような他の特徴を含むことができる。硫黄含有量と蒸留特性との潜在的な相違は、上述されている。低温流れ特性のような他の特徴に関して、第1分離容積からのディーゼル/軽油留分は、曇り点、流動点、及び/又は別の低温流れ特性において、第2分離容積からのディーゼル/軽油留分と異なり得る。
【0099】
一実施形態では、第2分離容積からのディーゼル/軽油留分の曇り点は、第1分離容積からのディーゼル/軽油留分の曇り点よりも少なくとも約5℃低く、例えば、少なくとも約10℃低く、少なくとも約15℃低く、又は少なくとも約25℃低くすることができる。追加して又は代わりに、第2分離容積からのディーゼル/軽油留分の流動点は、第1分離容積からのディーゼル/軽油留分の流動点よりも少なくとも約5℃低く、例えば、少なくとも約10℃低く、少なくとも約15℃低く、又は少なくとも約25℃低くすることができる。
【0100】
実施例3:隔壁塔の例
シミュレーションに基づき、次の隔壁塔は、本発明の種々の実施形態にとって適当であると予想される。この実施形態では、高さが約35mの隔壁塔をシミュレートした。表1は、隔壁塔の細部に関する更なる情報を提供する。
【0101】
【表1】
【0102】
実施例2に示す反応塔と同様な構成の出力の分留のために、表1に記載した隔壁塔をシミュレートした。表1の塔の隔壁は、サンプとゾーン4を足し合わせた大体の高さと少なくとも同程度とし、かつサンプ、セクション4、及びフラッシュゾーンの大体の全高さ未満とすることができる。かくして、表1に示される隔壁塔については、隔壁は、約7.9m〜約10.9mとすることができる。或いは、隔壁高さは、異なる分離容積において生成される留分間の混入物が所望レベル未満になるように選択することができる。
【0103】
隔壁塔についてのシミュレーションでは、隔壁は、2つの異なる大きさの非共通容積をもたらした。水素化精製/水素化分解生成物に対する分離容積に相当する第1分離容積は、全容積の約59%を表した。隔壁塔についての2つの分離容積は、同じ分離をするのに適した個々の分留塔とほぼ同様な容積を有するように選択された。
【0104】
表1に記載される隔壁塔は、隔壁高さの下方の各分離領域から2つの別個の生成物の分留を可能にする。最初の減圧軽油供給材料については、分離生成物には、各分離領域に対して塔底生成物とディーゼル沸点範囲生成物が含まれた。隔壁塔の第2の分離容積からの塔底生成物とディーゼル沸点範囲生成物は、第1の分離容積からの生成物に対して改良された低温流れ特性を有する生成物に相当した。
尚、本明細書に記載の主な態様を以下に示す。
1.供給原料を第1の効果的な水素化精製条件の下で水素化精製すること;
前記水素化精製された供給原料を隔壁塔分留装置の第1容積で分留して、少なくとも第1生成物留分、第1塔底留分、及び前記分留装置の上部の分割されない容積に通される第1共通留分を生成すること;
前記第1塔底留分の一部を効果的な水素化処理条件の下で水素化処理すること;及び
前記隔壁塔分留装置の第2容積において前記水素化処理された第1塔底留分を分留して、少なくとも第2生成物留分、第3生成物留分、及び前記分留装置の上部の分割されない容積に通される第2共通留分を生成すること
を含み、
前記第2生成物留分が、前記第1生成物留分に対して少なくとも1つの改良された特性を有し、前記第3生成物留分が、前記第1塔底留分に対して少なくとも1つの改良された特性を有する、低硫黄蒸留生成物の製造方法。
2.前記水素化処理が、効果的な接触脱ろう条件の下で、脱ろう触媒の存在下脱ろうすることを含み;前記第1生成物留分が第1ディーゼル留分であり;前記第2生成物留分が第2ディーゼル留分であり;及び前記第3生成物留分が第2塔底留分である、上記1に記載の方法。
3.前記水素化精製工程と分留工程との間に水素化分解工程を更に含み、
前記水素化分解工程が、約200℃〜約450℃の温度、約5barg(約0.5MPag)〜約300barg(約30MPag)の水素圧、約0.05hr−1〜約10hr−1のLHSV、及び前記水素化分解の際に消費される水素の約2倍〜約15倍の水素処理ガス比を含む第1の効果的な水素化分解条件の下で前記水素化精製された供給原料を水素化分解することを含み、
前記水素化処理が、第2の効果的な水素化分解条件の下でリサイクルなしで水素化分解することを含み;前記第1生成物留分が第1ディーゼル留分であり、前記第2生成物留分が第2ディーゼル留分であり、前記第3生成物留分が第2塔底留分である、上記1に記載の方法。
4.前記効果的な水素化精製条件が、約0.3hr−1〜約5.0hr−1のLHSV、約500psig(約3.4MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の全圧力、及び約650゜F(約343℃)〜約800゜F(約427℃)の温度を含む、上記1〜3のいずれかに記載の方法。
5.前記効果的な水素化精製条件が、前記水素化精製の間に消費される水素の約2倍〜約5倍の水素の量を提供する処理ガス比を含む、上記4に記載の方法。
6.前記効果的な水素化分解条件が、約200℃〜約450℃の温度、約5barg(約0.5MPag)〜約300barg(約30MPag)の水素圧、約0.05hr−1〜約10hr−1のLHSV、及び前記水素化分解の間に消費される水素の約2倍〜約15倍の水素処理ガス比を含む、上記3〜5のいずれかに記載の方法。
7.前記第2生成物留分の前記硫黄含有量が、前記第1生成物留分の前記硫黄含有量より少なく、前記第3生成物留分の前記硫黄含有量が、前記第1塔底留分の前記硫黄含有量より少ない、上記1〜6のいずれかに記載の方法。
8.前記隔壁高さが、前記第2生成物留分が前記第1生成物留分に相当する材料の約1重量%以下を含有するように選択される、上記1〜7のいずれかに記載の方法。
9.前記脱ろう触媒が10員環の1−Dモレキュラーシーブを含む、上記2及び4〜8のいずれかに記載の方法。
10.前記脱ろうされた塔底部の分留に先だって、効果的な水素化仕上げ条件の下で前記脱ろうされた塔底留分を水素化仕上げすることを更に含み、前記効果的な水素化仕上げ条件が、約125℃〜約425℃の温度、約500psig(約3.4MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の全圧力、約0.1hr−1〜約5hr−1のLHSV、及び前記水素化仕上げの間に消費される水素の約2倍〜約5倍の水素処理ガス比を含む、上記2及び4〜9のいずれかに記載の方法。
11.前記効果的な接触脱ろう条件が、約280℃〜約380℃の温度、約300psig(約2.1MPag)〜約3000psig(約20.7MPag)の圧力、約0.1hr−1〜約5.0hr−1のLHSV、及び前記脱ろうの間に消費される水素の約2倍〜約15倍の水素処理ガス比を含む、上記2及び4〜10のいずれかに記載の方法。
12.次の事項:前記第2生成物留分の前記曇り点が前記第1生成物留分の前記曇り点よりも少なくとも約10℃低い;前記第1生成物留分の前記硫黄含有量が約15wppm以下である;前記第2塔底留分の前記流動点が前記第1塔底留分の前記流動点よりも少なくとも約10℃低い;の1つ以上が生ずる、上記1〜11のいずれかに記載の方法。
13.前記第2生成物留分及び前記第2塔底留分が、前記水素化処理段階にリサイクルされない、上記1、2及び7〜12のいずれかに記載の方法。
14.前記第2の効果的な水素化分解条件が、約200℃〜約450℃の温度、約5barg(約0.5MPag)〜約300barg(約30MPag)の水素圧、約0.05hr−1〜約10hr−1のLHSV、及び前記水素化分解の際に消費される水素の約2倍〜約15倍の水素処理ガス比を含む、上記3〜8及び12のいずれかに記載の方法。
15.前記塔底留分の前記部分の水素化分解の前又は後のいずれかに、前記塔底留分の前記部分の水素化精製、脱ろう、及び/又は水素化仕上げを更に含む、上記3〜8、12及び14のいずれかに記載の方法。