特許 5878056 ハードコート基材及びそれを用いた透明導電性フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5878056

(24)【登録日】2016年2月5日

(45)【発行日】2016年3月8日

(54)【発明の名称】ハードコート基材及びそれを用いた透明導電性フィルム

(51)【国際特許分類】

   B32B 7/02 20060101AFI20160223BHJP

   B32B 9/00 20060101ALI20160223BHJP

   H01B 5/14 20060101ALI20160223BHJP

   C23C 14/34 20060101ALI20160223BHJP

【ＦＩ】

   B32B7/02 103

   B32B9/00 A

   H01B5/14 A

   H01B5/14 B

   C23C14/34 N

【請求項の数】4

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2012-72314(P2012-72314)

(22)【出願日】2012年3月27日

(65)【公開番号】特開2013-202844(P2013-202844A)

(43)【公開日】2013年10月7日

【審査請求日】2014年12月17日

(73)【特許権者】

【識別番号】000005810

【氏名又は名称】日立マクセル株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000040

【氏名又は名称】特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ

(72)【発明者】

【氏名】光本 欣正

【審査官】 岸 進

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００９−０３１７６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０２５０６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−０８４０７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特許第４３６４９３８（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 国際公開第２０１０／１４０２７５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１２／０３６５２７（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｃ２３Ｃ１４／００−１４／５８

Ｈ０１Ｂ ５／００− ５／１６

Ｇ０２Ｂ １／１０− １／１８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明導電層と、ハードコート基材とを含む透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層は、パターニングされており、
前記ハードコート基材は、透明基材と、易接着層と、屈折率調整層と、低屈折率層とをこの順で含み、
前記低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．３５〜１．４５であり、
前記低屈折率層の厚さが、５〜３０ｎｍであり、
前記屈折率調整層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．６０〜１．９０であり、
前記屈折率調整層の厚さが、０．３〜５μｍであり、
前記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．５６〜１．７０であり、
前記透明導電層は、前記低屈折率層の上に配置され、
前記透明導電層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．８〜２．３であり、
前記透明導電層の厚さが、１０〜３０ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。

【請求項2】

前記透明導電層からなるパターン部の反射色度と、前記透明導電層が除去された非パターン部の反射色度との色差（△Ｅ）が、５以下である請求項１に記載の透明導電性フィルム。

【請求項3】

前記屈折率調整層は、金属酸化物と紫外線硬化型樹脂とからなり、前記金属酸化物は、酸化ジルコニウム又は酸化チタンである請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。

【請求項4】

前記透明基材の、前記屈折率調整層が形成されている側とは反対側に、アンチブロッキング性を有する機能付与層が更に配置されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、パターニングされた透明導電性フィルムのパターン部と非パターン部とのパターニング痕を不可視にし、かつ干渉ムラが少なく、タッチパネル用途において見栄えの良い透明導電性フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

タッチパネルには検出方法の違いにより、抵抗膜方式、静電容量方式、光学式、超音波方式等がある。中でも近年、スマートフォンやタブレット型パーソナルコンピュータ等においてマルチタッチが可能な静電容量方式のタッチパネルの市場が増大している。静電容量方式、特に投影型のタッチパネルは、パターニングされた透明導電性フィルムが対になって構成されており、タッチした部分の静電容量の変化を検知して位置情報を検出する方式である。静電容量方式に使用される透明導電性フィルムは透明導電層を有するパターン部と非パターン部とが存在することとなり、そのため、パターン部と非パターン部とで膜構成が異なることから、目視にてパターニング痕が認められ、タッチパネルのような表示素子として見た場合に見栄えがよくないという問題点があった。

【0003】

上記問題に対し、特許文献１では、透明導電層に少なくとも２種のアンダーコート層を配置し、それらのアンダーコート層の屈折率及び厚さをそれぞれ特定の値に設定することで、表示素子としての見栄えを改良した透明導電性フィルムが提案されている。

【0004】

また、特許文献２では、透明導電層にハードコート層及び特定の屈折率、厚さに設定した中間層を設けることで、同様に表示素子として見栄えの良い透明導電性フィルムが提案されている。

【0005】

また、特許文献３では、透明導電膜を構成するハードコートの屈折率を調整することで、パターニングされた透明導電膜であってもパターン形状を目立たなくする透明導電性フィルムが提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特許第４６６７４７１号公報

【特許文献2】特開２０１２−２５０６６号公報

【特許文献3】特開２０１０−２０８１６９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかし、特許文献１では透明基材フィルムから第１層目のアンダーコート層の屈折率が１．５〜１．７とあり、その屈折率の範囲では透明導電層のパターニング処理を行った際にパターン部と非パターン部の色差（△Ｅ）の改善が不十分である。また、特許文献１の請求項１には、透明なフィルム基材から最も離れたアンダーコート層も透明導電層と同様にパターン化されている、と記載されている。これはパターニング工程が少なくとも２工程必要となり、工程の複雑化やコストアップが懸念されるだけでなく、アンダーコート層がパターニングされずに残っていると、パターン部と非パターン部での色差が十分に改善されないことを示唆している。更に、アンダーコート層を含めた透明導電層のトータルの光学的厚みが２０８〜５５４ｎｍとあり、透明導電処理層の反対面にハードコート等の機能付与層を形成した場合、両面の厚みバランスが不均一となりやすく、透明導電性フィルムをアニール処理するとフィルムのカールが発生してしまいフィルム加工時の問題が懸念される。

【0008】

一方、特許文献２では、透明基材フィルム上にハードコート層、中間層及び錫ドープ酸化インジウム層（ＩＴＯ層）を積層することで見栄えが改良されるとあるが、ハードコート層、中間層、及び裏面のハードコート層を含めると少なくとも３層のコーティング工程が必要となり、コスト面を考えると問題となり得る。また、ＩＴＯ層をはじめとする透明導電層の形成時には、ＩＴＯ層の下に密着性の向上及び視認性の向上のために酸化ケイ素等の低屈折率層が形成されることが多いが、上記構成を想定した場合、十分にパターン部と非パターン部との色差が改善されるとは言い難い。

【0009】

また、特許文献３では、透明導電膜、アンダーコート層、ハードコート層、透明基板の順に積層された透明導電膜及びアンダーコート層の表面を覆う被覆層を備えた透明面状体において、ハードコート層の屈折率を最適化することで透明導電膜のパターン形状を目立たなくするとある。具体的にはハードコート層の屈折率を１．６０以上１．８０以下にすることでパターン形状の視認性の改善を図っているが、一般的に基板上の屈折率を高屈折率化すると、基板との屈折率差が大きくなり、塗膜−基板間での光干渉による干渉ムラが目立ちやすくなる。そのため、特許文献３の実施例に明記されているような一般的な屈折率の易接着層を有する透明基板を用いた場合に、上記透明面状体を表示素子の部材として使用すると外観不良をもたらすことが懸念される。

【0010】

そこで、本発明では、上記従来技術の問題点を解決し、透明導電層のパターニング形状が目立たず、表示素子とした場合にも非常に見栄えの良い透明導電性フィルムを低コストで提供するものである。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明のハードコート基材は、透明基材と、易接着層と、屈折率調整層とをこの順で含むハードコート基材であって、前記屈折率調整層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．６０〜１．９０であり、前記屈折率調整層の厚さが、０．３〜５μｍであり、前記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．５６〜１．７０であることを特徴とする。

【0012】

また、本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層と、ハードコート基材とを含む透明導電性フィルムであって、前記透明導電層は、パターニングされており、前記ハードコート基材は、透明基材と、易接着層と、屈折率調整層と、低屈折率層とをこの順で含み、前記低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．３５〜１．４５であり、前記低屈折率層の厚さが、５〜３０ｎｍであり、前記屈折率調整層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．６０〜１．９０であり、前記屈折率調整層の厚さが、０．３〜５μｍであり、前記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．５６〜１．７０であり、前記透明導電層は、前記低屈折率層の上に配置され、前記透明導電層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が、１．８〜２．３であり、前記透明導電層の厚さが、１０〜３０ｎｍであることを特徴とする。

【発明の効果】

【0013】

本発明によれば、透明導電層のパターニング形状が目立たず、表示素子とした場合にも非常に見栄えの良い透明導電性フィルムを低コストで提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本発明の透明導電性フィルムの一例を示す模式断面図である。

【図2】本発明の透明導電性フィルムの他の例を示す模式断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明のハードコート基材は、透明基材と、易接着層と、屈折率調整層とをこの順で備え、上記屈折率調整層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．９０であり、上記屈折率調整層の厚さが０．３〜５μｍであり、上記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５６〜１．７０であることを特徴とする。

【0016】

また、本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層と、ハードコート基材とを備え、上記ハードコート基材は、透明基材と、易接着層と、屈折率調整層とをこの順で備え、上記屈折率調整層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．９０であり、上記屈折率調整層の厚さが０．３〜５μｍであり、上記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５６〜１．７０であり、上記透明導電層は、上記屈折率調整層の上に配置され、上記透明導電層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８〜２．３であり、上記透明導電層の厚さが１０〜３０ｎｍであることを特徴とする。

【0017】

上記ハードコート基材を用いた上記透明導電性フィルムは、透明導電層のパターニング形状が目立たず、表示素子とした場合にも非常に見栄えの良いものとなる。

【0018】

以下、図面に基づき本発明を詳細に説明する。

【0019】

図１は、本発明の第１の形態の透明導電性フィルムの一例を示す模式断面図である。図１において、本発明の透明導電性フィルム１０は、透明基材１１、易接着層１２、屈折率調整層１３、低屈折率層１４及び透明導電層１５がこの順に積層されて構成されている。また、透明導電層１５は、パターニングされ、透明導電層１５からなるパターン部１５ａと、透明導電層１５が除去された非パターン部１５ｂとから構成されている。図１では、透明基材１１、易接着層１２及び屈折率調整層１３が本発明のハードコート基材に該当する。

【0020】

また、図２は、本発明の第２の形態の透明導電性フィルムの他の例を示す模式断面図である。図２において、本発明の透明導電性フィルム２０は、透明基材２１、易接着層２２、屈折率調整層２３、低屈折率層２４及び透明導電層２５がこの順に積層されて構成され、更に透明基材２１の屈折率調整層２３が形成されている側とは反対側に機能付与層２６が配置されている。また、透明導電層２５は、パターニングされ、透明導電層２５からなるパターン部２５ａと、透明導電層２５が除去された非パターン部２５ｂとから構成されている。図２では、透明基材２１、易接着層２２及び屈折率調整層２３が本発明のハードコート基材に該当する。図１と図２の相違点は、機能付与層２６の有無のみであり、その他の構成は同一である。

【0021】

＜透明基材＞
上記透明基材としては、その種類は特に限定はされないが、通常は透明性を有する樹脂フィルムが用いられる。また、上記樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、トリアセテートセルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられるが、コスト面や屈折率調整の観点からポリエステル系樹脂、中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が好ましい。上記透明基材の厚さも特に限定されないが、透光性と強度のバランス等を考慮すると、１０〜２５０μｍが好ましく、更に好ましくは２０〜１８８μｍである。

【0022】

＜易接着層＞
上記透明基材の表面には、その上に塗工する塗膜に対する密着性を付与するために、易接着層が形成されている。上記易接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．５６〜１．７０の範囲に設定する必要があり、より好ましくは１．６０〜１．６８である。本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層のパターンを不可視化するために、高屈折率の屈折率調整層を透明基材に塗工する必要があるが、透明基材の易接着層の屈折率が１．５６より低いと塗工される屈折率調整層との屈折率差が大きくなり、干渉ムラが目立ちやすくなり、上記屈折率が１．７０を超えると透明基材との屈折率差が大きくなり好ましくない。

【0023】

上記易接着層としては、予め透明基材の製膜時に加工されたものであってもよいし、別途例えばウエットコーティング等の方法により易接着層を塗工して形成したものであってもよい。透明基材の上に別途上記易接着層を形成する場合、その易接着層に用いられる材料としては、通常例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂等が用いられる。また、上記易接着層の高屈折率化を目的に、易接着層に酸化チタン等の高屈折率の材料を配合させてもよく、易接着層に水性のポリエステル樹脂と水溶性の無機キレート化合物を配合させてもよく、更に屈折率の高いフルオレン骨格を持つポリエステル樹脂を透明基材に塗工して易接着層を形成してもよい。

【0024】

上記易接着層の厚さは、特に限定されず、通常５０〜１５０ｎｍ程度である。

【0025】

＜屈折率調整層＞
上記易接着層の上には、屈折率調整層が形成されている。上記屈折率調整層の５５０ｎｍにおける屈折率は、１．６０〜１．９０の範囲に設定する必要があり、より好ましくは１．６５〜１．８０である。上記範囲に上記屈折率調整層の屈折率を設定することにより、本発明の透明導電性フィルムにおいて、透明導電層のパターニングによるパターン部の有無による色差を低減することができる。上記屈折率が１．６０を下回ると、パターン部・非パターン部の色差を低減しきれず、また、１．９０よりも高いと透明基材及び易接着層との屈折率差が大きくなり、屈折率調整層の干渉ムラが目立ち、透明導電性フィルムとした時に外観上問題となる。

【0026】

また、上記屈折率調整層の厚さは、０．３〜５μｍに設定する必要があり、より好ましくは０．５〜３μｍである。上記厚さが０．３μｍより薄いと、ハードコート層としての機能が十分に発現しないだけでなく、透明導電層の結晶化・安定化を目的として１５０℃、３０分程度の条件でアニール処理をすることがあるが、その際に透明基材からの低分子量成分の溶出を上記屈折率調整層がブロックできず、本発明の透明導電性フィルムの光学的な劣化（特にヘイズ増大等）をもたらすことがある。また、上記厚さが５μｍよりも厚いと、透光性の低下やヘイズの増大を招いたり、作業性やコスト面で不都合が生じるため好ましくない。

【0027】

上記屈折率調整層は、高屈折率が求められるため、高屈折率フィラーである酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物を含有することが好ましい。また、上記金属酸化物と紫外線硬化型樹脂とを組み合わせた塗布液を上記易接着層の上に塗布した後、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等により紫外線を照射し、塗膜を硬化させることで屈折率調整層を形成することが好ましい。即ち、製造工程の効率化のため、上記屈折率調整層はウエットコーティング法により形成されることが好ましい。上記ウェットコーティングの方法としては特に限定されないが、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、リバースコート、グラビアコート、マイクログラビアコート等の公知の方法により塗工される。

【0028】

上記紫外線硬化型樹脂の材料としては、通常、ラジカル重合可能な二重結合を有する化合物を含む材料が用いられる。例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基を有するモノマー、プレポリマー、ポリマーを用いることができる。これらは単独でも二種類以上を組み合わせても用いることができ、中でも（メタ）アクリロイル基を有するモノマー、プレポリマーを用いることが好ましい。また、上記紫外線硬化型樹脂としては、生産性及び硬度の両立の観点より、ラジカル重合可能な不飽和基（二重結合）を２つ以上有する多官能樹脂を用いることが好ましい。

【0029】

＜低屈折率層＞
上記屈折率調整層と上記透明導電層との間には、低屈折率層が配置されていることが好ましい。上記低屈折率層を配置することにより、光学的な屈折率調整層として機能させることができるだけでなく、その上に積層される透明導電層との密着性の改善効果も得ることができる。上記低屈折率層において、その波長５５０ｎｍにおける屈折率を１．３５〜１．４５とし、その厚さを５〜３０ｎｍとすれば、上記効果が期待できる。

【0030】

上記低屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ケイ素、フッ化アルミニウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ナトリウム等を使用できる。また、上記低屈折率層は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等により形成することができ、中でもスパッタリング法による製膜が製膜速度が速いなどの生産性の観点から好ましい。

【0031】

＜透明導電層＞
上記低屈折率層の上には、上記透明導電層が形成されている。上記低屈折率層を配置しない場合には、上記屈折率調整層の上に直接上記透明導電層が形成される。上記透明導電層を構成する材料としては、透明性に優れ、導電性が高ければ特に限定されないが、例えば、酸化錫、インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）等の金属酸化物等を使用できるが、特に透明性及び導電性が高いＩＴＯが好ましい。上記透明導電層は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等により形成することができ、中でもスパッタリング法による製膜が製膜速度が速いなどの生産性の観点から好ましい。

【0032】

また、上記透明導電層については、前述のように、透明導電層の結晶化・安定化を目的として１５０℃で３０分程度の条件でアニール処理をすることができる。

【0033】

上記透明導電層の屈折率は、上記透明導電層を構成する材料によって決定され、上記透明導電層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．８〜２．３の範囲となり、設定した屈折率調整層の屈折率からパターン部、非パターン部の色差抑制効果を発現するためには、上記透明導電層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．９〜２．２に設定することが好ましい。

【0034】

また、上記透明導電層の厚さは、１０〜３０ｎｍが好ましく、より好ましくは１２〜２５ｎｍである。上記厚さが１０ｎｍより薄いと、所望の抵抗率が得られず電極としての特性が不十分となり、３０ｎｍより厚いと透光性が低下し、光学特性が不十分となる傾向がある。

【0035】

上記透明導電層は、図１及び図２に示すように、その目的に応じて、所望のパターンにパターニングして用いることができる。そのパターニングの方法としては、例えば、透明導電層にフォトレジストをパターン状に塗布し、エッチングを行うフォトリソグラフィー法等が用いられる。図１及び図２では、透明導電層のパターニング後の状態としては、低屈折率層が残存する状態となっているが、パターニングの際に低屈折率層を除去してもよい。

【0036】

上記透明導電層からなるパターン部の反射色度と、上記透明導電層が除去された非パターン部の反射色度との色差（△Ｅ）は、５以下であることが好ましく、より好ましくは３以下である。△Ｅが５より大きくなると明らかにパターン部と非パターン部とが認識でき、本発明の透明導電性フィルムを表示素子に組み込んだ場合見栄えを損なうおそれがある。

【0037】

ここで、色差（△Ｅ）は、Ｌ^*ａ^*ｂ^*色度図に基づき下記式により算出される。
△Ｅ＝（△Ｌ^*2＋△ａ^*2＋△ｂ^*2）^1/2

【0038】

＜機能付与層＞
上記透明基材の、上記屈折率調整層が形成されている側とは反対側には、図２に示すように機能付与層を更に配置してもよい。上記機能付与層としては、例えば、ハードコート層、ＡＮ（アンチニュートンリング）層、ＡＦＰ（防指紋）層、反射防止層等がある。

【0039】

また、本発明の透明導電性フィルムを作製する際に、工程簡略化のため保護ラミネートフィルムを使用しない場合、フィルムがブロッキング（貼り付き）することなく巻き取れることが好ましい。そのため、機能付与層はアンチブロッキング性を有することが好ましい。

【0040】

例えば、ハードコート層のような平滑な塗膜を透明基材の両面に塗工した場合、フィルムの巻き取り時にブロッキング（貼り付き）を発生して巻き取ることが困難となる場合がある。このため、通常は片側の塗工面に保護ラミネートフィルムのようなものを貼り合せて巻き取りを可能としている。しかし、保護ラミネートフィルムを貼り合せた場合、透明導電性フィルムの製造加工に一工程余分に加わることになり、コスト増大の懸念になる。そのため、上記機能付与層にアンチブロッキング性と呼ばれる塗膜表面に微小な凹凸形状を有する機能を付与することで、塗膜間の貼り付きを抑えることができ、巻き取り時に保護ラミネートフィルムのようなものを介さずともブロッキングなく巻取りが可能となる。

【0041】

上記機能付与層にアンチブロッキング性を付与する方法については特に限定されないが、特定のサイズのフィラーを含有した塗料を塗工し、乾燥・硬化時に機能付与層の表面にフィラーをブリードアウトさせ、微小な凹凸構造を形成させてアンチブロッキング性を付与させる方法がある。また、物性が異なり相溶性に乏しい樹脂成分を複数配合し、乾燥時に相分離を発生させ、樹脂成分が塗膜表面に析出し、上記機能付与層に凹凸を形成することでアンチブロッキング性を付与させる方法等もある。

【0042】

上記機能付与層は、前述した透明導電層のアニール処理の際の透明基材からの低分子量成分の溶出を抑制する機能も有する。また、上記機能付与層には、アニール処理の際の透明導電性フィルムのカール抑制の効果も期待できる。そのため、透明導電層側の屈折率調整層の厚さをａ、反対側の機能付与層の厚さをｂとした場合、厚さ構成としては２ａ＞ｂ＞０．５ａの範囲が好ましい。上記範囲外の厚さ設定になると、両塗膜の熱による収縮のバランスが大きく崩れフィルムのカールが懸念される。

【0043】

上記機能付与層は、製造工程の効率化のため、前述のウェットコーティング法による形成することが好ましい。

【実施例】

【0044】

＜屈折率調整塗料の作製＞
下記のようにして、屈折率調整塗料１〜４を作製した。

【0045】

（屈折率調整塗料１）
平均粒径５ｎｍの酸化ジルコニウムの分散液“ＳＺＲ−Ｋ”（堺化学社製、固形分濃度：３０質量％）を１００質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート“ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ”（日本化薬社製の紫外線硬化型樹脂）を１０質量部、及び光重合開始剤“イルガキュア１８４”（ＢＡＳＦ社製）を０．３質量部、をディスパーにて配合し、屈折率調整塗料１を作製した。作製した屈折率調整塗料１の硬化物の５５０ｎｍにおける屈折率を測定したところ１．７１であった。

【0046】

（屈折率調整塗料２）
“ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ”の使用量を７．５質量部、“イルガキュア１８４”の使用量を０．２質量部に変更した以外は、屈折率調整塗料１と同様にして屈折率調整塗料２を作製した。作製した屈折率調整塗料２の硬化物の５５０ｎｍにおける屈折率を測定したところ１．７５であった。

【0047】

（屈折率調整塗料３）
超微粒子酸化チタン“ＴＴＯ−Ｖ−３”（石原産業社製）を３０質量部、分散剤として“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ３６０００”（日本ルーブリゾール社製）を５質量部、プロピレングルコールモノメチルエーテルを６５質量部、をポリ容器に量りとり、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを添加して酸化チタンの平均粒径が３０ｎｍになるようペイントシェーカ―（東洋精機社製）で分散を行い、最後にジルコニアビーズを濾過により除去して、酸化チタンスラリーを作製した。

【0048】

作製した上記酸化チタンスラリーを１００質量部、“ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ”を７質量部、“イルガキュア１８４”を０．３質量部、をディスパーにて配合し、屈折率調整塗料３を作製した。作製した屈折率調整塗料３の硬化物の５５０ｎｍにおける屈折率を測定したところ１．９２であった。

【0049】

（屈折率調整塗料４）
“ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ”を３０質量部、“イルガキュア１８４”を０．９質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）を７０質量部、をディスパーにて配合し、屈折率調整塗料４を作製した。作製した屈折率調整塗料４の硬化物の５５０ｎｍにおける屈折率を測定したところ１．５３であった。

【0050】

次に、上記屈折率調整塗料１〜４を用いて、下記のようにして透明導電性フィルムを作製した。

【0051】

（実施例１）
両面に易接着処理を施した透明基材である東レ社製のＰＥＴフィルム“ルミラーＱＴ−Ｄ０”（厚さ：１２５μｍ）の一方の低屈折率易接着層面（易接着層の屈折率：１．５８）にアンチブロッキングハードコート剤“Ｚ−７３９”（アイカ工業社製）を乾燥後の厚さが２μｍとなるようマイクログラビアコーターにて塗工し、高圧水銀灯にて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射し硬化させ、機能付与層としてアンチブロッキングハードコート層を形成し、アンチブロッキングハードコート処理フィルムを作製した。

【0052】

上記アンチブロッキングハードコート処理フィルムの、アンチブロッキングハードコート層を形成した面とは反対側の高屈折率易接着層面（易接着層の屈折率：１．６５）の上に屈折率調整塗料１を乾燥後の厚さが２μｍとなるよう塗工し、高圧水銀灯にて紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の光量で照射し硬化させて屈折率調整層を形成し、屈折率調整ハードコートフィルムＡを作製した。

【0053】

（実施例２）
屈折率調整塗料１に代えて、屈折率調整塗料２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、屈折率調整ハードコートフィルムＢを作製した。

【0054】

（実施例３）
実施例１にて作製した屈折率調整ハードコートフィルムＡの屈折率調整層の上にマグネトロンスパッタリング法にて酸化ケイ素を積層して、低屈折率層（屈折率：１．４０、厚さ：１０ｎｍ）を形成した。その後、上記低屈折率層の上にマグネトロンスパッタリング法にてインジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）を積層して、透明導電層（屈折率：２．０、厚さ：１５ｎｍ）を形成した後、その透明導電層に対してフォトリソグラフィー法にてパターニング処理を行い、パターン部と非パターン部を有する透明導電性フィルムＡを作製した。

【0055】

（実施例４）
屈折率調整ハードコートフィルムＡに代えて、屈折率調整ハードコートフィルムＢを用いたこと以外は、実施例３と同様にして透明導電性フィルムＢを作製した。

【0056】

（実施例５）
両面に易接着処理を施した透明基材として帝人デュポンフィルム社製のＰＥＴフィルム“ＫＥＢ−０３Ｗ”（厚さ：１２５μｍ、両面の易接着層の屈折率：１．６０）を用いたこと以外は、実施例１及び３と同様にして透明導電性フィルムＣを作製した。

【0057】

（実施例６）
透明導電層の厚さを２０ｎｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして透明導電性フィルムＤを作製した。

【0058】

（比較例１）
屈折率調整塗料１に代えて、屈折率調整塗料３を用いたこと以外は、実施例１と同様にして屈折率調整ハードコートフィルムＣを作製した。

【0059】

（比較例２）
両面に易接着処理を施した透明基材として東レ社製のＰＥＴフィルム“ルミラーＵ３４”（厚さ：１２５μｍ、両面の易接着層の屈折率：１．５１）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして屈折率調整ハードコートフィルムＤを作製した。

【0060】

（比較例３）
屈折率調整ハードコートフィルムＡに代えて、屈折率調整ハードコートフィルムＣを用いたこと以外は、実施例３と同様にして透明導電性フィルムＥを作製した。

【0061】

（比較例４）
屈折率調整塗料１に代えて、屈折率調整塗料４を用い、両面に易接着処理を施した透明基材として東レ社製のＰＥＴフィルム“Ｕ４８”（厚さ：１２５μｍ、両面の易接着層の屈折率：１．５８）を用いたこと以外は、実施例１及び３と同様にして透明導電性フィルムＦを作製した。

【0062】

（比較例５）
屈折率調整ハードコートフィルムＡに代えて、屈折率調整ハードコートフィルムＤを用いたこと以外は、実施例３と同様にして透明導電性フィルムＧを作製した。

【0063】

（比較例６）
屈折率調整層の厚さを０．１μｍとしたこと以外は、実施例１及び３と同様にして透明導電性フィルムＨを作製した。

【0064】

（比較例７）
アンチブロッキングハードコート剤“Ｚ−７３９”に代えて、屈折率調整塗料４を用いて機能付与層を形成し、実施例１及び３と同様にして透明導電性フィルムを作製しようとしたが、屈折率調整層の塗工の巻き取りの際にフィルムの貼り付きが発生し、その後のフィルムの製造ができなかった。

【0065】

上記実施例１〜６及び比較例１〜６の各フィルムの各層の屈折率は下記のように測定した。

【0066】

＜屈折率の測定＞
屈折率調整層の屈折率については、各屈折率調整塗料を１００μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡社製の“コスモシャインＡ４１００”）の易接着未処理面にバーコーターを用いて乾燥後の膜厚が５００ｎｍになるよう塗工、乾燥させた後、紫外線を高圧水銀灯にて３００ｍＪ／ｃｍ²の光量にて照射して塗膜を硬化させた。次に、塗膜を形成した側とは反対のフィルム面の全面に黒テープを貼り付け、反射分光膜厚計（大塚電子社製の“ＦＥ−３０００”）を用いて塗膜面側の絶対反射率を測定し、反射スペクトルから屈折率を測定した。

【0067】

また、透明基材の易接着層の屈折率については、易接着層が形成された側とは反対側のフィルム面の全面に黒テープを貼付け、上記と同様にして上記反射分光膜厚計を用いて測定した。透明基材の両面に易接着層が形成されている場合も一方のフィルム面に黒テープを貼り付けて上記と同様にして易接着層の屈折率を測定した。

【0068】

また、透明導電層及び低屈折率層の屈折率については、上記ＰＥＴフィルムにマグネトロンスパッタリング法にて厚さが２０ｎｍになるよう各層を形成した後、上記と同様の方法にて各層の屈折率を測定した。

【0069】

次に、上記実施例１〜６及び比較例１〜６で形成した各フィルムの評価を下記のとおり行った。

【0070】

＜反射色度の測定＞
作製した各透明導電性フィルムの透明導電層を形成した面とは反対面に黒テープを貼り付け、マルチチャンネル型分光光度計（大塚電子社製の“ＭＣＰＤ−３７００”）を用いて、透明導電層のパターン部と非パターン部の反射スペクトルを測定し、色演算モード（光源：Ｄ６５、視野：２度）にて反射色のＬ^*ａ^*ｂ^*をそれぞれ解析し、前述した下記式により透明導電層のパターン部と非パターン部との色差△Ｅを計算した。
△Ｅ＝（△Ｌ^*2＋△ａ^*2＋△ｂ^*2）^1/2

【0071】

＜フィルムの外観＞
作製した各フィルムを、３波長蛍光灯（光量：３０００ＬＵＸ）を備えた検反台に載置して目視にて外観を観察し、ハードコートフィルム単体での干渉ムラ及び透明導電層に及ぼす屈折率調整層の干渉ムラの影響について下記基準で下記のように評価した。

【0072】

干渉ムラによる色ムラが非常に薄い場合：良好
干渉ムラによる色ムラがやや判別できる場合：不十分
干渉ムラによる色ムラがはっきりと判別できる場合：不可

【0073】

＜加熱後のカール性＞
作製した各フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズに切り出し、切り出したものを１５０℃に加温した恒温槽に３０分放置した後に取り出し、取り出してから２時間後のフィルムカールの高さを４隅でそれぞれ測定し、最も数値の高い点をカールの大きさとした。また、実施例３〜６及び比較例３〜６の透明導電性フィルムの場合、透明導電層側を上にした時に凸状にカールした場合はカールの大きさをマイナス（−）表記とした。

【0074】

＜フィルム加工性＞
各フィルムの作製時において、屈折率調整塗料をマイクログラビアコーターにて塗工した際、及び作製したフィルムを巻き取りした際の加工性について評価した。具体的には、下記基準により、下記のように評価した。

【0075】

不具合なく、塗工・巻き取りが可能であった場合：良好
一部、塗工・巻き取り時に問題があった場合：不十分
塗工・巻取りが不可能であった場合：不可

【0076】

以上の評価結果を表１〜表４に示す。また、表１〜表４では、各フィルムの構成も合わせて示した。

【0077】

【表1】

【0078】

【表2】

【0079】

【表3】

【0080】

【表4】

【0081】

表１から、実施例１及び２では、易接着層の屈折率及び屈折率調整層の屈折率を最適化することで外観的にも干渉ムラの少ない屈折率調整ハードコートフィルムが得られたことが分かる。

【0082】

また、表２から、実施例３〜６では、透明導電層のパターン部と非パターン部との反射色差が抑えられたことが分かる。その結果、実施例３〜６の透明導電性フィルムではパターニング痕の不可視化が確認できた。また、実施例３〜６では、外観については易接着層と屈折率調整層の屈折率を最適化することにより干渉ムラも抑制することができたことが分かる。更に、実施例３〜６では、加熱後のカールも抑制され、フィルム加工性も問題のない透明導電性フィルムが得られたことが分かる。

【0083】

一方、表３から、比較例１及び２では、易接着層の屈折率及び屈折率調整層の屈折率が最適でなく、外観を確認したところ、干渉ムラによる色ムラがはっきりと判別でき、干渉ムラが悪化したことが分かる。

【0084】

比較例３では、屈折率調整層の屈折率が高すぎるため、透明基材及び易接着層との屈折率差が大きくなり、透明導電層を積層した場合でも干渉ムラによる色ムラがはっきりと判別された。

【0085】

比較例４では、屈折率調整層の屈折率が低すぎるため、パターン部と非パターン部との反射色差が５を超え、パターニング痕が十分に認識された。

【0086】

比較例５では、易接着層の屈折率が低すぎるため屈折率調整層との屈折率差が大きくなり、透明導電層を積層した場合でも干渉ムラによる色ムラがはっきりと判別された。

【0087】

比較例６では、屈折率調整層の厚さが薄すぎるため、反対側の機能付与層との厚さバランスが崩れ加熱処理後にフィルムが大きくカールした。また、ハードコート性も不十分であり、フィルム走行時に若干キズが入り、フィルム加工性も不十分であった。

【0088】

比較例７では、機能付与層にアンチブロッキング性のない材料を用いたため、前述のとおりフィルムの製造ができなかったため、比較例７については表４には示していない。

【符号の説明】

【0089】

１０、２０ 透明導電性フィルム
１１、２１ 透明基材
１２、２２ 易接着層
１３、２３ 屈折率調整層
１４、２４ 低屈折率層
１５、２５ 透明導電層
１５ａ、２５ａ パターン部
１５ｂ、２５ｂ 非パターン部
２６ 機能付与層

【図1】

【図2】