特許5881681酸化物型半導体材料及びスパッタリングターゲット

発明の名称　酸化物型半導体材料及びスパッタリングターゲット

出願人　三井金属鉱業株式会社　（識別番号 6183）

　　　　特許公開件数ランキング 547 位（50件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 324 位（82件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5881681

公報発行日　2016年3月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5881681

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