特許 5889851 流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステム及び方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5889851

(24)【登録日】2016年2月26日

(45)【発行日】2016年3月22日

(54)【発明の名称】流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステム及び方法

(51)【国際特許分類】

   B01J 8/24 20060101AFI20160308BHJP

   C10G 11/18 20060101ALI20160308BHJP

【ＦＩ】

   B01J8/24 301

   C10G11/18

【請求項の数】1

【全頁数】20

(21)【出願番号】特願2013-184980(P2013-184980)

(22)【出願日】2013年9月6日

(62)【分割の表示】特願2007-505126(P2007-505126)の分割

【原出願日】2005年3月23日

(65)【公開番号】特開2014-36955(P2014-36955A)

(43)【公開日】2014年2月27日

【審査請求日】2013年9月6日

(31)【優先権主張番号】10/806,563

(32)【優先日】2004年3月23日

(33)【優先権主張国】US

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】399016927

【氏名又は名称】ダブリュー・アール・グレイス・アンド・カンパニー−コネチカット

(74)【代理人】

【識別番号】110000741

【氏名又は名称】特許業務法人小田島特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】レニー・リー・アルビン

(72)【発明者】

【氏名】ジヨージ・ヤルリス

(72)【発明者】

【氏名】アルフレツド・フエルデイナンド・ジヨーダン

【審査官】 原 賢一

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０２−１２７３１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭５９−１２７６４２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭５６−０４３１２９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０１Ｊ ４／００−４／０４，８／００−８／４６，１９／００−１９／３２

Ｃ１０Ｇ １１／００−９９／００

Ｂ６５Ｇ ５３／００−５３／６６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

触媒及び／又は添加物を貯蔵しそして流動触媒分解ユニット内に装填するシステムであって、少なくも１種の触媒及び／又は添加物を第１の位置で貯蔵する貯蔵ビン、及び第１の位置から離れた第２の位置に置かれた装填ユニットであって貯蔵ビン及び流動触媒分解ユニットと選択的に連通する前記装填ユニットを備え、装填ユニットは装填ユニットを負圧にするための真空発生装置を備えて装填ユニット内に得られた真空が少なくも１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵ビンから引き出すようにすることができ、更に装填ユニットは装填ユニット中に引き入れられた少なくも１種の触媒及び／又は添加物の重量を測定することができ、少なくも１種の触媒及び／又は添加物が装填ユニットから流動触媒分解ユニットに移送されるように加圧することができ、装填ユニットが２以上の貯蔵ビンとの連通が可能であり、
ここで、装填ユニットは更に、装填ユニット及び装填ユニット内の触媒及び／もしくは添加物の１種の重量を測定するために複数のロードセル、及び、装填ユニットを収容するキャビネット、ここで装填ユニットは複数の脚の上に取り付けられ、脚の各々は共通の板材に固定され、板材はロードセル上に取り付けられ、そしてロードセルはキャビネットのベース上に取り付けられる、
を含む、前記システム。

【発明の詳細な説明】

【関連出願の相互参照】

【0001】

これは、その全体が参考文献としてここに取り入れられた２００４年３月２３日付、特許文献１の一部継続出願である。

【技術分野】

【0002】

本発明は、流動接触分解（ＦＣＣ）作業に使用される装置に関し、特にＦＣＣ作業を実施するために使用される設備内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステム及び方法に関する。

【背景技術】

【0003】

ＦＣＣユニットは、通常、大量の触媒資材（ｉｎｖｅｎｔｏｒｙ ｏｆ ｂｕｌｋ ｃａｔａｌｙｓｔ）を循環させることを含む。大量の触媒は、典型的に石油原料からナフサを作るような１次機能を行うために使用され、このナフサは更にガソリンに処理される。触媒と同じ流動化可能な粒状であることの多い添加物は、ＦＣＣユニットにより作られるある種の放出物、例えばＳＯｘ又はＮＯｘを減少させるような２次機能を行うために大量の循環触媒資材中に導入されることが多い。これら放出物は、分解された石油からの煤の堆積を焼くＦＣＣユニットの触媒再生装置において発生し、再生された触媒は循環触媒資材に戻される。これら添加物は、通常、ローダー（ｌｏａｄｅｒ）と呼ばれる注入装置を使用して再生装置に導入されることが普通である。ローダーは、消耗及び性能低下のような要因により必要となったとき、追加触媒として触媒を大量の資材に加えるためにも使用される。

【0004】

触媒及び／又は添加物のために使用されるローダーは、典型的にトランスファーポット、及びトランスファーポットの上方又は最寄りに置かれる貯蔵ホッパー又はサイロを備える。触媒及び／又は添加物は、通常は、真空移送のような適切な技術を使用して貯蔵ホッパーから貯蔵ビン（ｂｉｎ）に移送される。ローダーの運転中に、所定量の触媒及び／又は添加物を、貯蔵ホッパーからトランスファーポットに計量することができる。次いで、トランスファーポットが加圧され、トランスファーポット内の圧力に応答して触媒及び／又は添加物を再生装置内に注入することができる。この方法は、周期的に繰り返される。

【0005】

各サイクル中に計量されトランスファーポットに注入される触媒の量は、貯蔵ホッパーの総容積と比べて非常に小さい。言い換えれば、各サイクル中に比較的小さい投入量の触媒及び／又は添加物を計測するためにホッパー内に比較的大量の触媒及び／又は添加物が貯蔵されることが普通である。典型的な貯蔵ホッパーは、大量の触媒及び／又は添加物をその中に受け入れる必要のため比較的大きい。例えば、典型的な貯蔵ホッパーは、５フィート（１．５２４ｍ）以上の直径、及び１５フィート（４．５７２ｍ）以上の高さとすることができる。

【特許文献1】米国特許出願第１０／８０６，５６３号 明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

比較的大型の通常の貯蔵ホッパーは、ローダーを設置し得る位置の数が限定されることがある。この特徴は、空間の限定されることの多い精油所において特に不利である。ローダー（特に貯蔵ホッパー）を受け入れるためには比較的大きい面積が必要であるため、やむを得ずローダーを最適位置でないところに置かねばならない可能性がある。

【0007】

更に、ローダーは、一時に１種類の触媒及び／又は添加物を注入するためにしか使用できないので、各種類の触媒及び／又は添加物に対して専用の貯蔵ホッパーが必要である。換言すれば、触媒及び／又は添加物が別の種類の触媒及び／又は添加物と置き換えられるまで、トランスファーポットはその組み合わせられたホッパー内に貯蔵された触媒及び／又は添加物を注入するだけである。そこで、同時に又はほぼ同時に異なった種類の触媒及び／又は添加物を（続けざまに）装填することは、複数のローダーを使用してのみ達成される。追加の各ローダーは、購入、設置、運転、及び保守のために追加の時間、労力、及び費用に対する追加支出を必要とする。更に、各ローダーは精油所内の恐らくは貴重な空間を消費する。

【0008】

ある種の用途においては、触媒及び／又は添加物のトランスファーポットへの注入を容易にするために貯蔵ホッパーを加圧することがある。ホッパー内の加圧された空気は、いかなる量の触媒及び／又は添加物がトランスファーポットに加えられたかを測定し指示する計測に悪影響を与える可能性がある。更に触媒及び／又は添加物は、これらがホッパーに輸送され又は貯蔵されているとき、（通常「工場空気」と呼ばれる）精油所からの圧縮空気に暴露されることがある。工場空気は、触媒及び／又は添加物に悪影響を及ぼすことの有り得る水蒸気又はその他の汚染物質を含むことが多い。

【課題を解決するための手段】

【0009】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステムの好ましい実施例は、１種の触媒及び／又は添加物を収納している貯蔵ビンと連通している集塵装置、及び真空発生装置が１種の触媒及び／又は添加物を集塵装置内に吸引する集塵装置内の真空を作るように集塵装置と連通している（ｉｎ ｆｌｕｉｄ ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ）真空発生装置を備える。

【0010】

このシステムは、１種の触媒及び／又は添加物を集塵装置から受け入れるためのトランスファーポットも備える。トランスファーポットは、トランスファーポットと流動触媒分解ユニットとの間の圧力差に応答して１種の触媒及び／又は添加物が流動触媒分解ユニットに移送されるように流動触媒分解ユニット及び圧力空気源に連通されている。

【0011】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を装填するシステムの好ましい実施例は、少なくも１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵するためのビン、並びに貯蔵ビン及び流動触媒分解ユニットと選択的に連通する装填ユニット（ｌｏａｄｉｎｇ ｕｎｉｔ）を備える。装填ユニットは、装填ユニット内の得られた真空が少なくも１種の触媒及び／又は添加物をビンから吸引するように真空とすることができ、更に装填ユニットは少なくも１種の触媒及び／又は添加物が装填ユニットから流動触媒分解ユニットに移送されるように加圧することができる。

【0012】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を装填するためのシステムの他の好ましい実施例は、第１の触媒及び／又は添加物を貯蔵するための第１のビン、第２の触媒及び／又は添加物を貯蔵するための第２のビン、並びに第１と第２のビン及び流動触媒分解ユニットと連通する装填ユニットを備える。システムは、装填ユニットから第１のビンを選択的に隔離するための第１の弁、装填ユニットから第２のビンを選択的に隔離するための第２の弁、及び第２のビンを流動触媒分解ユニットから選択的に隔離するための第３の弁をも備える。

【0013】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を導入するためのシステムの好ましい実施例は、１種の触媒及び／又は添加物を収納している貯蔵ビンと連通している集塵手段、及び真空発生手段が１種の触媒及び／又は添加物を集塵手段内に引き入れるように集塵手段と連通する真空発生手段を備える。システムは、集塵手段から１種の触媒及び／又は
添加物を受け入れそして１種の触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に注入するための手段も備える。

【0014】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を導入するための好ましい方法は、装填ユニット内に真空を発生させ、真空に応答して１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵ビンから装填ユニット内に引き入れ、装填ユニットを加圧し、更に装填ユニットの加圧に応答して１種の触媒及び／又は添加物を流動触媒分解ユニット内に注入することを含む。

【0015】

流動触媒分解ユニット内に触媒及び／又は添加物を装填するための好ましい方法は、第１の位置において少なくも１種の触媒及び／又は添加物を貯蔵し、少なくも１種の触媒及び／又は添加物を第２の位置に置かれた装填ユニット内に真空で吸引し、更に少なくも１種の触媒及び／又は添加物を装填ユニットから流動触媒分解ユニット内に注入することを含む。

【0016】

流動体の流れの中に１種又はそれ以上の粒状物質を導入するためのシステムの好ましい実施例は、１種又はそれ以上の粒状物質を収納している少なくも１個の貯蔵ビンと連通する集塵手段を備える。システムは、１種又はそれ以上の粒状物質を真空により少なくも１個の貯蔵ビンから集塵手段内に引き入れるように集塵手段と連通する真空発生手段も備える。システムは、１種又はそれ以上の粒状物質が、真空により少なくも１個の貯蔵ビンから集塵手段内に引き入れられるように集塵手段と連通する真空発生手段も備える。システムは、集塵手段から１種又はそれ以上の粒状物質を受け入れそして１種又はそれ以上の粒状物質を流体の流れの中に注入するための手段を更に備える。

【0017】

好ましい輸送方法は、装填ユニットの集塵装置内に真空を作り、そして粒状材料が集塵装置に隣接した装填ユニットのトランスファーポット内に入るように真空に応答して粒状材料を貯蔵ビンから集塵装置内に引き入れることを含む。この方法は、トランスファーポットを加圧し、そしてトランスファーポットの加圧に応答して粒状材料をトランスファーポットから排出することも含む。

【発明を実施するための最良の形態】

【0018】

前記概要及び好ましい実施例の以下の詳細な説明は、付属図面と関連して読まれるとき、より良く理解される。本発明を図解する目的で、図面は現在の好ましい実施例を示す。しかし、本発明は、図面に明らかにされた特定の設備には限定されない。

【0019】

ＦＣＣユニット内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステム１０の好ましい実施例が図１−６に示される。装填システム（ｌｏａｄｉｎｇ ｓｙｓｔｅｍ）１０は、触媒及び／又は添加物を貯蔵し装填するための全体システム１１の一部を形成する。システム１１は、装填システム１０、及び１個以上の貯蔵ビン３７を備える。

【0020】

装填システム１０は、集塵装置１６及び隣接したトランスファーポット１８を有する装填ユニット１４を備える。装填システム１０は、以下詳細に説明されるように、触媒及び／又は添加物を貯蔵ビン３７から吸引し更に集塵装置１６内に入れる真空を作る。触媒及び／又は添加物は、集塵装置１６の底に落ち更にトランスファーポット１８内に入る。次いで、トランスファーポット１８が加圧され、そして触媒及び／又は添加物はトランスファーポット１８内の圧力に応答してＦＣＣユニットの再生装置内に注入される。

【0021】

装填ユニット１４は、これをキャビネット１９内に収容することができる（図２−４参照）。（キャビネット１９は、図においては、明瞭にするために側部パネルを外した状態で示される。）装填ユニット１４は、トランスファーポット１８に固定された複数個の脚２０により支持されることが好ましい。

【0022】

キャビネット１９はオプションであり、特定の形状及び寸法の注入システムを受け入れるように構成することができる。好ましくは、キャビネットの側方パネルは取り外し可能であり（及び／又は容易に開けることのできるドアとして設計され）かつ、操作員又は修理工がシステムにどこからも接近できるように閉鎖体の実質的に全長及び全幅にわたる。或いは、閉鎖可能な入口をシステムのベースに堅固に固定された壁面内に置き、この入口をシステムの比較的小さい構成要素への接近に使用することができる。

【0023】

キャビネットは、環境内の損傷を与える要素、例えば工場の塵埃、雨、直射日光からシステムを保護し、同時に触媒がシステムにより吸引され次いで注入されるときの触媒の運動により生ずる塵埃を減らす。キャビネットは、触媒をシステム内に輸送し更にシステムを通過させるホースの破損又は損傷から漏れ出す触媒粒子を保持し、同時に内部装置から逃げ出す放出物を保持することもできる。

【0024】

キャビネットは、操作員又は修理工のための避難所を提供するために十分に大きいように設計することもできる。更に、キャビネットはシステムを「ユニット化」し、これによりシステムの輸送及び設置を容易にする。事実、キャビネットは、保護閉鎖体として作用することに加えて輸送用コンテナーとして作用するように設計することができる。

【0025】

集塵装置１６は側壁１７を備える。側壁１７は、集塵装置１６内の真空の存在に耐えるために適切な強度及び厚さのものとすべきである。

【0026】

集塵装置１６の断面及び全体形状は、これを変えることができる。図に示された集塵装置１６は、実質的に円筒状の上方部分１６ａ、及び上方部分１６ａに隣接した実質的に円錐状の下方部分１６ｂを持つ。下方部分１６ｂの中央に開口２３が形成される（図１参照）。下方部分１６ｂを横切ってスクリーン２４が置かれる。別の実施例においては、上方部分１６ａ及び下方部分１６ｂの断面は正方形又は長方形であり、そして全体形状を正方形又は長方形の柱状とすることができる。（「上方」、「下方」のような方向を示す用語は、ここでは、図１に示された構成要素の方向に関して使用される。これらの用語は、例示の目的のためのみに使用され、特許請求の範囲を限定するものではない。）
集塵装置１６はカバー２５も備える。カバー２５は側壁１７の上方の縁と組み合う。カバー２５と側壁１７との間にガスケットが置かれ、これの間を実質的に気密に封鎖する。側壁１７及びカバー２５が集塵装置１６の内部容積２６定める（図１参照）。

【0027】

集塵装置１６は適切なフィルター３２も備える（図１参照）。フィルター３２は、例えばマクチフロ（Ｍａｃｔｉｆｌｏ）モデルＥ３７６０９４フィルターとすることができる。

【0028】

フィルター３２は、集塵装置１６の上方部分１６ａ内に取り付けられる。上方部分１６ａの内部（及びフィルター３２）への接近を提供するために、側壁がハッチ３３を持つことが好ましい（図１及び４参照）。ハッチ３３は、好ましくは、ブラケット３４を使用して集塵装置１６の側壁１７に固定され、このブラケットは、最小の時間及び労力の消費によるハッチ３３の取り外しを可能とし、これにより最小の時間及び労力でのフィルター３２の交換を容易にする。装填システム１０の別の実施例は１個以上のフィルター３２を設けることができる。

【0029】

システム１０は、適切な真空発生装置３０も備える（図１及び２参照）。例えば、真空発生装置は、エンパイヤ・２インチ・ヴァキュトラン（Ｅｍｐｉｒｅ ｔｗｏ−ｉｎｃｈ
Ｖａｃｕｔｒａｎ）Ｓ１５０真空発生装置とすることができる。

【0030】

真空発生装置３０はキャビネット１９内に取り付けられる（図２参照）。真空発生装置３０は、装填ユニット１４とは別に取り付けられることが好ましい。真空発生装置３０は、ホース３５によりフィルター３２と連通する。

【0031】

真空発生装置３０は、適切な圧縮空気源（図示せず）と連通する。（圧縮空気源は、典型的に精油所において利用し得る工場空気とすることができる。）真空発生装置３０内への圧縮空気の流れは、アクチュエーター３６ａを有する適切な弁３６により管理することができる（図１参照）。

【0032】

真空発生装置３０は、真空室設計技術の熟練者に普通に知られた方法で運転することができる。特に、弁３６を開くことにより、圧縮空気は真空発生装置３０を通って流れることができる。真空発生装置３０は、真空発生装置３０を通過する圧縮空気の流れにより、集塵装置１６の内部容積２６から空気を引き出し、これにより内部容積２６内の真空を作る。（真空発生装置３０は、フィルター３２を通して空気を引き出し、これにより、集塵装置１６は、触媒及び／又は添加物の流れにより作られた塵埃を集塵装置１６内へ集める。）装填システム１０内の種々の空気の流れの方向が、図１に矢印３９により示される。

【0033】

装填システム１０は、内部容積２６内の真空度に応答して貯蔵ビンから触媒及び／又は添加物を引き出す。特に、集塵装置１６は、貯蔵ビン３７と連通する（図１参照）。貯蔵ビン３７は、ＦＣＣユニット内に注入すべき触媒及び／又は添加物を収納する。貯蔵ビン３７は、例えば、装填システム１０が設置された精油所に触媒及び／又は添加物を輸送するために使用される輸送用コンテナーとすることができる。

【0034】

各貯蔵ビン３７は、対応するホース（又はパイプ）により集塵装置１６に結合される。アクチュエーター４２ａを有する適切な弁４２が、各ホース３８と集塵装置１６との間に置かれる。各弁４２は、組み合わせられた貯蔵ビン３７を選択的に集塵装置１６から隔離する。弁４２は、集塵装置１６の上方部分１６ａに取り付けられ、そして集塵装置１６の上方部分１６ａに形成された対応する開口により内部容積２６と連通する。（ホース３８及び弁４２は触媒及び／又は添加物の貯蔵及び装填のためのシステム１１の部分を形成する。）
ホース３８は、図８に示されるように、別の実施例の共通マニホールド７４により上方部分１６ａに結合することができる。

【0035】

ホース３８は、ホース３８を集塵装置１６（又はマニホールド７４）及び貯蔵ビン３７から容易に外し得る取付具を備えることが好ましい。

【0036】

弁４２のうちの一つを開くことにより、内部容積２６内の真空度に応答して、組み合わせられた貯蔵ビン３７から組み合わせられたホース３８により触媒及び／又は添加物を引き出すことができる。触媒及び／又は添加物は、貯蔵ホッパー内に触媒及び／又は添加物を装填する必要なしに、貯蔵ビン３７から装填システム１０に直接引き入れられる。

【0037】

装填システム１０は、例示の目的だけで、３組の弁４２及びホース３８が装備されたとして示される。別の実施例は３組の弁４２及びホース３８より多い又は少ない組数を装備して、３個より多い又は少ない個数の貯蔵ビン３７から触媒及び／又は添加物を引き出すことができる。

【0038】

１個又はそれ以上（２個、３個、４個、など）の貯蔵ビン３７を装填システム１０から離れた位置に置くことができる。例えば、貯蔵ビン３７を装填システム１０から３．６６ｍ（１２フィート）までに置くことができる。（装填システム１０と貯蔵ビン３７との間の最大距離は用途に依存し、真空発生装置３０の容量、ホース３８の直径などのような要
因により変えることができる。このパラメーターに対する特定の値は例示のためにだけ特定された。）
集塵装置１６は、３個の案内管４０を備えることが好ましい。各案内管４０は組み合わせられたホース３８と連通している。

【0039】

触媒及び／又は添加物は案内管４０により内部容積２６内に引き入れられる。案内管４０は、触媒及び／又は添加物を、スクリーン２４の近くで内部容積２６内に排出する。

【0040】

別の仕様のマにホルド７４は、図９に示されたマニホールド１００のような内部マニホールドを備える。かかる実施例においては、１個又はそれ以上のホース３８の各々は、上方部分１６ａの、好ましくはガスケット又は同等品によりシールされた入口を通って伸びることができる。１個又はそれ以上の案内管１０２は、案内管１０２が上方部分１６ａ内に伸びるように、溶接、フランジ、ブラケット、固定具などのような適切な手段により上方部分１６の側壁に固定することができる。

【0041】

次いで、各ホース３８が、上方部分１６ａの内側に置かれた共通マニホールド１００により結合される。マニホールド１００は、マニホールド１００（及び集塵装置１６）を、組み合わせられたホース３８及び貯蔵ビン３７と選択的に連通状態にするために、弁４２のような弁を備える。（図１に示された複数の案内管とは異なり）１個の排出案内管１０４をマニホールド１００から１６ｂの底部の方向に降ろすことができる。排出案内管１０４の端部は、集塵装置１６の下方部分１６ｂ内に形成された開口２３の上方約１５２．４ｍｍ（６インチ）に置かれることが好ましい。（排出案内管１０４の端部と開口２３との間の最適の距離は用途により変えることができる。この距離についての特定値は説明の目的のためにのみ与えられた。）ホース３８、マニホールド１００、及び１個の排出案内管１０４のこの構成は、１個の排出案内管１０４を上方部分１６ａの中央に位置決めできるようなホースの「クモ（ｓｐｉｄｅｒ）」状の配列を作る。マニホールド１００及び組み合わせられた排出案内管１０４を中央に置くことにより、触媒及び／又は添加物を確実に集塵装置１６の底に堆積させることができる。この構成は、触媒及び／又は添加物が上方部分１６ａの側面に当たることを減らし、これによりこれらの壁の上に触媒及び／又は添加物が集積するいかなる可能性も減らす。この構成は、また、触媒及び／又は添加物の粒子が側壁を叩く際に生ずる触媒及び／又は添加物の摩耗の可能性も減らす。

【0042】

触媒及び／又は添加物を集塵装置１６内に排出するための別の配列が図１０に示される。この実施例においては、１個又はそれ以上の個別のホース３８を、好ましくはガスケット又は同等品でシールされた上方部分１６ａの入口を通して延ばすことができる。１個又はそれ以上の案内管１１０は、各案内管１１０がそれぞれのホース３８から触媒及び／又は添加物を受け取るように、溶接、フランジ、ブラケット、固定具などのような適切な手段により上方部分１６ａの側壁に固定することができる。弁４２のような弁が各案内管１１０に取り付けられ、案内管１１０（及び集塵装置１６）を、組み合わせられたホース３８及び貯蔵ビン３７と選択的に連通状態にすることができる。各弁４２は、フランジのような適切な手段により上方部分１６ａの側壁に取り付けることができる。

【0043】

案内管１１０は、案内管１１０のそれぞれの端部が集塵装置１６の中心線の近くに置かれるように、各が上方部分１６ａの側壁から内向きに伸びる。案内管１１０の端部は、溶接、固定具、ブラケットなどのような適切な手段により互いに固定される。このため、各案内管１１０は、集塵装置１６の中心線の近くで触媒及び／又は添加物を排出する。案内管１１０は、水平方向に関してほぼ７０度の角度で下向きに伸びることが好ましい。（案内管１１０の最適の角度は用途により変えることができる。特別な方向が例示の目的のためにのみ示された。）案内管１００の端末は集塵装置１６の下方部分１６ｂに形成された開口の上方約１５２．４ｍｍ（６インチ）に置かれることが好ましい。（案内管１１０の
端末と開口２３との間の最適距離は用途により変えることができる。特別な方向が例示の目的のためにのみ示された。）この構成は、上方部分１６ａの側部への触媒及び／又は添加物の衝突を緩和し、これによりこれらの壁の上における触媒及び／又は添加物の有り得る堆積を減らす。この構成は、触媒及び／又は添加物の粒子が側壁に当たる際に生じ得る触媒及び／又は添加物の減少の可能性も減らす。

【0044】

図１のシステム１１の図面は実際は略図であり、システム１１の種々のホース、管路などの相対位置は図１に示されたものから変え得る点に注意すべきである。例えば、ホース３８を受け入れるために集塵装置１６の上方部分１６ａに形成された開口は、図１に示された垂直方向の配列の代わりに、上方部分１６ａの周囲の周りに置くことができる。他の実施例では、複数のホースを上方部分１６ａの２カ所以上の側面に置くことができる。

【0045】

触媒又は添加物は、案内管４０（又は排出案内管１０４又は案内管１１０）から排出された後、重力のため集塵装置１６の底に向かって、即ち、下方部分１６ｂに向かって落ちる。触媒及び／又は添加物は、これが落ちるときスクリーン２４を通過する（図１参照）。スクリーン２４の目の粗さは、比較的大きい塊り又は比較的大きい触媒及び／又は添加物（又は異物）の通過は妨げるが触媒及び／又は添加物の比較的小さい顆粒はスクリーンを自由に通過して流れることができるように選定される。下方部分１６ｂの実質的に円錐状の形が、触媒及び／又は添加物を下方部分１６ｂの開口２３に向ける。

【0046】

装填システム１０は、開口２３を選択的に覆って封鎖する弁４３を備える。弁４３は、例えば座４４とプラグ４５とを備えたプラグ弁とすることができる。座４４は、下方部分１６ｂに固定され、開口２３の周囲を囲む。プラグ４５は、上方位置と下方位置との間を動くことができる（図１においては、プラグ４５はその下方位置において示される）。

【0047】

弁４３は圧縮空気により動かされる。圧縮空気は、トランスファーポット１８を通って伸びている管路４６により弁４３に向けられる。管路４６内への圧縮空気の流れは、管路４６と連通している弁４８による選択的な強制で開始され中断される。弁４８ａはアクチュエーター４８ａを備える。

【0048】

圧縮空気は、管路４６から出た後、プラグ４５に衝突する。より詳細には、圧縮空気は、プラグ４５の内側に向けられ、そしてプラグ４５を、座４４に押し付けた閉鎖位置に強制する。プラグ４５と座４４との間の接触が開口２３を実質的に封鎖する。

【0049】

弁４８を閉めることにより圧縮空気が中断されるとプラグ４５はその閉鎖位置から開口位置に落ちる。プラグ４５と座４４との間に作られた間隙のため、触媒及び／又は添加物は開口２３を通過して下方部分１６ｂの底部に達し、そしてトランスファーポット１８内に達することができる。（図１参照）。

【0050】

装填システム１０は、管路４６と連通している容積室及び水分トラップ４９を備えることが好ましい（図１及び２参照）。容積室及び水分トラップ４９は弁４３に向けられた圧縮空気から水分を除去する。

【0051】

トランスファーポット１８は側壁５１を備える。側壁５１は、トランスファーポット１８の圧力に耐える適切な強度と厚さのものとすべきである。

【0052】

トランスファーポット１８の断面及び全体形状は変えることができる。図に示されたトランスファーポット１８は、実質的に円筒状の上方部分１８ａ、及び上方部分１８ａに隣接し実質的に円錐状の下方部分１８ｂを持つ。トランスファーポット１８の上方部分１８ａと下方部分１８ｂ、及び集塵装置１６の下方部分１６ｂが、トランスファーポット１８
内の内部容積５０を定める（図１参照）。（下方部分１６ｂ及び弁４３が、集塵装置１６の内部容積２６とトランスファーポット１８の内部容積５０との間の境界を形成する。）
トランスファーポット１８の下方部分１８ｂの中心に開口５３が形成される。トランスファーポット１８は管路５４によりＦＣＣの再生装置と結合される。管路５４は開口５３と連通している。以下説明されるように、触媒及び／又は添加物は開口５３を通って管路５４に入り続いて再生装置に流れる。

【0053】

アクチュエーター５５ａを有する弁５５が管路５４に設けられる。弁５５により、トランスファーポット１８を選択的に再生装置から隔離することができる。例えば、クレムテックス・インク（Ｃｌｅｍｔｅｘ，Ｉｎｃ．）のモデル２４５２ ６ｆｔ^３（０．１７０ｍ^３）サンドブラスト用ポット、又はモデル１６４８ ２ｆｔ^３（０．０．０５６６ｍ^３）サンドブラスト用ポットを集塵装置１６に適合させることにより適切なトランスファーポット１８を得ることができる。（サンドブラスト用ポットは、集塵装置１６の下方部分１６ｂを溶接のような適切な手段によりサンドブラスト用ポットの上方周辺部に固定することにより集塵装置と組み合わせることができる。）
装填ユニット１４は複数個のロードセル（ｌｏａｄ ｃｅｌｌ）５６により支持される（図１及び４参照）。ロードセル５６は、以下説明されるように、未装填状態及び装填状態の、即ち内部に触媒及び／又は添加物が無いとき及び有るときの双方における装填ユニット１４の重量の測定値を提供する。ロードセル５６は、キャビネット１９のベース１９ａとトランスファーポット１８の脚２０に固定された板材５７との間に取り付けることが好ましい。

【0054】

各ロードセルは対応した振れ止め具６１により実質的に水平方向の運動を拘束することができる（振れ止め具６１は、図を分かり易くするために図５に示されるだけである。）各振れ止め具５１はキャビネット１９のベース１９ａに旋回可能に結合される。

【0055】

装填システム１０は、複数のジャッキ組立体６２を備えることができる（ジャッキ組立体６２は、図を分かり易くするために図５に示されるだけである）。各ジャッキ組立体６２は、キャビネット１９のベース１９ａに固定結合されたネジ軸６２ａを備える。２個のナット６２ｂが各軸６２ａにネジ結合される。ナット６２ｂは板材５７の上方及び下方に置かれる。下方ナット６２ｂは、下方ナット６２ｂが板材５７（及び板材５７上に置かれた装填システム１０の部分）を支持するように上に動かすことができる。上方ナット６２ｂは、板材５７を定位置に固定するように下げることができ、即ち、板材５７を、上方ナットと下方ナット６２ｂとの間に挟むことができる。

【0056】

ジャッキ組立体６２は、ロードセル５７を、装填システム１０の重量から実質的に隔離することができる。この特徴は、例えば、装填システム１０の輸送中にロードセル５７が衝撃負荷により破損されることを防止するために使用される。

【0057】

装填ユニット１４への外部連結は、ロードセルの読取値に風袋重量を導入しないように構成されることが好ましい。例えば、管路５４は可撓性部分４６ａを備え、これが再生装置に連結された管路５４の部分とトランスファーポット１８との結合を実質的に無くし、これによりロードセルの読取値に導入される風袋重量を最小にさせる（図１参照）。管路４６は、同様に可撓性部分４６ａを有し、これが工場の空気設備に連結された管路４６の部分とトランスファーポット１８との結合を実質的に無くす。更に、ホース３５、３８は実質的に可撓性であることが好ましく、このため導入された風袋重量を無視することができる。

【0058】

集塵装置１６の内部容積２６とトランスファーポット１８の内部容積５０とは、管路５８により選択的に連通される。アクチュエーター５９ａを有する弁５９が管路５８内に置
かれ、管路５８により形成される経路を選択的に開閉する。管路５８は、以下説明されるように、内部容積２６、５０内の圧力を平衡させるために使用される。

【0059】

装填システム１０は、制御器６０を備えることが好ましい（図３及び６参照）。弁３６、４２、４８、５５、５９のそれぞれのアクチュエーター３６ａ、４２ａ、４８ａ、５５ａ、５９ａは、制御器６０に電気的に結合される。この特徴により、弁３６、４２、４８、５５、５９の作動を制御器６０により制御することができる。

【0060】

制御器６０はプログラム可能なループ制御器（ＰＬＣ）であるが、別の実施例においては制御器６０として、ミニコンピューター、マイクロコンピューターなどのような適宜形式の計算装置を使用することができる。この変更例の装填システム１０を制御するために、装填システムを運転する精油所のその他の設備及びプロセスを制御するサーバー又はメインフレームコンピューターを使用することもできる。例えば、「分散形制御システム」又はＤＣＳとして知られるコンピューターベースのシステムは、多数のユニットの運転を制御するためにＦＣＣユニットのオペレーターにより使用される集中システムの一例である。制御器６０は、ＤＣＳが制御器を経て装填システムを制御するように、制御器６０とＤＣＳと結合し及び／又はこれらの間に確立し得る通信線と結合することができる。

【0061】

制御器６０は、制御器６０に指令又は運転データを入力するために制御パネル６４を備えることができる（図３及び６参照）。制御器６０及び制御パネル６４はキャビネット１９に取り付けることができる。別の実施例においては、制御パネル６４自体、又は制御パネル６４と制御器６０との両者は、装填システム１０のその他の部分から離れた便利な位置に取り付けることができる。例えば、制御パネル６４を精油所の中央制御室内に取り付け、装填システム１０の運転を遠隔制御することができる。

【0062】

制御器６０は所定量の触媒及び／又は添加物を再生装置内に注入するように構成することができる。所定量は、使用者により、制御パネル６４を介して制御器６０に入力することができる。

【0063】

更に、制御器６０は、触媒及び／又は添加物の周期的な注入を容易にするように構成することができる。例えば、２４時間周期にわたる不連続な所定の注入回数を使用して、制御器６０を、この周期にわたる、即ち、１日当たりの添加物の注入を容易にするようにプログラム化することができる。かかる周期を通しての装填システム１０の運転が以下説明され、かつ図７の流れ図の形式で示される。

【0064】

（制御器６０は、非周期的な触媒及び／又は添加物の注入を容易にするように構成することもできる。言い換えれば、制御器６０を、変動する量の触媒及び／又は添加物の注入を容易にするようにプログラムすることができる。）
２４時間周期にわたり注入される触媒及び／又は添加物の総量は、制御パネル６４を使って使用者が制御器６０に入力することができる。１日に行うべき不連続な注入回数も、制御パネル６４により入力することができる。（別の実施例においては、制御器６０は、別の入力により運転されるようにプログラムすることができる。例えば、注入間の所定の時間間隔を使用して、周期ごとに所定の添加物を注入するように制御器６０をプログラムすることができる。）
制御器６０は、上述の入力に基づいて各周期ごとに注入された触媒及び／又は添加物の量を自動的に計算するようにプログラムすることができる。制御器６０は、各注入開始間の時間間隔を計算するようにもプログラムすることができる。この間隔は、２４時間を１日あたり注入の所要回数で割ることにより算出される。更に、制御器６０は、触媒及び／又は添加物を取り出す特定の貯蔵ビン３７を示す入力を受け入れるように構成することができる。

【0065】

制御器６０は、触媒及び／又は添加物が引き出される特定の貯蔵ビン３７と組み合わせられた弁４２のアクチュエーター４２ａに制御入力を送る（図７参照）。この制御入力がアクチュエーター４２を作動させて弁４２を開かせ、これにより貯蔵ビン３７と集塵装置１６とを連通状態にする。（弁３６、４２、４８、５５、５９はそれぞれ閉鎖位置にあり、弁４３のプラグ４５は周期開始のその開口（下方）位置にある。）
制御器６０は弁３６のアクチュエーター３６ａにも入力を送り、これにより圧縮空気は真空発生装置３０を通って流れることができる。真空発生装置３０は、上述のように、これを通過する圧縮空気の流れに応答して集塵装置１６の内部容積２６内の真空を作る。

【0066】

内部容積２６内の真空が、触媒及び／又は添加物を貯蔵ビン３７から引き出しそして集塵装置１６の上方部分１６ａ内に送る。（装填システム１０を通る触媒及び／又は添加物の移動方向は図１において矢印６５により示される。）次いで、前述のように、触媒及び／又は添加物は重力により下方部分１６ｂに向かって落ち、そして下方部分１６ｂの開口２３を経てトランスファーポット１８に入る。

【0067】

制御器６０は、装填ユニット１４の重量、及びこれに加えられる触媒及び／又は添加物の重量の監視を継続する。（装填ユニット１４とこの中の触媒及び／又は添加物との組み合わせられた重量を、ここでは、以下「活重量（ｌｉｖｅ ｗｅｉｇｈｔ）」と呼ぶ。）詳細には、ロードセル５６は制御器６０と電気的に結合される。制御器６０は各ロードセル５６からの入力を受け、これら入力を加算して装填システム１０の活重量を決定する。

【0068】

制御器６０は、装填システム１０に加えられた触媒及び／又は添加物の量を計算する。制御器６０は、周期の開始時、即ち、弁３６、４２が開かれる直前における装填システム１０の活重量から、与えられた瞬間における装填システムの重量を差し引くことによりこの計算を実行する（装填ユニット１４は、周期開始時には、触媒及び／又は添加物が実質的に空であるとする）。

【0069】

制御器６０は、装填システム１０に加えられた触媒及び／又は添加物の量が各周期中に再生装置内に注入すべき量（この量は、以下「目標値」と呼ばれる）に近づくと集塵装置１６への触媒及び／又は添加物の流れを停止させる。詳細には、制御器６０は、触媒及び／又は添加物の重量がその目標値に接近すると、弁４２を開くアクチュエーター４２ａに制御入力を送る。この制御入力は弁４２を閉鎖させ、これにより集塵装置１６への触媒及び／又は添加物の流れを中断させる。（制御器６０は、弁４２への「閉鎖」命令を出した時点と弁４２が完全に閉鎖される時点との間の遅れを補償するために、触媒及び／又は添加物の重量が所定の量による目標値より低いうちに、弁４２の閉鎖を開始するようにプログラムすることができる。）
制御器６０は、装填システム１０内の触媒及び／又は添加物の重量がその目標値に達したとき弁３６のアクチュエーター３６ａに制御入力を送る。制御入力は、アクチュエーター３６ａに弁３６を閉鎖させ、これにより真空発生装置３０を通る圧縮空気の流れを中断させる。

【0070】

制御器６０は、続いて、弁４８を開かせるために弁４８のアクチュエーター４８ａに制御入力を送る。弁４８の開口により、圧縮空気が管路４６を経てトランスファーポットの内部容積に入ることができる。圧縮空気は、管路４６を出ると弁４３のプラグ４５と衝突し、これにより、プラグ４５を、前述のように集塵装置１６の下方部分１６ｂに押し付けられたその閉鎖（上方）位置に強制する。プラグ４５と下方部分１６ｂとの間の接触が開口２３を覆いこれを封鎖する。

【0071】

開口２３がプラグ４５により封鎖された後、圧縮空気がトランスファーポット１８の内
部容積５０を加圧する。（上述のように、圧縮空気は、トランスファーポット１８に達するより前に容積室及び水分トラップ４９により乾燥され、これによりトランスファーポット１８内の触媒及び／又は添加物の汚染の可能性を最小にする。）
制御器６０は、内部容積５０内の空気圧を測定する第１の圧力変換器６８からの入力を受け取る（図６参照）。制御器６０は、触媒及び／又は添加物が注入された場所に隣接する再生装置内の空気圧を測定する第２の圧力変換器７０からの入力も受け取る。

【0072】

内部容積５０及び再生装置１４の内部の空気圧間の圧力差が所定のレベルに達したとき、即ち、内部容積５０内の圧力が再生装置内の圧力を所定量だけ越えたとき、制御器６０が弁４８のアクチュエーター４８ａに制御入力を送る。

【0073】

制御器６０は、続いて、弁５５を開かせるように弁５５のアクチュエーター５５ａに制御入力を送る。内部容積５０と再生装置との間の圧力差が、トランスファーポット１８内の触媒及び／又は添加物を管路５４を経て再生装置内に流す。

【0074】

制御器６０は、弁５５を開くための制御入力の出現に続いてある所定の時間間隔の経過後、弁５５を閉鎖するために制御入力をアクチュエーター５５ａに送る。（所定の時間間隔はトランスファーポット１８内の触媒及び／又は添加物の実質的に全部が再生装置内に注入されるに十分な時間を許すように選定しなければならない。）或いは、制御器６０は、内部容積５０と再生装置との間の圧力差がほぼゼロに達したとき、弁５５を閉じるようにアクチュエーター５５ａに制御入力を送る。

【0075】

制御器６０は、続いて、弁５９を開くために弁５９のアクチュエーター５９ａに制御入力を送る。弁５９が開かれると、内部容積２６、５０内の空気圧は実質的に平衡することができる。詳細には、弁５９が開かれると、管路５８により（再生装置１４内の圧力にほぼ等しい）内部容積５０内の比較的高い圧力が低下する。

【0076】

制御器６０は、内部容積２６、５０間の圧力差がほぼゼロになったとき、弁５９のアクチュエーター５９ａに制御入力を送る（内部容積２６内の空気圧は、その中に置かれた第３の圧力変換器７２により測定することができる。）この制御入力が弁５９を閉鎖させる。

【0077】

制御器６０は、（上述の）各注入サイクルの開始間の計算された時間間隔が経過した後、上述のプロセスを繰り返すようにプログラムすることができる。

【0078】

更に、制御器６０は、上述のサイクルが完了した後、触媒及び／又は添加物を別の貯蔵ビン３７から注入するようにプログラムすることができる。言い換えれば、別の貯蔵ビン３７の一つと組み合わせられた弁４２が開かれて、触媒及び／又は添加物が特定の貯蔵ビン３７から集塵装置１６内に引き入れられることを除いて、別の注入サイクルを上述のものと同様な方法で行うことができる。

【0079】

触媒及び／又は添加物をその貯蔵ビン３７から直接吸引することが、装填システム１０の運転に大きな柔軟性を与える。例えば、装填システム１０は、ホース３８のようなホースが接近し得る精油所の実質的に適宜の位置から触媒及び／又は添加物を引き出すことができる。そこで、貯蔵ビン３７を、精油所内の最適の位置に置くことができる。更に、装填システム１０への触媒及び／又は添加物の輸送手段としての真空の使用は、触媒及び／又は添加物をその輸送用コンテナーから直接引き出すことを許す。このため、触媒及び／又は添加物をその輸送コンテナーからの輸送に伴う時間及び労力の消費は、装填システム１０の使用により無くすことができる。

【0080】

更に、触媒及び／又は添加物を集塵装置１６内に直接真空輸送することにより、触媒及び／又は添加物を（通常の装填装置を典型的に必要とする）比較的大きい貯蔵ホッパー内に移送する必要性を回避することができる。このため、触媒及び／又は添加物を貯蔵ホッパーに輸送することに伴う時間及び労力を、装填システム１０の使用により無くすことができる。

【0081】

貯蔵ホッパーの必要性を無くすことにより、装填システム１０を受け入れるために必要な空間の大きさを最小にすることもできる。例えば、装填システム１０の設置面積はほぼ１．２２ｍ×１．２２ｍ（４フィート×４フィート）であり、かつ装填システムの最大高さはほぼ１．５２ｍ（５フィート）である。容量の匹敵する通常の（貯蔵ホッパー付きの）装填装置は設置面積が約１．５２ｍ×２．４４ｍ（５フィート×８フィート）、高さはほぼ３．６６ｍ（１２フィート）である。（装填システム１０の大きさは用途により変えることができ、上記の特定の寸法は例示の目的のためにのみ与えられた。）更に、装填システム１０は、多くの通常の装填装置と比べで、特定の設備のための特注のベースのような特別な取付用設備を使用することなく設置することができる。

【0082】

装填システム１０は、貯蔵ホッパーが無いため、比較的容易に配置し直すことができる。詳細には、貯蔵ホッパーが無いことは装填システム１０に移動可能性を提供し、通常の装填装置と比較して最小の時間及び労力の消費で精油所内の異なった位置間（又は異なった精油所間）の装填システム１０の移動を容易にする。装填システム１０の使用者のための移動可能性及び使用の容易さは、装填システム１０が可搬式貯蔵ビンと関連して使用されるとき更に強化される。この可搬式貯蔵ビンは、例えば「トート（ｔｏｔｅ）」として知られ、通常約９００ｋｇ（約２０００ポンド）の触媒及び／又は添加物を収納するように作られる。

【0083】

貯蔵ホッパーが無いため、装填システム１０は、通常の装填装置と比べ設置に要する時間を最小にすることもできる。最短時間で装填システム１０を設置できる能力は、例えばある特別な規制標準を順守するために速やかに装填システムを使用することが要求される場合、特に有益である。

【0084】

装填システム１０は、機械的に再構成をすることなくかつ貯蔵ホッパーを空にしてまた再装填する必要なしに種々の種類の触媒及び／又は添加物を注入するために使用することができる。詳細には、装填システム１０は、適切な方法で弁４２を操作することにより、一つの貯蔵ビン３７から１種類の触媒及び／又は添加物を注入し更にその直後に別の貯蔵ビン３７から別の触媒及び／又は添加物を注入することができる。装填システム１０は１個の貯蔵ビンに貯蔵された製品を装填するために使用できことも勿論である。いずれの場合も、装填システム１０の使用により、種々の種類の触媒及び／又は添加物を注入するための複数の装填装置の必要性が無くなる。各々がある特定種類の触媒及び／又は添加物に専用の複数の装填装置を購入し、設置し、そして維持する必要を無くすことにより、時間、労力、精油所の空間、及び費用のかなりの節約が達成できると信じられる。

【0085】

複数のローダーを無くして本発明を使用することにより、ＦＣＣユニットの触媒及び／又は添加物の添加用管路に、特にＦＣＣユニットの再生装置への触媒及び／又は添加物の添加用管路に接続されるローダーからの複数の管路も無くなる。触媒及び／又は添加物の添加用管路に至る複数の管路を有することは、複数の管路が集中する点における詰まりを招き又はここを閉塞させる可能性がある。しかし、本発明の典型的な実施例は、ただ１本の供給管路が装填システムから出てＦＣＣユニットの触媒及び／又は添加物添加用管路に連結されるように設計され、従って前述の閉塞を導く経路構造を提供しない。

【0086】

貯蔵ホッパーを使用しないことにより、触媒及び／又は添加物が暴露される水分の量を
減らすこともできる。詳細には、装填システム１０の使用により、触媒及び／又は添加物は、これが再生装置１４内に注入される直前まで貯蔵ビン３７内に留まることができる。貯蔵ビン３７内の環境は貯蔵ホッパー内よりもより綿密に管理できると信じられる。詳細には、触媒及び／又は添加物は、ホッパーに輸送されここに貯蔵されているとき、典型的に工場空気に暴露される。工場空気は、触媒及び／又は添加物に悪影響を与える可能性のある水分、油脂由来の生成物、又はその他の汚染物質の源であることが多い。従って、装填システム１０におけるように工場空気に対する触媒及び／又は添加物の暴露を最小にすることにより、触媒及び／又は添加物の汚染の可能性を減らすことができる。かかる汚染の低減化は、触媒及び／又は添加物が一緒に固まること又は凝集することを減らす。かかる凝集は触媒及び／又は添加物を流れ難くし、かつホース又は供給管路の詰まりを招く可能性がある。本発明は、触媒及び／又は添加物がシステムを通して輸送されているときの確実な流動性を支援する。

【0087】

本発明は汚染及び有害な水分吸収を減らすため、水分の取り込みの少ない状態で材料を処理し、取り扱いそして給送することが望ましい吸湿性の材料を装填及び／又は輸送するために使うことができる。「吸湿性」は大気中の水分を吸収する性質を有することを意味する。吸湿性材料は、限定するものではないが、プロセス食品、医薬品、及び工業用薬品、並びに触媒及び／又は添加物、例えばＦＣＣ触媒及び／又は添加物を含む。本発明は、調合された材料又は使用時に火花又は炎を誘導する引火性（ｐｙｒｏｐｈｏｒｉｃ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ）を有する材料を配送するにも適している。

【0088】

かかる使用を理解するために、吸湿性又は引火性の材料の貯蔵、処理、取扱い及び／又は給送するために本発明を使用するとき、触媒及び／又は添加物の輸送に関する以上の説明を参照し、そしてこれらの教示を適用することができる。例えば、吸湿性材料及び引火性材料を給送車両、反応装置、混合装置、或いは関連製品の個人消費者への配送用に設計された貯蔵コンテナーに輸送及び／又は給送するために本発明を使用できることが考えられる。

【0089】

加圧された容積の装填システム１０は、同程度の能力（ｃａｐａｃｉｔｙ）の通常のローダーより小さいと信じられる。従って、装填システム１０を運転するには通常のローダーより少量の圧縮空気しか必要でない。この特徴のため、通常ローダーと比べて装填システム１０の運転費用を減らすことができる。例えば、工場において複数の通常のローダーが使用される場合、特に複数の通常のローダーが同時に運転されるとき、圧縮空気の消費量はかなり大きい。事実、複数の通常形式のローダーを同時に使用したときは大きい圧力低下がある。かかる圧力低下は触媒及び／又は添加物の不完全な給送、並びに工場空気を使用する他の工場設備の運転性能への悪影響をもたらす可能性がある。

【0090】

装填ユニット１４は、触媒及び／又は添加物を移送するために、本来、真空を使用するので、これに触媒及び／又は添加物が移送されるとき圧縮空気源から実質的に切り離される。従って、ロードセル５６の読取値に対する圧縮空気により生ずる力による偏向の可能性は最小であると信じられる。（ある形式の通常のローダーは、上述のように、触媒及び／又は添加物を貯蔵ホッパーから輸送ユニットに圧力下で移送する。移送させるために使用される圧縮空気が、トランスファーポットの重量の読取値に悪影響を与える可能性がある。）
以上の説明は例示の目的で提供され、本発明を限定するものとして解釈すべきではない。本発明は、好ましい実施例又は好ましい方法を参照して説明されたが、ここで使用された用語は説明及び図解のための用語であって限定のための用語では無いことを理解すべきである。更に、本発明は特別な構造、方法、及び実施例を参照し説明されたが、本発明は、特許請求の範囲内のすべての構造、方法及び用途に拡張でき、ここに明らかにされた特定のものに限定することを意図するものではない。本明細書を読む機会を有する関連技術
の熟練者は、特許請求の範囲により定められた本発明の限界を離れることなく、ここに説明された本発明に多くの変更をすることができ、変化を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【0091】

【図1】ＦＣＣユニット内に触媒及び／又は添加物を注入するためのシステムの好ましい実施例の図式的な側面図であり、システムの集塵装置及びトランスファーポットを長手方向断面で示している。

【図2】図１に示されたシステムの図式的な側面図である。

【図3】図２の視野からほぼ１８０゜回転した視野から見た図１及び２に示されたシステムの図式的な側面図である。

【図4】図２の視野からほぼ９０゜回転した視野から見た図１−３に示されたシステムの図式的な側面図である。

【図5】図３においてＡで示された区域の拡大図である。

【図6】図１−５に示されたシステムの制御システムを描いているブロック図である。

【図7】図１−６に示されたシステムの作動を描いている流れ図である。

【図8】図１−６に示されたシステムの変更例と共に使用するマニホールドの平面図である。

【図9】図１−６に示されたシステムの別の変更実施例のシステムの集塵装置のカバーが外された平面図である。

【図10】図１−６に示されたシステムの別の変更実施例のシステムの集塵装置のカバーが外された平面図である。

【符号の説明】

【0092】

１０ 装填システム
１１ 触媒及び／又は添加物の貯蔵用及び装填用のシステム
１４ 装填ユニット
１６ 集塵装置
１６ａ （集塵装置１６の）上方部分
１６ｂ 下方部分
１７ （集塵装置１６の）側壁
１８ トランスファーポット
１９ キャビネット
１９ａ （キャビネット１９の）ベース
２０ （装填ユニット１４の）脚
２３ （下方部分１６の）開口
２４ スクリーン
２５ カバー
２６ （集塵装置１６内の）内部容積
３０ 真空発生装置
３２ フィルター
３３ （集塵装置１６の）ハッチ
３４ ブラケット
３５ ホース
３６ 弁
３６ａ （弁３６の）アクチュエーター
３７ 貯蔵ビン
３８ ホース
３９ 矢印
４０ 案内管
４２ 弁
４２ａ （弁４２の）アクチュエーター
４３ 弁
４４ 座
４５ （弁４３の）プラグ
４６ 管路
４６ａ （管路４６の）可撓性部分
４８ 弁
４８ａ （弁４８の）アクチュエーター
４９ 容積室及び水分トラップ
５０ （トランスファーポット１８内の）内部容積
５１ （トランスファーポット１８の）側壁
５３ （トランスファーポット１８の下方部分１８ａの）開口
５４ 管路
５４ａ （管路５４の）可撓性部分
５５ 弁
５５ａ （弁５５の）アクチュエーター
５６ ロードセル
５７ 板材
５８ 管路
５９ 弁
６０ 制御器
６１ ブラケット
６２ ジャッキ組立体
６２ａ （ジャッキ組立体の）軸
６２ｂ ナット
６４ （制御器６０の）制御パネル
６５ 矢印
６８ 第１の圧力変換器
７０ 第２の圧力変換器
７２ 第３の圧力変換器
７４ マニホールド
１００ マニホールド
１０２ 案内管
１０４ 排出案内管
１１０ 案内管

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】