特許 5894088 超音波洗浄方法及び装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5894088

(24)【登録日】2016年3月4日

(45)【発行日】2016年3月23日

(54)【発明の名称】超音波洗浄方法及び装置

(51)【国際特許分類】

   B08B 3/12 20060101AFI20160310BHJP

   B08B 3/08 20060101ALI20160310BHJP

   C03C 23/00 20060101ALI20160310BHJP

【ＦＩ】

   B08B3/12 A

   B08B3/08 Z

   C03C23/00 A

【請求項の数】17

【全頁数】33

(21)【出願番号】特願2012-553735(P2012-553735)

(86)(22)【出願日】2012年1月17日

(86)【国際出願番号】JP2012050868

(87)【国際公開番号】WO2012099126

(87)【国際公開日】20120726

【審査請求日】2014年12月18日

(31)【優先権主張番号】特願2011-7986(P2011-7986)

(32)【優先日】2011年1月18日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000003296

【氏名又は名称】デンカ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000523

【氏名又は名称】アクシス国際特許業務法人

(72)【発明者】

【氏名】江田 幸雄

(72)【発明者】

【氏名】伊林 敏成

(72)【発明者】

【氏名】栗村 啓之

【審査官】 芝井 隆

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００４−１８９８５９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０８Ｂ ３／００

Ｃ０３Ｃ ２３／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記（１）〜（５）の工程を順に行う超音波洗浄方法。
（１）接着剤が表面に付着した硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）工程（１）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄する工程
（３）次いで、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）工程（３）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程

【請求項2】

下記（１）〜（５）の工程を順に行う超音波洗浄方法。
（１）光硬化性（メタ）アクリル接着剤により接着した硬質基板積層体を剥離して得られた硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）工程（１）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄し、除去する工程
（３）次いで、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）工程（３）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程

【請求項3】

工程（２）の前記接着剤を除去するための超音波の周波数が２０ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下である請求項１又は２に記載の超音波洗浄方法。

【請求項4】

芳香族アルコール系洗浄液が、芳香族アルコール、水及び界面活性剤を含有し、グリコールエーテル系洗浄液が、グリコールエーテル、水及び界面活性剤を含有する請求項１〜３のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項5】

芳香族アルコールがベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ヒドロシンナミルアルコール、及びこれらのアルキル置換誘導体から選択される１種以上であり、グリコールエーテルがジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及び３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールから選択される１種以上である請求項１〜４のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項6】

工程（５）はシャワー水を硬質基板に噴射することにより行われる請求項１〜５のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項7】

工程（４）の前記芳香族アルコール系洗浄液を除去するための超音波の周波数が１６ｋＨｚ以上６０ｋＨｚ以下である請求項１〜６のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項8】

工程（５）後の廃水を加温し、水分を蒸発させ、残存する接着剤成分及び洗浄液成分を回収する請求項１〜７のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項9】

光硬化性（メタ）アクリル接着剤が、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する請求項１〜８のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項10】

グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系からなる群のうちの１種以上である請求項１〜９のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項11】

芳香族アルコール系洗浄液が、ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系である請求項１〜１０のうちの何れか１項に記載の超音波洗浄方法。

【請求項12】

２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液を含有するためのものであり、超音波発振器の付いた、接着剤が表面に付着した硬質基板を洗浄するための第一の洗浄液槽と、
第一の洗浄液槽の後段に設置され、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液を含有するためのものであり、超音波発振器の付いた、前記硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐための第二の洗浄液槽と、
第二の洗浄液槽の後段に設置され、前記硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぐための水洗室と、
を備え、下記（１）〜（５）の工程を順に行う接着剤が表面に付着した前記硬質基板を洗浄するための超音波洗浄装置：
（１）前記第一の洗浄液槽において、光硬化性（メタ）アクリル接着剤により接着した硬質基板積層体を剥離して得られた硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）前記第一の洗浄液槽において、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄し、除去する工程
（３）次いで、前記第二の洗浄液槽において、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）前記第二の洗浄液槽において、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、前記水洗室において、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程。

【請求項13】

水洗室からの廃水中に含まれる水分を蒸発させるための蒸発器を備えた請求項１２に記載の装置。

【請求項14】

水洗室と蒸発器の間に設置され、水洗室からの廃水を貯蔵するための貯蔵槽を備えた請求項１３に記載の装置。

【請求項15】

硬質基板上に付着したグリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液がシャワー水によりすすぎ落とされる請求項１２〜１４のうちの何れか１項に記載の装置。

【請求項16】

グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系からなる群のうちの１種以上である請求項１２〜１５のうちの何れか１項に記載の装置。

【請求項17】

芳香族アルコール系洗浄液が、ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系である請求項１２〜１６のうちの何れか１項に記載の装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は表面に接着剤が付着した硬質基板を超音波洗浄するための方法及び装置に関する。とりわけ、本発明は接着剤を用いて積層された硬質基板積層体を剥離した後に硬質基板上に残存する硬化又は未硬化の接着剤を超音波洗浄するための方法及び装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ガラス等の透光性硬質基板を形状加工する際には枚葉状態のガラスを切断、研磨等してきた。しかし、接着後、温水中に浸漬させることにより剥離することが可能となる仮固定用接着剤の登場により、ガラスを、接着剤を用いて、多層に積層し、一括で加工する方法が行われてきた。

【0003】

しかし、積層接着する上で、接着剤層に空気が混入した場合、接着剤硬化の際に照射するＵＶ光が混入空気中の酸素を分解解裂させ酸素ラジカルを発生させる。この酸素ラジカルが接着剤の硬化反応を阻害し、その部分が未硬化となる。

【0004】

一方で、ガラス積層時には、ガラスに仮固定用紫外線硬化型アクリル接着剤を塗布し、ガラスを貼り合わせ、ＵＶ光を照射することにより、接着し、積層する。ガラス表面上にＵＶ光が透過しにくい印刷パターンやめっきパターン等が施されていた場合、その部分および隣接する接着剤の重合度は、ほかの部分と比較して低くなり、未硬化状態となる。

【0005】

一般的に、未硬化部分は硬化部分に比較して、接着剤のガラスへの付着性が高く、後にガラス積層体と接着剤を剥離し、枚葉化する工程で、ガラス上に接着剤成分が残りやすい。

【0006】

又、硬化状態であっても、硬化の際に与えるUV光の放射照度によっては、積層ガラスと接着剤を剥離する工程において、ガラス上に接着剤成分が残ることがある。

【0007】

洗浄性を向上させるため、洗浄槽に貯液した洗浄液に異なる２種の周波数を同時に発振する方法が提案されている（特許文献１）。洗浄液としては、炭化水素系溶剤（ハイドロクロロ＝ＨＣ、ハイドロクロロフルオロカーボン＝ＨＣＦＣ）を主成分とする洗浄液や、有機系溶剤（パーフルオロカーボン＝ＰＦＣ、ハイドロフルオロカーボン＝ＨＦＣ）を主成分とする洗浄液が記載されている。

【0008】

薬液による浸漬洗浄ののち、水中で超音波を照射することによる洗浄方法が提案されている（特許文献２）。また、基板表面に付着している薬液は加熱により飛散させることが記載されている。薬液としては、酸または硫酸と過酸化水素水の混合液（ＰＯＳ）が記載されている。

【0009】

洗浄効果を高めるため、洗浄槽を２重に配置し超音波の伝播ムラを抑制する方法が提案されている（特許文献３）。洗浄液としては水でよく、酸やアルカリ溶液に界面活性剤を添加した洗浄液でもよいことが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0010】

【特許文献1】特開平８−１４１５２７号公報

【特許文献2】特開平５−２５９１４４号公報

【特許文献3】特開２００８−２４３３４２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0011】

特許文献１は、炭化水素系溶剤（ハイドロクロロ＝ＨＣ、ハイドロクロロフルオロカーボン＝ＨＣＦＣ）を主成分とする洗浄液や、有機系溶剤（パーフルオロカーボン＝ＰＦＣ、ハイドロフルオロカーボン＝ＨＦＣ）を主成分とする洗浄液を用いて、異なる２種の周波数を同時に発振する方法であるが、当該方法では、ハロゲン元素を有する溶剤を使用するために、ガラス上に残留する接着剤を除去するのには除去性や環境保護の観点からみて、未だ改善の余地がある。

【0012】

特許文献２は、薬液を用いた浸漬洗浄であり、後に超音波による洗浄を行う方法であるが、薬液による浸漬洗浄時に超音波洗浄を行うものではなく、ガラス状に残留する接着剤に対する除去性が十分とはいえない。また、使用する洗浄液についても改善の余地が残されている。

【0013】

特許文献３は、２重に槽を配置し、超音波ムラを抑制する方法である。印刷パターン下の仮固定用接着剤は重合度が低く、粘着性をもつ状態である。仮固定用接着剤を特許文献３に使用した場合、粘着性をもつために、超音波自体の減衰によって洗浄効果が低下する場合がある。特許文献３において、超音波の進行方向と異なる方向からの流れは、槽内での超音波受振バラツキの原因となり、洗浄ムラの原因となる場合がある。また、使用する洗浄液についても改善の余地が残されている。

【0014】

このように、特許文献１〜３に記載されている洗浄方法では、ガラス上に残留している接着剤成分を除去するという目的に対しては未だ改善の余地が残っている。

【0015】

そこで、本発明はガラス等の硬質基板に付着した接着剤に対して安定して高い洗浄効果を得る方法を提供することを課題とする。好ましくは、本発明は更に環境負荷を低減させながらガラス等の硬質基板に付着した接着剤に対して安定して高い洗浄効果を得る方法を提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0016】

本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討したところ、芳香族アルコール系の洗浄液が硬質基板上に付着した接着剤の除去に有効であることを見出した。しかしながら、芳香族アルコール系洗浄液はＢＯＤ及びＣＯＤがそれぞれ１，４００，０００ｍｇ／ｋｇ、３７０，０００ｍｇ／ｋｇ程度と高く、希釈廃水が困難であるという問題があった。また、芳香族アルコール系洗浄液を硬質基板からすすぐ際に使用するすすぎ水（シャワー水等）の量も、洗剤量の１，０００〜１，５００倍と多量になり、すすぎ水の回収が困難であった。

【0017】

そこで、本発明者は更に検討を続け、芳香族アルコール系洗浄液を用いて硬質基板を洗浄した後に、グリコールエーテル系洗浄液によって芳香族アルコール系洗浄液をすすぎ、更に水によって硬質基板上に残留している洗浄液を除去した場合、使用する水の量を大幅に低減できることが分かった。

【0018】

更に、回収した廃水を蒸発させることで、洗浄液成分を固体として回収でき、廃水処理の負担についても大幅に削減できることも分かった。

【0019】

即ち、本発明は一側面において、下記（１）〜（５）の工程を順に行う超音波洗浄方法である。
（１）接着剤が表面に付着した硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）工程（１）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄する工程
（３）次いで、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）工程（３）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程

【0020】

本発明は別の一側面において、下記（１）〜（５）の工程を順に行う超音波洗浄方法である。
（１）光硬化性（メタ）アクリル接着剤により接着した硬質基板積層体を剥離して得られた硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）工程（１）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄し、除去する工程
（３）次いで、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）工程（３）により硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程

【0021】

本発明に係る超音波洗浄方法の一実施形態においては、工程（２）の前記接着剤を除去するための超音波の周波数が２０ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下である。

【0022】

本発明に係る超音波洗浄方法の別の一実施形態においては、芳香族アルコール系洗浄液が、芳香族アルコール、水及び界面活性剤を含有し、グリコールエーテル洗浄液が、グリコールエーテル、水及び界面活性剤を含有する。

【0023】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、芳香族アルコールがベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ヒドロシンナミルアルコール、及びこれらのアルキル置換誘導体から選択される１種以上であり、グリコールエーテルがジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及び３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールから選択される１種以上である。

【0024】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、工程（５）はシャワー水を硬質基板に噴射することにより行われる。

【0025】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、工程（４）の前記芳香族アルコール系洗浄液を除去するための超音波の周波数が１６ｋＨｚ以上６０ｋＨｚ以下である。

【0026】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、工程（５）後の廃水を加温し、水を蒸発させ、残存する接着剤成分及び洗浄液成分を回収する。

【0027】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、光硬化性（メタ）アクリル接着剤が、（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する。

【0028】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系からなる群のうちの１種以上である。

【0029】

本発明に係る超音波洗浄方法の更に別の一実施形態においては、芳香族アルコール系洗浄液が、ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系である。

【0030】

本発明は更に別の一側面において、下記（１）〜（５）の工程を順に行う超音波洗浄装置である。
（１）光硬化性（メタ）アクリル接着剤により接着した硬質基板積層体を剥離して得られた硬質基板を、２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液に浸漬させる工程
（２）超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄し、除去する工程
（３）次いで、硬質基板を、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液に浸漬させる工程
（４）超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぎ落とす工程

【0031】

本発明は更に別の一側面において、
２５〜６０℃の芳香族アルコール系洗浄液を含有し、超音波発振器の付いた、接着剤が表面に付着した硬質基板を洗浄するための第一の洗浄液槽と、
第一の洗浄液槽の後段に設置され、２５〜６０℃のグリコールエーテル系洗浄液を含有し、超音波発振器の付いた、前記硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐための第二の洗浄液槽と、
第二の洗浄液槽の後段に設置され、硬質基板上に付着したグリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液を水によりすすぐための水洗室と、
を備えた、接着剤が表面に付着した硬質基板を洗浄するための装置である。

【0032】

本発明に係る装置の一実施形態においては、水洗室からの廃液中に含まれる水分を蒸発させるための蒸発器を備える。

【0033】

本発明に係る装置の別の一実施形態においては、水洗室と蒸発器の間に設置され、水洗室からの廃液を貯蔵するための貯蔵槽を備える。

【0034】

本発明に係る装置の更に別の一実施形態においては、硬質基板上に付着したグリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液がシャワー水によりすすぎ落とされる。

【0035】

本発明に係る装置の更に別の一実施形態においては、グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系からなる群のうちの１種以上である。

【0036】

本発明に係る装置の更に別の一実施形態においては、芳香族アルコール系洗浄液が、ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系である。

【発明の効果】

【0037】

本発明に係る超音波洗浄方法によれば、接着剤を用い、硬質基板を積層し、一括加工した後、積層ガラスを剥離した場合、硬質基板上に接着剤成分が残存する場合であっても、高い洗浄効率で硬質基板に残留した接着剤を洗浄することができ、好ましくは排水処理の負荷を軽減しながら洗浄できる。

【図面の簡単な説明】

【0038】

【図1】本発明による超音波洗浄装置の一例を示す概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0039】

以下、本発明にかかる超音波洗浄方法の最良の形態について、図面を参照しながら説明する。

【0040】

本発明が処理対象とする硬質基板は、表面に接着剤が付着した硬質基板である。表面に接着剤が付着した硬質基板であれば特に制限はないが、典型的には、本発明は、接着剤により接着した硬質基板積層体を剥離した硬質基板が処理対象である。

【0041】

硬質基板としては、透光性硬質基板や、透光性でない硬質基板等が挙げられる。光により硬化できる点で、透光性硬質基板が好ましい。透光性硬質基板としては、特に制限はないが、板ガラス（素材板ガラス、透明導電膜付きガラス基板、電極や回路が形成されたガラス基板等）、サファイア基板、石英基板、プラスチック基板、フッ化マグネシウム基板等が挙げられる。ガラスとして、強化ガラスも挙げられる。透光性硬質基板の大きさに特に制限はないが、典型的には１００００〜２５００００ｍｍ²程度の面積を有し、０．１〜２ｍｍ程度の厚みを有する。各硬質基板は同じサイズであるのが一般的である。限定的ではないが、各硬質基板の表面には板状製品の機能の一つを奏するための所定の印刷パターンやめっきパターンを付すことができる。印刷パターンの例としては携帯電話の表示画面のデザイン、めっきパターンの例としてはクロムめっきパターンが施されているロータリーエンコーダーが挙げられる。

【0042】

硬質基板の表面に接着剤を塗布する。接着剤は、いずれか一方の硬質基板の貼り合わせ面に塗布すればよいが、接着性を向上する観点からは両方の硬質基板の貼り合わせ面に塗布することが好ましい。

【0043】

本発明に好適に使用される接着剤としては、アクリル接着剤、エポキシ接着剤、ウレタン接着剤、ポリエステル接着剤、シリコン接着剤、ポリイミド接着剤、エン・チオール接着剤、オレフィン等のホットメルト接着剤、シアノアクリレート接着剤、変性シリコン接着剤、フッ素系接着剤等が挙げられる。これらの中では、耐熱性、耐湿性、耐光性に優れ、洗浄効果が大きい点で、アクリル接着剤及び／又はエポキシ接着剤が好ましく、アクリル接着剤がより好ましい。
アクリル接着剤としては、加熱硬化型アクリル接着剤、光硬化性アクリル接着剤、常温硬化型アクリル接着剤等が挙げられる。エポキシ接着剤としては、二剤硬化型エポキシ接着剤、一剤加熱硬化型エポキシ接着剤、紫外線硬化型エポキシ接着剤等が挙げられる。これらの中では、効果が大きい点で、アクリル接着剤が好ましい。アクリル接着剤の中では、効果が大きい点で、光硬化性アクリル接着剤及び／又は常温硬化型アクリル接着剤が好ましい。
透光性硬質基板を使用した場合、本発明に好適に使用される接着剤としては、光硬化性の接着剤が好ましい。光硬化性の接着剤は、例えば、紫外線等の光を照射することで硬化し、高温に加熱すると軟化する接着剤である。

【0044】

＜光硬化性アクリル接着剤＞
光硬化性の接着剤としては、光硬化性（メタ）アクリル接着剤が挙げられる。光硬化性（メタ）アクリル接着剤としては、例えばＷＯ２００８／０１８２５２に記載のような（Ａ）多官能（メタ）アクリレート、（Ｂ）単官能（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する接着性組成物が挙げられる。

【0045】

（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとしては、オリゴマー／ポリマー末端又は側鎖に２個以上（メタ）アクロイル化された多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーや、２個以上の（メタ）アクロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーを使用することができる。例えば、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーとしては、１，２−ポリブタジエン末端ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本曹達社製「ＴＥ−２０００」、「ＴＥＡ−１０００」）、その水素添加物（例えば、日本曹達社製「ＴＥＡＩ−１０００」）、１，４−ポリブタジエン末端ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、大阪有機化学社製「ＢＡＣ−４５」）、ポリイソプレン末端（メタ）アクリレート、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本合成化学社製「ＵＶ−２０００Ｂ」、「ＵＶ−３０００Ｂ」、日本合成化学社製「ＵＶ−７０００Ｂ」、根上工業社製「ＫＨＰ−１１」、「ＫＨＰ−１７」）、ポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、日本合成化学社製「ＵＶ−３７００Ｂ」、「ＵＶ−６１００Ｂ」）、又はビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ここで、ウレタン（メタ）アクリレートとは、ポリオール化合物（以後、Ｘで表す）と有機ポリイソシアネート化合物（以後、Ｙで表す）とヒドロキシ（メタ）アクリレート（以後、Ｚで表す）とを反応させることにより得られる、ウレタン（メタ）アクリレートをいう。
ポリオール化合物（Ｘ）としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ポリブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、２，２−ブチルエチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールＡ、ポリカプロラクトン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、ポリグリセリン、ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコールや、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイドのブロック又はランダム共重合の少なくとも１種の構造を有するポリエーテルポリオール、該多価アルコール又はポリエーテルポリオールと無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸、無水イタコン酸、イタコン酸、アジピン酸、イソフタル酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエステルポリオール、カプロラクトン変性ポリテトラメチレンポリオール等のカプロラクトン変性ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素化ポリブタジエンポリオール、水素化ポリイソプレンポリオール等のポリジエン系ポリオール、ポリジメチルシロキサンポリオール等のシリコーンポリオール等が挙げられる。これらの中では、ポリエーテルポリオール及び／又はポリエステルポリオールがより好ましい。
有機ポリイソシアネート化合物（Ｙ）としては、格別に限定される必要はないが、例えば芳香族系、脂肪族系、環式脂肪族系、脂環式系等のポリイソシアネートが使用でき、中でもトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート（Ｈ−ＭＤＩ）、ポリフェニルメタンポリイソシアネート（クルードＭＤＩ）、変性ジフェニルメタンジイソシアネート（変性ＭＤＩ）、水添化キシリレンジイソシアネート（Ｈ−ＸＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ｍ−ＴＭＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ノルボルネンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）等のポリイソシアネート或いはこれらポリイソシアネートの三量体化合物、これらポリイソシアネートとポリオールの反応生成物等が好適に用いられる。これらの中では、水添化キシリレンジイソシアネート（Ｈ−ＸＤＩ）及び／又はイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が好ましい。
ヒドロキシ（メタ）アクリレート（Ｚ）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、４−ブチルヒドロキシ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中では、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群のうちの１種以上が好ましい。
これらの中では、効果が大きい点で、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリート及び／又はポリエーテル系ウレタン（メタ）アクリレートが好ましく、ポリエステル系ウレタン（メタ）アクリートがより好ましい。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーの重量平均分子量は、７０００〜６００００が好ましく、１３０００〜４００００がより好ましい。実施例においては、重量平均分子量は、下記の条件にて、溶剤としてテトラヒドロフランを用い、ＧＰＣシステム（東ソ−社製 ＳＣ−８０１０）を使用し、市販の標準ポリスチレンで検量線を作成して求めた。
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
設定温度：４０℃
カラム構成：東ソー社製「ＴＳＫ ｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＭＰ（×Ｌ）」６．０ｍｍＩＤ×４．０ｃｍ１本、および東ソー社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＭＵＬＴＩＰＯＲＥＨＸＬ−Ｍ」 ７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍ（理論段数１６，０００段）２本、計３本（全体として理論段数３２，０００段）、
サンプル注入量：１００μｌ（試料液濃度１ｍｇ／ｍｌ）
送液圧力：３９ｋｇ／ｃｍ²
検出器：ＲＩ検出器

【0046】

２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリストールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシプロポキシフェニル）プロパン、又は２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシテトラエトキシフェニル）プロパン等が挙げられる。これらの中では、効果が大きい点で、１，６−ヘキサジオールジ（メタ）アクリレート及び／又はジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレートがより好ましい。
３官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロイキシエチル］イソシアヌレート等が挙げられる。
４官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、ジメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【0047】

多官能（メタ）アクリレートの中では、効果が大きい点で、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマー及び／又は２官能（メタ）アクリレートモノマーを含有することが好ましく、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーを併用することがより好ましい。
多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーを併用する場合の含有割合は、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマーと２官能（メタ）アクリレートモノマーの合計１００質量部中、質量比で、多官能（メタ）アクリレートオリゴマー／ポリマー：２官能（メタ）アクリレートモノマー＝１０〜９０：９０〜１０が好ましく、２５〜７５：７５〜２５がより好ましく、３０〜７０：７０〜３０が最も好ましい。
（Ｂ）１個の（メタ）アクロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリレート、エトキシカルボニルメチル（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、フェノール（エチレンオキサイド２モル変性）（メタ）アクリレート、フェノール（エチレンオキサイド４モル変性）（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（エチレンオキサイド４モル変性）（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（エチレンオキサイド８モル変性）（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（プロピレンオキサイド２．５モル変性）（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレ−ト、エチレンオキシド変性コハク酸（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ダイマー、β−（メタ）アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、ｎ−（メタ）アクリロイルオキシアルキルヘキサヒドロフタルイミド、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
単官能（メタ）アクリレートの中では、効果が大きい点で、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートからなる群のうちの１種以上が好ましい。フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレートと、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートとを併用することがより好ましい。
フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレートと、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートとを併用する場合の含有割合は、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレートの合計１００質量部中、質量比で、フェノールエチレンオキサイド２モル変性（メタ）アクリレート：２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチル（メタ）アクリレート及び／又は２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート＝５〜８０：９５〜２０が好ましく、１５〜６０：８５〜４０がより好ましく、２０〜４５：８０〜５５が最も好ましい。

【0048】

（Ａ）多官能（メタ）アクリレートと（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートの配合比としては、（Ａ）：（Ｂ）＝５：９５〜９５：５（質量部）であることが好ましい。５質量部以上であれば初期の接着性が低下する恐れもなく、９５質量部以下であれば、剥離性が確保できる。硬化した固着剤は温水に浸漬することでフィルム状に剥離する。（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートの含有量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部中、４０〜８０質量部がさらに好ましい。

【0049】

（Ｃ）光重合開始剤は、可視光線や紫外線の活性光線により増感させて樹脂組成物の光硬化を促進するために配合するものであり、公知の各種光重合開始剤が使用可能である。具体的にはベンゾフェノン又はその誘導体；ベンジル又はその誘導体；アントラキノン又はその誘導体；ベンゾイン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン誘導体；ジエトキシアセトフェノン、４−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体；２−ジメチルアミノエチルベンゾエート；ｐ−ジメチルアミノエチルベンゾエート；ジフェニルジスルフィド；チオキサントン又はその誘導体；カンファーキノン；７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−ブロモエチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボキシ−２−メチルエステル、７，７−ジメチル−２，３−ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−カルボン酸クロライド等のカンファーキノン誘導体；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のα−アミノアルキルフェノン誘導体；ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシポスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド誘導体、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及び／又はオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル等が挙げられる。光重合開始剤は１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、効果が大きい点で、１ベンジルジメチルケタール、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−オキソ−２−フェニル−アセトキシ−エトキシ］−エチルエステル及びオキシ−フェニル−アセチックアシッド２−［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステルからなる群のうちの１種又は２種以上が好ましい。

【0050】

（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。０．１質量部以上であれば、硬化促進の効果が確実に得られるし、２０質量部以下で充分な硬化速度を得ることができる。（Ｃ）成分を１質量部以上添加することは、光照射量に依存なく硬化可能となり、さらに組成物の硬化体の架橋度が高くなり、切削加工時に位置ずれ等を起こさなくなる点や剥離性が向上する点で、さらに好ましい。

【0051】

光硬化性接着剤は、固着剤の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に溶解しない粒状物質（Ｄ）を含有するのが好ましい。これにより、硬化後の組成物が一定の厚みを保持できるため、加工精度が向上する。さらに、接着性組成物の硬化体と粒状物質（Ｄ）の線膨張係数が異なることから、前記接着剤組成物を用いて透光性硬質基板を貼り合わせた後に剥離する際の剥離性が向上する。

【0052】

粒状物質（Ｄ）の材質としては、一般的に使用される有機粒子、又は無機粒子いずれでもかまわない。具体的には、有機粒子としては、ポリエチレン粒子、ポリプロピレン粒子、架橋ポリメタクリル酸メチル粒子、架橋ポリスチレン粒子等が挙げられる。無機粒子としてはガラス、シリカ、アルミナ、チタン等セラミック粒子が挙げられる。

【0053】

粒状物質（Ｄ）は、加工精度の向上、つまり接着剤の膜厚の制御の観点から球状であることが好ましい。粒状物質（Ｄ）のレーザー法による平均粒径は２０〜２００μｍの範囲にあることが好ましい。前記粒状物質の平均粒径が２０μｍ以上であると剥離性に優れ、２００μｍ以下であると仮固定した部材の加工時にずれを生じ難く、寸法精度面で優れる。剥離性と寸法精度の観点からより好ましい平均粒径（Ｄ５０）は３５〜１５０μｍであり、更に好ましくは５０〜１２０μｍである。粒径分布は、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定される。

【0054】

粒状物質（Ｄ）の使用量は、接着性、加工精度、剥離性の観点から、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部が好ましく、０．０５〜１０質量部がより好ましく、０．１〜６質量部が最も好ましい。

【0055】

光硬化性接着剤には、貯蔵安定性向上のため重合禁止剤（Ｅ）を添加することができる。重合禁止剤としては、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）、カテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテル、モノターシャリーブチルハイドロキノン、２，５−ジターシャリーブチルハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジターシャリーブチル−ｐ−ベンゾキノン、ピクリン酸、クエン酸、フェノチアジン、ターシャリーブチルカテコール、２−ブチル−４−ヒドロキシアニソール及び２，６−ジターシャリーブチル−ｐ−クレゾール等が挙げられる。

【0056】

重合禁止剤（Ｅ）の使用量は、（Ａ）及び（Ｂ）の合計量１００質量部に対して、０．００１〜３質量部が好ましく、０．０１〜２質量部がより好ましい。０．００１質量部以上であれば、貯蔵安定性が確保されるし、３質量部以下であれば、良好な接着性が得られ、未硬化になることもない。

【0057】

照射する光の波長は使用する接着剤の特性に応じて適宜変更すればよいが、例えばマイクロ波、赤外線、可視光、紫外線、Ｘ線、γ線、電子線等を照射することができる。簡便に使用でき、比較的高エネルギーをもつことから一般的には照射光は紫外線である。このように、本発明において、光とは可視光のみならず、幅広い波長領域を包含する電磁波（エネルギー線）を指す。

【0058】

照射する光の照射量は、３６５ｎｍの受光器を使用した積算照度計で測定して、一般に１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ²、典型的には３０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ²であり、より典型的には１００〜２，５００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは３００〜２，０００ｍＪ／ｃｍ²である。照射時間としては一般に０．１〜２００秒、典型的には０．１〜３０秒、より典型的には０．１〜２０秒程度である。
＜常温硬化型アクリル接着剤＞
常温硬化型アクリル接着剤は、（Ａ）（メタ）アクリレート、（Ｂ）ラジカル重合開始剤及び（Ｃ）分解促進剤を含有することが好ましい。
（メタ）アクリレートとしては、多官能（メタ）アクリレートや単官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
（Ｂ）ラジカル重合開始剤としては、有機過酸化物が挙げられる。
（Ｃ）分解促進剤は、常温にてラジカル重合開始剤と反応し、ラジカルを発生するものが好ましい。分解促進剤としては、第３級アミン、チオ尿素誘導体及び金属塩等が挙げられる。
常温硬化型アクリル接着剤は、二剤常温硬化型アクリル接着剤として使用することが好ましい。二剤常温硬化型アクリル接着剤の実施態様としては、二剤型の接着剤として使用することが挙げられる。二剤型については、本発明の接着剤の必須成分全てを貯蔵中は混合せず、接着剤をＡ剤及びＢ剤に分け、Ａ剤に少なくともラジカル重合開始剤を、Ｂ剤に少なくとも分解促進剤を別々に貯蔵する。この場合、両剤を同時に又は別々に被着体に塗布して接触、硬化することにより、二剤型の常温硬化型アクリル接着剤として使用できる。
＜二剤硬化型エポキシ接着剤＞
二剤硬化型エポキシ接着剤は、接着剤をＡ剤及びＢ剤に分け、Ａ剤に少なくとも主剤を、Ｂ剤に少なくとも硬化剤を別々に貯蔵する。この場合、両剤を同時に又は別々に被着体に塗布して接触、硬化することにより、二剤硬化型のエポキシ接着剤として使用できる。
二剤硬化型エポキシ接着剤で使用するエポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
硬化剤は、エポキシ樹脂を硬化させうる成分である。硬化剤としては、アミン化合物、メルカプタン化合物及び酸無水物等が挙げられる。

【0059】

板状製品の生産効率向上の観点からは、透光性硬質基板を複数枚積層することが好ましい。板状製品の生産効率向上の観点からは、１０枚以上の透光性硬質基板、典型的には８〜３０枚の透光性硬質基板が積層された透光性硬質基板積層体を製造することが望ましい。

【0060】

次に、透光性硬質基板積層体を厚み方向に分割し、所望の数の分割された透光性硬質基板積層体を形成する。分割方法は特に制限はないが、円板カッター（ダイヤモンドディスク、超硬合金ディスク）、固定砥粒式又は遊離砥粒式ワイヤソー、レーザービーム、ウォータージェット、エッチング（例：フッ酸や硫酸等を用いた化学エッチングや電解エッチング）、及び赤熱帯(ニクロム線)をそれぞれ単独で又は組み合わせて使用して、同サイズの直方体形状に分割する方法が挙げられる。エッチングは分割後の切断面の表面処理に用いることもできる。
分割された透光性硬質基板積層体それぞれに対して所望の形状加工を行ってもよい。

【0061】

分割された透光性硬質基板積層体を加熱することで貼り合わせられていた透光性硬質基板同士を剥離し、複数の板状製品を形成する。加熱方法としては特に制限はないが、接着剤がフィルム状に軟化して各板状製品に上手く剥離するため、温水に形状加工後の透光性硬質基板積層体を浸漬する方法が好ましい。好適な温水の温度は採用する接着剤によって異なるが、通常は６０〜９５℃程度、好ましくは８０〜９０℃である。

【0062】

図１は、本発明による超音波洗浄装置の一例を示す概略図である。

【0063】

本実施態様を、図１に例示する。本実施態様は、芳香族アルコール系洗浄液を入れた超音波洗浄槽１、グリコールエーテル系洗浄液を入れた超音波洗浄槽２、洗浄液を流水して除去するシャワー洗浄槽３、シャワー廃水を一時回収する貯蔵槽４及びシャワー廃水を蒸発させる蒸発機５からなる。本発明は、硬質基板上に存在する接着剤を洗浄除去しつつ、廃水を回収した後、廃水中の水を蒸発させることにより、洗浄液、接着剤成分を固形分として回収する。

【0064】

＜１．超音波洗浄槽１及び超音波洗浄槽２＞
硬質基板上の接着剤成分を除去するための芳香族アルコール系洗浄液１０を貯蔵した超音波洗浄槽１、主に硬質基板に付着した芳香族アルコール系洗浄液１０を除去回収するためのグリコールエーテル系洗浄液１１を貯蔵した超音波洗浄槽２を有する。
硬質基板を洗浄する際、複数枚の硬質基板２１を等間隔で整列し、収容する収納棚２２を使用しても良い。

【0065】

＜２．シャワー洗浄槽３、貯蔵槽４、蒸発機５＞
硬質基板上に付着したグリコールエーテル系洗浄液を水で洗い流すためのシャワー洗浄槽３、シャワー水を一時的に回収貯蔵するための貯蔵槽４及び蒸発機５を有する。

【0066】

＜超音波洗浄槽１＞
超音波洗浄槽１の超音波発振周波数は、ガラスに接着された接着剤成分を剥離させる必要があることから、よりキャビテーションを起こす能力の高い、１６ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下が好ましく、２０ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下がより好ましい。超音波洗浄槽１の洗浄液温度は洗浄液濃度調整による液温度変化が少ない領域かつ、制御が可能な、２５℃以上６０℃以下が好ましく、３５℃以上５０℃以下が好ましい。
超音波洗浄槽１の底部には、超音波発振器１ａを設置している。超音波発振器１ａは、超音波洗浄槽１の側部に設置しても良い。

【0067】

＜超音波洗浄槽２＞
超音波洗浄槽２の超音波発振周波数は、前槽での処理にて膨順された未剥離残渣の除去および、前槽洗浄液を除去するため、前槽と同様の理由により、１６ｋＨｚ以上６０ｋＨｚ以下が好ましく、２０ｋＨｚ以上４０ｋＨｚ以下がより好ましい。超音波洗浄槽２の洗浄液温度は洗浄液濃度調整による液温度変化が少ない領域かつ、制御が可能な、２５℃以上６０℃以下が好ましく、３５℃以上５０℃以下が好ましい。

【0068】

超音波洗浄槽２の底部には、超音波発振器２ａを設置している。超音波発振器２ａは、超音波洗浄槽２の側部に設置しても良い。
超音波洗浄槽１や超音波洗浄槽２で、超音波を発振する際、超音波の振幅を変化させて洗浄効率を調節する機構、発振周波数自体を変化させることにより洗浄効果を均一に発現する機構、ガラスを揺動させることにより洗浄効果を均一に発現する機構、を含んでもよい。例えばガラスを収容した収納棚２２を揺動させながら超音波を発振することができる。

【0069】

＜シャワー洗浄槽３及び貯蔵槽４＞
シャワー洗浄槽３のシャワー３ａからシャワー水を硬質基板積層体に噴射し、硬質基板上に付着したグリコールエーテル系洗浄液や芳香族アルコール系洗浄液を水で洗い流す。シャワー水を硬質基板積層体に噴射できれば、シャワー洗浄槽３を設置しなくても良い。また、濯ぎ可能な水であればシャワーに限定する必要はなく、硬質基板積層体を水槽中へ浸漬することや硬質基板積層体に流水を掛けるなどの方法によって洗浄液を洗い流してもよいが、ＢＯＤ、ＣＯＤの高い洗浄剤を洗い落とす目的及び回収して蒸発させるという観点からは、処理量の問題でコストが増大するため、シャワー水が好ましい。

【0070】

シャワー洗浄槽３により洗い流した後のシャワー廃水は回収され、一時的に貯蔵槽４に貯蔵され、順次、蒸発機５に送液される。

【0071】

＜蒸発機５＞
蒸発機５に送られたシャワー廃水３１は加温される。蒸発機５は、シャワー廃水の蒸発効率を向上させるべく、多段棚構成としても良い。

【0072】

シャワー廃水３１は、蒸発機５に配置したヒーター５ａ等により５０℃以上１００℃以下に加温することが好ましい。加温することにより、シャワー廃水３１中の水成分を蒸発させ、シャワー廃水３１中の洗浄液成分及び接着剤成分を固形分として回収できる。これにより、廃水処理の負担が軽減できる。一般に、芳香族アルコール及びグリコールエーテルは沸点が水より高く、分離回収が可能である。芳香族アルコール及びグリコールエーテルは好ましくは沸点が１５０℃以上であり、より好ましくは１５０〜３００℃である。

【0073】

芳香族アルコール系洗浄液１０は、特に限定されるものではないが、芳香族アルコール、水及び界面活性剤を含有する芳香族アルコール／水／界面活性剤系のものを使用することができ、２５℃以上６０℃以下の温度範囲において、洗浄に必要な有効成分の芳香族アルコール及び界面活性剤が揮発又は変質しにくいものを使用することができる。芳香族アルコール系洗浄液の使用において揮発する水分は添加により調整してもよい。

【0074】

芳香族アルコールとしては、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ヒドロシンナミルアルコール、１−フェニル−１−ブタノール、フェノキシエタノール、フェノキシエタノール、これらのアルキル置換誘導体（ベンゼン環上の水素が低級アルキル基、例えば炭素数１〜３のアルキル基で置換された誘導体）等が挙げられる。これらの中では、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、ヒドロシンナミルアルコール、及びこれらのアルキル置換誘導体からなる群の１種以上が好適に使用でき、接着剤成分に対する膨潤能力が高い点で、ベンジルアルコールがより好ましい。

【0075】

界面活性剤としては、陰イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。このなかで陰イオン界面活性剤は、電離し、アルカリ性を示し、洗浄効果が高いことから、陰イオン界面活性剤が好ましい。陰イオン界面活性剤の中では、効果が大きい点で、芳香族スルホン酸や芳香族スルホン酸塩が好ましい。芳香族スルホン酸としては、クメンスルホン酸、キシレンスルホン酸、トルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。芳香族スルホン酸塩としては、芳香族スルホン酸の塩が挙げられる。塩としては、ナトリウム塩、アンモニウム塩等が挙げられる。塩の中では、効果が大きい点で、ナトリウム塩が好ましい。芳香族スルホン酸や芳香族スルホン酸塩の中では、効果が大きい点で、キシレンスルホン酸やキシレンスルホン酸塩が好ましく、キシレンスルホン酸ナトリウムがより好ましい。

【0076】

特に好ましくは、ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系である。ベンジルアルコール／水／キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤系の芳香族アルコール系洗浄液１０は、ベンジルアルコール３０〜５０質量％、水３０〜５０質量％、キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤５〜２０質量％を含有することが好ましい。

【0077】

次いで、グリコールエーテル系洗浄液１１は、特に限定されるものではないが、グリコールエーテル、水及び界面活性剤を含有するグリコールエーテル／水／界面活性剤系のものを使用することができる。グリコールエーテル系洗浄液１１の使用において揮発する水分は添加により調整してもよい。
グリコールエーテルとしては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル，３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル等が挙げられる。これらの中では、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル，３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールからなる群の１種以上が好適に使用でき、入手しやすい点に加え、混合物としての曇点を上げ、使用可能な温度範囲を広げる、また、防腐効果が大きい点で、ジエチレングリコールモノブチルエーテルがより好ましい。

【0078】

界面活性剤としては、陰イオン界面活性剤、非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。これらの中では、低濃度での洗浄性に優れ、洗浄が困難な付着油脂分の洗浄効果が大きい点で、非イオン界面活性剤が好ましい。非イオン界面活性剤の中では、効果が大きい点で、少なくとも、ポリオキシエチレン系でエーテル構造をもつものを１種以上含み、さらに好ましくはアルキルアミン系を含むことが好ましい。

【0079】

グリコールエーテル系洗浄液１１は、グリコールエーテル系の化合物を含有する洗浄液である。グリコールエーテル系洗浄液１１は、好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系がらなる群のうちの１種以上であり、より好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系やジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系であり、最も好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系である。

【0080】

アルキルの炭素数は、１〜２０個が好ましい。アルキルの炭素数は、ポリオキシエチレンアルキルエーテルやポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの場合、２〜１６個が好ましく、１０〜１６個がより好ましい。アルキルの炭素数は、ポリオキシエチレンアルキルアミンの場合、１２〜１８個が好ましい。

【0081】

ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては、例えば、ＲＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＨで示される化合物が挙げられる。例えば、Ｒはアルキル基であり、ｎ＞０である。ｎは１〜１５０が好ましく、５〜１０がより好ましい。ポリオキシエチレンアルキルエーテルとしては例えば、ペンタエチレングリコールモノドデシルエーテルやオクタエチレングリコールモノドデシルエーテルが挙げられる。

【0082】

ポリオキシエチレンアルキルアミンとしては、例えば、ＲＮＨ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_nＨやＲＮ（（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_xＨ）（（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_yＨ）で示される化合物が挙げられる。例えば、Rはアルキル基であり、ｎ＞０、ｘ＞０、ｙ＞０である。ｎ、ｘ、ｙは１〜１５０が好ましく、１〜１０がより好ましい。ポリオキシエチレンアルキルアミンとしては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ポリオキシエチレンミリスチルアミン、ポリオキシエチレンパルミチルアミン、ポリオキシエチレンステアリルアミンが挙げられる。

【0083】

グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル及び／又はポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／水系である場合、グリコールエーテル系洗浄液は、ジエチレングリコールモノブチルエーテル４．５〜９５質量％、ポリオキシエチレンアルキルエーテル及び／又はポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル０〜２５質量％、水０．５〜９１質量％を含有することが好ましい。グリコールエーテル系洗浄液が、ジエチレングリコールモノブチルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルエーテル及び／又はポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル／ポリオキシエチレンアルキルアミン／水系である場合、ジエチレングリコールモノブチルエーテル３〜１５質量％、ポリオキシエチレンアルキルエーテル２〜１５質量％、ポリオキシエチレンアルキルアミン２〜１５質量％、水３５〜８７質量％を含有することがより好ましく、ジエチレングリコールモノブチルエーテル４．５〜１０質量％、ポリオキシエチレンアルキルエーテル４〜１０質量％、ポリオキシエチレンアルキルアミン４〜１０質量％、水５５〜８４．５質量％を含有することがより好ましい。

【実施例】

【0084】

以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0085】

＜実験例＞
硬質基板積層体として下記ガラス積層体を剥離したガラスを使用した。板ガラスは、１枚の寸法が、横５３０ｍｍ×縦４２０ｍｍ×厚み０．７ｍｍの、めっきパターンを付した板ガラスを使用した。特記しない限り、２３℃、湿度５０％で実験した。

【0086】

＜実験例１＞
接着剤（Ｉ）として、下記の（Ａ）〜（Ｅ）の成分を混合して仮固定用アクリル紫外線硬化型接着剤（Ｉ）を作製した。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとして、日本合成社製「ＵＶ−３０００Ｂ」（ウレタンアクリレート以下「ＵＶ−３０００Ｂ」と略す、重量平均分子量１８０００、ポリオール化合物はポリエステルポリオール、有機ポリイソシアネート化合物はイソホロンジイソシアネート、ヒドロキシ（メタ）アクリレートは２−ヒドロキシエチルアクリレート）２０質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＲ−６８４」、以下「Ｒ−６８４」と略す）１５質量部、
（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートとして、２−（１，２−シクロヘキサカルボキシイミド）エチルアクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１４０」、以下「Ｍ−１４０」と略す）５０質量部、フェノールエチレンオキサイド２モル変性アクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１０１Ａ」）１５質量部、
（Ｃ）光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１」）、以下「ＢＤＫ」と略す）８質量部、
（Ｄ）粒状物質として平均粒径１００μｍの球状架橋ポリスチレン粒子（ガンツ化成社製「ＧＳ−１００Ｓ」）１質量部、
（Ｅ）重合禁止剤として２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）（住友化学社製「スミライザーＭＤＰ−Ｓ」、以下「ＭＤＰ」と略す）０．１質量部。

【0087】

硬化条件は以下の通りである。接着剤（Ｉ）の硬化におけるＵＶ（紫外線）照射量は２０００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍの受光器による積算照度計による測定）とし、ＵＶ照射時間は２０秒とした。
板ガラスを順次接着剤により接着し、板ガラス１２枚からなる板ガラス積層体を製造した。この板ガラス積層体を円板カッター（ダイヤモンドディスク）により、横４７．６ｍｍ×縦１０８ｍｍ×厚み９．５５ｍｍの直方体形状に分割した。

【0088】

この分割した板ガラス積層体を８５℃の温水に浸漬して剥離し、多数の板状ガラスを得た。

【0089】

このガラス２１を、図１に示す装置を用い、表１に示す条件、下記の順序により上下に揺動させながら、洗浄し、洗浄効果を測定した。洗浄は、ガラス２０枚を間隙１０ｍｍの等間隔で平行に保持し、収容した収納棚２２に対して行った。ガラス収納棚２２を５個使用した（洗浄したガラスは１００枚である）。
（１）接着剤により接着した硬質基板積層体を芳香族アルコール系洗浄液（ベンジルアルコール５０質量％、水３５質量％、キシレンスルホン酸ナトリウム系界面活性剤１５質量％）に浸漬させる工程
（２）工程（１）によって硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上の接着剤を洗浄し、除去する工程
（３）次いで、硬質基板積層体を、グリコールエーテル系洗浄液（Ｉ）（ジエチレングリコールモノブチルエーテル４．５質量％、ポリオキシエチレンラウリルフェニルエーテル（ｎ＝９〜１０）５．５質量％、水９０質量％）に浸漬させる工程
（４）工程（３）によって硬質基板を浸漬させた状態を保持しながら、超音波の発振により、硬質基板上に付着した前記芳香族アルコール系洗浄液をすすぐ工程
（５）次いで、硬質基板上に付着した前記グリコールエーテル系洗浄液及び芳香族アルコール系洗浄液をシャワー水によりすすぎ落とす工程

【0090】

洗浄効果は以下の通り、表1に示した。洗浄したガラスの外観を目視した。洗浄したガラス１００枚中、洗浄液と接着剤成分がガラス表面に残らなかったガラスの枚数を記載した。

【0091】

【表1】

【0092】

上記表１に示されるとおり、ガラス上に付着する仮固定用紫外線硬化型アクリル接着剤成分を除去するに当たり、洗浄液温度を制御しながら超音波周波数を選定することにより、ガラスを高い洗浄性をもって洗浄できることがわかった。

【0093】

シャワー廃水を、８０℃に加温し、シャワー廃水中の水分を蒸発させることにより、洗浄液、接着剤成分を固形分として回収できた。

【0094】

＜実験例２＞
接着剤（Ｉ）の代わりに、接着剤（ＩＩ）を用いたこと以外は、実験例１と同様に行った。接着剤（ＩＩ）として、化研テック社製アクリル系常温硬化型仮固定二剤接着剤ＣＴ−２０２６Ａ／Ｂを、Ａ剤：Ｂ剤＝１：１（質量比）で混合し、作製した。接着剤（ＩＩ）の硬化条件は、以下の通りにした。硬化における環境温度は２５℃とし、時間は６０分とした。
洗浄効果は以下の通り、表２に示した。

【0095】

【表2】

【0096】

上記表２に示されるとおり、ガラス上に付着する常温硬化型アクリル接着剤成分を除去するに当たり、洗浄液温度を制御しながら超音波周波数を選定することにより、ガラスを高い洗浄性をもって洗浄できることがわかった。しかし、洗浄効果は、接着剤（Ｉ）が大きかった。

【0097】

＜実験例３＞
接着剤（Ｉ）の代わりに、接着剤（ＩＩＩ）を用いたこと以外は、実験例１と同様に行った。接着剤（ＩＩＩ）として、化研テック社製エポキシ系仮固定接着剤ＣＴ−２４５０Ｍ（主剤）、ＣＴ−２４５１Ｈ（硬化剤）を混合し、作製した。硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して、硬化剤の活性水素当量で１当量である。接着剤（ＩＩＩ）の硬化条件は、以下の通りにした。接着剤（ＩＩＩ）の硬化における環境温度は５０℃とし、時間は６０分とした。
洗浄効果は以下の通り、表３に示した。

【0098】

【表3】

【0099】

上記表３に示されるとおり、ガラス上に付着する二剤硬化型エポキシ接着剤成分を除去するに当たり、洗浄液温度を制御しながら超音波周波数を選定することにより、ガラスを確実に洗浄できることがわかった。しかし、洗浄効果は、接着剤（Ｉ）や接着剤（ＩＩ）が大きかった。

【0100】

＜実験例４＞
接着剤（Ｉ）の代わりに、接着剤（ＩＶ）を用いたこと以外は、実験例１と同様に行った。
接着剤（ＩＶ）として、下記の（Ａ）〜（Ｅ）の成分を混合して仮固定用アクリル紫外線硬化型接着剤（ＩＶ）を作製した。
（Ａ）多官能（メタ）アクリレートとして、日本合成社製「ＵＶ−３０００Ｂ」（ウレタンアクリレート、以下「ＵＶ−３０００Ｂ」と略す）２０質量部、ジシクロペンタニルジアクリレート（日本化薬社製「ＫＡＹＡＲＡＤＲ−６８４」、以下「Ｒ−６８４」と略す）２５質量部、
（Ｂ）単官能（メタ）アクリレートとして、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−５７００」、以下「Ｍ−５７００」と略す）３５質量部、フェノールエチレンオキサイド２モル変性アクリレート（東亜合成社製「アロニックスＭ−１０１Ａ」）２０質量部、
（Ｃ）光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１」）、以下「ＢＤＫ」と略す）１０質量部、
（Ｄ）粒状物質として平均粒径１００μｍの球状架橋ポリスチレン粒子（ガンツ化成社製「ＧＳ−１００Ｓ」）１質量部、
（Ｅ）重合禁止剤として２，２−メチレン−ビス（４−メチル−６−ターシャリーブチルフェノール）（住友化学社製「スミライザーＭＤＰ−Ｓ」、以下「ＭＤＰ」と略す）０．１質量部。
洗浄効果は以下の通り、表４に示した。

【0101】

【表4】

【0102】

上記表４に示されるとおり、ガラス上に付着する仮固定用紫外線硬化型アクリル接着剤を除去するに当たり、洗浄液温度を制御しながら超音波周波数を選定することにより、ガラスを高い洗浄性をもって洗浄できることがわかった。洗浄効果は、接着剤（Ｉ）と同じであった。
シャワー廃水を、８０℃に加温し、シャワー廃水中の水分を蒸発させることにより、洗浄液、接着剤成分を固形分として回収できた。

【0103】

＜実験例５＞
グリコールエーテル系洗浄液（Ｉ）の代わりに、グリコールエーテル系洗浄液（ＩＩ）（ジエチレングリコールモノブチルエーテル４．５質量％、ペンタエチレングリコールモノドデシルエーテル５．５質量％、ポリオキシエチレンラウリルアミン５．５質量％、水８４．５質量％）を使用したこと以外は、実験例１と同様に行った。
洗浄効果は以下の通り、表５に示した。

【0104】

表５に示されるとおり、ガラス上に付着する仮固定用紫外線硬化型アクリル接着剤を除去するに当たり、ポリオキシエチレンアルキルアミンを含有するグリコールエーテル系洗浄液を使用することにより、ガラスを高い洗浄性をもって洗浄できることがわかった。洗浄効果は、洗浄効果は、グリコールエーテル系洗浄液（Ｉ）より大きかった。
シャワー廃水を、８０℃に加温し、シャワー廃水中の水分を蒸発させることにより、洗浄液、接着剤成分を固形分として回収できた。

【0105】

【表5】

【0106】

＜実験例６＞
グリコールエーテル系洗浄液（Ｉ）の代わりに、グリコールエーテル系洗浄液（ＩＩ）（ジエチレングリコールモノブチルエーテル４．５質量％、ペンタエチレングリコールモノドデシルエーテル５．５質量％、ポリオキシエチレンラウリルアミン５．５質量％、水８４．５質量％）を使用したこと以外は、実験例４と同様に行った。
洗浄効果は以下の通り、表６に示した。

【0107】

表６に示されるとおり、ガラス上に付着する仮固定用紫外線硬化型アクリル接着剤を除去するに当たり、ポリオキシエチレンアルキルアミンを含有するグリコールエーテル系洗浄液を使用することにより、ガラスを高い洗浄性をもって洗浄できることがわかった。洗浄効果は、洗浄効果は、グリコールエーテル系洗浄液（Ｉ）より大きかった。
シャワー廃水を、８０℃に加温し、シャワー廃水中の水分を蒸発させることにより、洗浄液、接着剤成分を固形分として回収できた。

【0108】

【表6】

【0109】

本発明は、接着剤の除去に有効な芳香族アルコール系洗浄液を用い、超音波を発振することにより、硬質基板を洗浄することができる。

【0110】

本発明は、ＢＯＤ、ＣＯＤの高い、芳香族アルコール系洗浄液をグリコールエーテル系洗浄液中に分散回収することにより、芳香族アルコール系洗浄液の排出を抑制できる。本発明は、水との相溶性の高い、グリコールエーテル系洗浄液を少量の水ですすぎ落とすことが可能である。本発明は、洗浄液を回収の上、水を蒸発させることにより、ＢＯＤ、ＣＯＤの高い洗浄液及び接着剤を固相として回収できる。

【0111】

例えば、ガラス表面上にＵＶ光が透過しにくい印刷パターンやめっきパターン等が施されていた場合、その部分に隣接する接着剤は、ガラスへの付着性が高く、ガラス積層体と接着剤を剥離しても、ガラス表面上に接着剤成分が残りやすい。本発明は、ガラス表面上にＵＶ光が透過しにくい印刷パターンやめっきパターン等が施されていても、ガラス表面上の接着剤成分を洗浄剤と共に除去できる。本発明の産業上利用性は極めて大きい。

【符号の説明】

【0112】

１ 超音波洗浄槽
１ａ 超音波発振器
２ 超音波洗浄槽
２ａ 超音波発振器
３ シャワー洗浄槽
３ａ シャワー
４ 貯蔵槽
５ 蒸発機
５ａ ヒーター
１０ 芳香族アルコール系洗浄液
１１ グリコールエーテル系洗浄液
２１ 硬質基板
２２ 収納棚
３１ シャワー廃水

【図1】