特許 5899752 凸版印刷装置及び有機ＥＬパネルの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5899752

(24)【登録日】2016年3月18日

(45)【発行日】2016年4月6日

(54)【発明の名称】凸版印刷装置及び有機ＥＬパネルの製造方法

(51)【国際特許分類】

   B41F 3/20 20060101AFI20160324BHJP

   B41F 17/14 20060101ALI20160324BHJP

   B41F 35/02 20060101ALI20160324BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20160324BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20160324BHJP

【ＦＩ】

   B41F3/20 Z

   B41F17/14 E

   B41F35/02

   H05B33/10

   H05B33/14 A

【請求項の数】6

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2011-212640(P2011-212640)

(22)【出願日】2011年9月28日

(65)【公開番号】特開2013-71338(P2013-71338A)

(43)【公開日】2013年4月22日

【審査請求日】2014年8月21日

(73)【特許権者】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】凸版印刷株式会社

(72)【発明者】

【氏名】茅根 博之

(72)【発明者】

【氏名】大薗 哲郎

(72)【発明者】

【氏名】久保 祐治

【審査官】 藏田 敦之

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０４−３６４９５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−１２３３９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２６３５３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１５５８５８（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ４１Ｆ ３５／００ − ３５／０６

Ｂ４１Ｆ ３／００ − ３／８６

Ｂ４１Ｆ １７／１４

Ｂ４１Ｍ １／００ − １／４２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

支持基台上に、凸版と、凸版を設置する回転式の版シリンダと、凸版にインキを供給するインキ供給部と、被印刷基板を載置して前記凸版上のインキを被印刷基板に転写する凸版印刷部とを具備する凸版印刷装置であって、
予備転写の際に前記被印刷基板に代えて凸版上のインキを転写する予備転写部を備えており、かつ、この予備転写部の被転写表面の材質が前記被印刷基板表面と同一の材質であり、被転写表面のパターン形状が、被印刷基板の表面のパターン形状と同形状であることを特徴とする凸版印刷装置。

【請求項2】

前記予備転写部が、洗浄液を貯える貯液槽と、上面が洗浄液から露出するとともに下面が洗浄液に浸漬している回転ロールと、回転ロールの表面を擦るように洗浄液内に配置された洗浄液内ドクターと、洗浄液内ドクターで擦られた回転ロールの表面をさらに擦るように洗浄液外に配置された洗浄液外ドクターと、洗浄液外ドクターで擦られた回転ロールの表面に窒素またはクリーンエアを吹き付ける乾燥ノズルとを備え、前記回転ロールの上面に、前記凸版を接触させて該凸版上に供給されたインキを転写させることを特徴とする請求項１に記載の凸版印刷装置。

【請求項3】

前記貯液槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、前記貯液槽から洗浄液をオーバーフローさせるオーバーフロー管とを備えることを特徴とする請求項２に記載の凸版印刷装置。

【請求項4】

前記回転ロールの上面に前記凸版を接触させてインキを転写しているときに、前記洗浄液供給ノズルが、前記貯液槽内に供給する洗浄液を、インキが転写された前記回転ロールの表面に吐出することを特徴とする請求項３記載の凸版印刷装置。

【請求項5】

前記予備転写部の被転写表面が、有機ＥＬパネルを構成する基板上に設けられた画素電極、隔壁、正孔輸送層によるパターン形状と同形状である請求項１〜４のいずれかに記載の凸版印刷装置を用いて、有機ＥＬパネルを構成する有機発光層を形成することを特徴とした有機ＥＬパネルの製造方法。

【請求項6】

前記凸版印刷装置を用いて、凸版から前記予備転写部への前記有機発光層の形成用インキの予備転写を１〜２０回実施した後、前記有機発光層形成用インキを前記被印刷基板に転写することを特徴とする請求項５記載の有機ＥＬパネルの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、高分子有機ＥＬディスプレイパネルを製造するための印刷装置と高分子有機ＥＬディスプレイパネル製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機エレクトロルミネッセンス（以下ＥＬ）素子は、対向する陽極と陰極との間に有機発光材料からなる有機発光層が形成された構造をもつ発光素子であり、電圧の印加によって陽極、陰極からそれぞれ正孔、電子が注入され、それらが有機発光層で再結合を起こすことにより発光するものであるが、効率の良い発光を得るためには、有機発光層の膜厚が重要な要素であり、数ｎｍから数十ｎｍ程度で膜厚をコントロールする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。

【0003】

有機発光層に用いられる有機発光材料は、低分子系材料と高分子系材料に区分されており、有機発光層の形成方法は有機発光材料の種類によって異なる。

【0004】

一般に低分子系材料は、抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等によって基板に薄膜を形成する。有機ＥＬ素子をフルカラー化する場合には、各色の画素形状に応じたパターンのマスクを用いて、異なる発光色の発光材料をそれぞれの画素に蒸着して形成する方法が採用されている。この方法は、薄膜形状を均一に形成するには優れた方法であるが、蒸着される基板が大型になるとマスクのパターン精度が出難くなるという問題点がある。

【0005】

一方で高分子系材料では、有機発光材料を溶剤に溶解あるいは分散させてインキ化し、これをウェットコーティング法によって薄膜を形成する方法が主に用いられている。ウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細なパターニングや、フルカラー化の色の塗り分けにこれらの方法を用いることは困難である。そこで、フルカラー化に有機発光材層をパターニングする手段としては、インキジェット法や印刷法によるパターン印刷が有効であると考えられる。

【0006】

高精細パターニング方法のひとつとして、例えばインキジェットノズルから溶剤に溶かした有機発光材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることでパターンを形成するインキジェット方法がある（特許文献１）。この方法においては、ノズルから噴出されたインキ液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインキが円形状に広がり、形成されたパターンの形状が直線性に欠けたり、あるいは着弾精度が悪くなってパターンの直線性が得られなかったりするという課題がある。

【0007】

一方で印刷法によるパターン形成方法には、凸版印刷法、反転印刷法、スクリーン印刷法等が提案されている。有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基材としてガラス基板を用いることが多く、グラビア印刷法等のように金属製等の硬い印刷版を用いる方法は不向きである。そのため、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適正な印刷法と考えられている。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献３）などが提唱されている。特に凸版印刷による方法は、パターン形成精度や膜厚均一性などに優れ、印刷による有機ＥＬ素子の製造方法として最も適している。

【0008】

凸版印刷法による有機ＥＬ素子の作製工程の一例を以下に示す。まず、微細な孔を有するアニロックスロールの表面にインキを塗布する。次に、アニロックスロール表面の余分なインキをドクターでかきとることによって、アニロックスロールの単位面積あたりのインキ塗布量を均一にする。その後、有機ＥＬ素子の画素形状に対応してパターニングされた印刷版上にアニロックスロール上のインキを転写する。最後に、印刷版上のインキ薄膜を基板上に転写させることで有機ＥＬ素子の発光層を形成する。

【0009】

図１に凸版印刷法によって発光部を形成するための印刷工程の一例を図示する。図１中に示すインキングユニット１０３にはインキが貯留されている。アニロックスロール１０４にはこのインキパン１０３中においてインキが供給された後に、その上の余分なインキがドクター１０５によって掻き落とされ、孔内部にのみインキが蓄えられる。孔内部のインキは、アニロックスロール１０４と相対して回転する版胴１０２に巻かれている凸版１０１の画像形成部上に転移させられ、そこにインキの薄膜を形成する。さらに、画像形成部上に形成された薄膜は版胴１０２と相対して移動する被印刷基板１０６上に転写される。

【0010】

有機ＥＬ素子を凸版印刷法で作製する場合、印刷版上の転写パターンは有機ＥＬ素子の各画素を構成する複数の発光部のうち、同色発光部を形成するための転写パターンが複数配列された構成となっており、それぞれの発光色に発光する発光部を順次印刷していくことで有機発光層を得ている。

【0011】

前述したように、凸版印刷法ではアニロックスロールから凸版にインキを転写することで凸版上にインキの薄膜が形成されるが、従来の凸版印刷用装置では、印刷の刷り出し初期の凸版上のインキ膜厚が一定でなく、被印刷基板への転写に対して不安定な状態なため、被印刷基板に形成されるインキ膜厚が均一性に欠け、転写欠陥が発生するという問題があった。

【0012】

その為に凸版印刷法においては、印刷前に予備転写を複数回実施することで、凸版上のインキ膜厚を均一に安定させ、被印刷基板への転写精度を向上させている。しかしながら、有機ＥＬ素子は高価なガラス基板とインキを用いるために、印刷前の予備転写を複数回実施することはランニングコスト増大につながるという課題がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0013】

【特許文献1】特開平１０−１２３７７号公報

【特許文献2】特開２００１−９３６６８号公報

【特許文献3】特開２００１−１５５８５８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0014】

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、被印刷基板を用いずに凸版のインキの予備転写を実施することによって、被印刷基板上に転写不良のない均一なパターンを安価に転写することができる凸版印刷装置と、この凸版印刷装置を用いて有機ＥＬパネルを製造する方法とを提供することを課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0015】

上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、支持基台上に、凸版と、凸版を設置する回転式の版シリンダと、凸版にインキを供給するインキ供給部と、被印刷基板を載置して前記凸版上のインキを被印刷基板に転写する凸版印刷部とを具備する凸版印刷装置であって、
予備転写の際に前記被印刷基板に代えて凸版上のインキを転写する予備転写部を備えており、かつ、この予備転写部の被転写表面の材質が前記被印刷基板表面と同一の材質であり、被転写表面のパターン形状が、被印刷基板の表面のパターン形状と同形状であることを特徴とする凸版印刷装置である。

【0017】

また、請求項２に記載の発明は、前記予備転写部が、洗浄液を貯える貯液槽と、上面が洗浄液から露出するとともに下面が洗浄液に浸漬している回転ロールと、回転ロールの表面を擦るように洗浄液内に配置された洗浄液内ドクターと、洗浄液内ドクターで擦られた回転ロールの表面をさらに擦るように洗浄液外に配置された洗浄液外ドクターと、洗浄液外ドクターで擦られた回転ロールの表面に窒素またはクリーンエアを吹き付ける乾燥ノズルとを備え、前記回転ロールの上面に、前記凸版を接触させて該凸版上に供給されたインキを転写させることを特徴とする請求項１に記載の凸版印刷装置である。

【0018】

また、請求項３に記載の発明は、前記貯液槽内に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、前記貯液槽から洗浄液をオーバーフローさせるオーバーフロー管とを備えることを特徴とする請求項２に記載の凸版印刷装置である。

【0019】

また、請求項４に記載の発明は、記回転ロールの上面に前記凸版を接触させてインキを
転写しているときに、前記洗浄液供給ノズルが、前記貯液槽内に供給する洗浄液を、イン
キが転写された前記回転ロールの表面に吐出することを特徴とする請求項３記載の
凸版印刷装置である。

【0020】

また、請求項５に記載の発明は、前記予備転写部の被転写表面が、有機ＥＬパネルを構成する基板上に設けられた画素電極、隔壁、正孔輸送層によるパターン形状と同形状である請求項１〜４のいずれかに記載の凸版印刷装置を用いて、有機ＥＬパネルを構成する有機発光層を形成することを特徴とした有機ＥＬパネルの製造方法である。

【0021】

また、請求項６に記載の発明は、前記凸版印刷装置を用いて、凸版から前記予備転写装置への前記有機発光層形成用インキの予備転写を１〜２０回実施した後、前記有機発光層形成用インキを前記被印刷基板に転写することを特徴とする請求項５記載の有機ＥＬパネルの製造方法である。

【発明の効果】

【0022】

請求項１に記載の発明では、凸版に予備転写部が当接して予備転写部に対するインキの予備転写が行われている間は、被印刷基板へのインキの転写が行われず被印刷基板が消費されない。

【0023】

したがって、インキ転写の不安定な印刷初期時に被印刷基板を消費することなく予備転写によりインキ転写を安定させ、被印刷基板にはインキを安定して転写させることができる。

【0024】

また、インキ薄膜が形成された凸版と予備転写部の接触面が被印刷基板と同材質であるため、被印刷基板を用いた予備転写と同等の転写安定性が得られる。それにより転写バラツキが抑制された高品質な有機ＥＬパネルの製造が可能になる。

【0025】

また、凸版表面のインキ薄膜形成部と接触する予備転写部表面が被印刷基板と表面形状が同様であることにより、該凸版表面から予備転写部表面へのインキ転写状態を被印刷基板への転写状態に近づけることができる。そのため、被印刷基板を用いた予備転写と同等の転写安定性が得られ、転写バラツキが抑制された高品質な有機ＥＬパネルの製造が可能になる。

【0026】

請求項２に記載の発明では、回転ロールの表面に転写したインキは、洗浄液内ドクターにより洗浄液中で掻き落とされるので、掻き落とされた塗布液が乾燥して回転ロールを汚染することが無い。また、洗浄液内ドクターでインキが掻き落とされた回転ロール表面は、そこに付着した洗浄液は洗浄液外ドクターで掻き落とされ、さらに窒素またはクリーンエアが吹き付けられるので確実に乾燥する。これによって回転ロール表面を清潔かつ乾燥状態で維持することが可能となる。

【0027】

また、常に清潔かつ乾燥状態の回転ロールに予備転写することで、凸版上に形成されたインキが転写に最適の状態となる。これによって、膜厚均一性の高い有機ＥＬ素子の作製が可能となる。

【0028】

さらに、従来予備転写に使用していた基材が不要となり、また工程削減が可能なためコスト削減効果がある。

【0029】

請求項３に記載の発明では、凸版上に形成されたインキ薄膜を回転ロール上に予備転写している間、貯液槽に洗浄液が供給されるとともに貯液槽から洗浄液をオーバーフローするので、貯液槽内の洗浄液は適宜置換され洗浄効果がなくなるほど汚れることはない。

【0030】

請求項４に記載の発明では、インキが転写した回転ロール表面に貯液槽に供給される洗浄液をかけるので、より高い洗浄効果が得られる。

【0031】

請求項５に記載の発明では、請求項１〜４のいずれかに記載の凸版印刷装置を用いて有機ＥＬパネルの透光性基板に有機発光層を形成するので、予備転写部を用いた有機発光層形成用インキの予備転写には、高価な透光性基板が予備転写により消費されない。したがって、膜厚均一性の高い有機発光層を安価なコストで透光性基板に形成することができる。

【0032】

請求項６に記載の発明では、凸版印刷部でインキングされた凸版から予備転写部への予備転写を１〜２０回実施した後、被印刷基板に転写することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法で、予備転写を実施する事で凸版から被印刷基板への転写安定性が向上する効果があり、これによって膜厚均一性の高い有機ＥＬパネルの作製が可能になる。また、洗浄剤に浸漬された回転ロールを予備転写部に用いる場合、予備転写後の回転ロールは洗浄後に繰り返し使用可能であるため、予備転写で透光性基板を使用することなく膜厚均一性の高い有機ＥＬパネルの作製が可能になる。これによって安価に高品位な製品を製造可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0033】

【図1】従来の凸版印刷装置の一実施形態の断面概略図である。

【図2】本発明の凸版印刷装置の一実施形態の断面概略図である。

【図3】本発明の凸版印刷装置に係る予備転写部の一実施形態の断面概略図である。

【図4】本発明の有機ＥＬパネルの一実施形態の断面概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0034】

本発明に係る凸版印刷装置の凸版印刷部１００は、図１に示すような従来の凸版印刷装置と概ね同じであり、回転式の版胴１０２（請求項中の版シリンダに相当）、版胴１０２の周囲に形成される発光パターン形成用の凸版１０１、被印刷基板１０６を搬送する移動定盤１０７と、凸版１０１上にインキを供給するアニロックスロール１０４と、アニロッ
クスロール１０４にインキを供給するインキングユニット１０３と、アニロックスロール１０４上の余剰インキを除去するドクター１０５で構成されている。

【0035】

本発明の凸版印刷装置は図２に示すように、図１に示す従来の凸版印刷装置（本発明の凸版印刷部１００）に加えて、移動定盤１０７に伴って移動する予備転写部２００を備えている。そして、支持基台３００が版胴１０２の下方に位置して水平に設置され、移動定盤１０７及び予備転写部２００は、支持基台３００上にガイドを介して版胴１０２の回転軸と直角な水平方向に移動可能なように設置されている。

【0036】

以下、本発明の凸版印刷装置の各構成を詳細に説明する。

【0037】

図２に示すように、本発明の凸版印刷部１００は、版胴１０２が移動定盤１０７上に配置されるものであり、定位置に回転可能に支持されている。凸版１０１は、版胴１０２の周面に装着されている。アニロックスロール１０４は版胴１０２の回転軸と平行にかつ凸版１０１の表面の版面と接触するように設置されている。インキングユニット１０３はインキングユニット１０３の種類に応じて、アニロックスロール１０４とインキングユニット１０３の供給口とが接するよう設置されている。被印刷基板１０６は移動定盤１０７上に載置されている。移動定盤１０７は版胴１０２の回転軸と直交する方向に水平に移動するよう設置されている。

【0038】

上述した構成の凸版印刷部１００では、アニロックスロール１０４の回転に伴い、インキングユニット１０３から供給されたインキがアニロックスロール１０４表面に均一に保持されたあと、版胴１０２に取り付けされた凸版１０１の版面に転移する。被印刷基板１０６は摺動可能な移動定盤１０７上に固定され、凸版１０１のパターンと被印刷基板１０６のパターン形成位置との位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動する。印刷開始位置からは被印刷基板１０６は凸版１０１の凸部と接して版胴１０２の回転と同期しながら移動し、凸版１０１から被印刷基板１０６の所定位置にパターニングしてインキが転写される。被印刷基板１０６にインキパターンが形成された後は、必要に応じてオーブンなどによる乾燥工程を設けることができる。

【0039】

本発明の実施の形態に係る予備転写部２００の一例を図３に示す。予備転写部２００は、洗浄液２１３を貯える貯液槽２０８と、上面が洗浄液２１３から露出するとともに下面が洗浄液２１３に浸漬している回転ロール２０１と、回転ロール２０１の表面を擦るように洗浄液２１３内に配置された洗浄液内ドクター２０３と、洗浄液内ドクター２０３で擦られた回転ロール２０１の外周をさらに擦るように洗浄液２１３外に配置された洗浄液外ドクター２０５と、洗浄液外ドクター２０５で擦られた回転ロール２０１の表面に窒素またはクリーンエアを吹き付ける乾燥ノズル２０７とを備え、インキ薄膜が形成された凸版１０１から回転ロール２０１の上面にインキを転写させるものである。

【0040】

また、予備転写部２００は、貯液槽２０８内に洗浄液２１３を供給する洗浄液供給ノズル２０２と、貯液槽２０８から洗浄液２１３をオーバーフローさせるオーバーフロー管２０９とを備えている。洗浄液供給ノズル２０２は、インキが転写された回転ロール２０１の表面の方に向けて配置されていることが望ましい。

【0041】

また、予備転写部２００は、ドレンバルブ２１１を有するドレン管２１５を貯液槽２０８の底に備える。ドレンバルブ２１１が開くと、ドレン管２１５は、貯液槽２０８の底から洗浄液２１３を排出し、ドレンバルブ２１１が閉じると、洗浄液２１３が貯液槽２０８に貯液される。

【0042】

前記回転ロール２０１の表面（予備転写部の被転写表面）の材質は、被印刷基板最表面
と同材質を使用することが望ましい。すなわち、同一の材料にすることにより、被印刷基板に印刷されるインキの状態（性状）と同じ環境で予備転写を行うことができ、予備転写でのインキ転移（印刷品位）がそのまま被印刷基板の印刷品位の確認とすることができる。
なお、本発明に用いられる被印刷基板最表面としては、有機化合物が好ましいが、特に限定するものではない。

【0043】

また、前記回転ロール２０１の表面（予備転写部の被転写表面）のパターン形状を、被印刷基板の表面パターン形状と同じパターン形状にすることが望ましい。すなわち、予備転写部の被転写表面のパターン形状と被印刷基板の表面パターン形状と同じパターン形状にすることにより、インキ、版、パターンが同一の印刷環境となり、予備転写により精度のより高い被印刷基板の印刷品位の確認をすることができる。このとき、回転ロール表面へのパターニングは凸版が接触する面の全領域にあることが望ましいが、その限りではない。

【0044】

次に、予備転写部２００による凸版１０１からの予備転写工程について説明する。

【0045】

はじめに貯液槽２０８に洗浄液２１３を貯めておく。次に回転している回転ロール２０１上にインキ薄膜が形成された凸版１０１からインキを転写させる。

【0046】

このとき再び洗浄液供給ノズル２０２から洗浄液２１３を供給することが望ましい。これによって洗浄液２１３を回転ロール２０１に吐出しながら供給するとより高い洗浄効果が期待できる。

【0047】

予備転写部２００は、版胴１０２上の凸版１０１と予備転写部の回転ロールとが接する位置まで支持基台３００上を移動定盤１０７と伴に移動する。そして、移動定盤１０７上の被印刷基板１０６への転写工程の前に、アニロックスロール１０４の回転と版胴１０２の回転と回転ロール２０１の回転とが同期しながら、アニロックスロール１０４から転写された凸版１０１上のインキが予備転写部２００の回転ロール２０１上へと転写される。
この凸版１０１から回転ロール２０１への予備転写工程は、印刷枚数や膜厚、版線幅及びインキ粘度など必要な印刷特性値に合わせて予備転写回数を調整することが望ましく、転写安定性をより向上させるためには少なくとも２回以上実施することが望ましい。ここで、１回の予備転写工程とは、凸版１０１の端面から端面の全面が回転ロール２０１と接することをいう。

【0048】

凸版１０１からインキが転写された回転ロール２０１は、回転ロール２０１の回転とともに洗浄液２１３中に浸漬され、回転ロール２０１のインキは貯液槽２０８内の洗浄液内ドクター２０３によって掻き落される。洗浄液２１３中であるため、掻き落されたインキが乾燥して回転ロール２０１や洗浄液内ドクター２０３を汚染することはない。

【0049】

次に洗浄液２１３の外にある洗浄液外ドクター２０５によって、回転ロール２０１に付着した洗浄液２１３を掻き取る。その後、回転ロール２０１表面に向けて、乾燥ノズル２０７から窒素またはクリーンエアを吹き付けることによって、回転ロール２０１の表面を乾燥させる。

【0050】

インキの予備転写中は常に洗浄液２１３が洗浄液供給ノズル２０２から供給されていることが望ましい。余剰分はオーバーフロー管２０９によりオーバーフローされるため、貯液槽２０８内の洗浄液２１３は適宜置換され洗浄効果がなくなるほど汚れることはない。洗浄液供給ノズル２０２と乾燥ノズル２０７は円筒管を多数並列させたものでも、回転ロール２０１の幅と同一の長さのスリットを持つノズル形状でも良い。

【0051】

また、適時ドレンバルブ２１１を開きドレン管２１５から貯液槽２０８内の洗浄液２１３を排出し、洗浄液供給ノズル２０２により洗浄液２１３を貯液槽２０８に供給することで、貯液槽２０８内の洗浄液２１３を新液と入れ替えることもできることが望ましい。

【0052】

本発明の実施の形態に係るアニロックスロール１０４は、版胴１０２の周速と同一の周速で回転しながらインキを凸版１０１に供給するものである。アニロックスロール１０４はクロム製やセラミックス製のものを用いることができ、アニロックスロール１０４の外周面には、インキを保持するための細かい孔や凹部、セル状などのパターンが形成されていることが望ましい。

【0053】

本発明の実施の形態に係るインキングユニット１０３は、アニロックスロール１０４の下方周面部分を浸漬するインキ溜りや、滴下型のインキングユニット、ファウンテンロール、ダイコーター、キャップコーターなどのコーターやそれらを組み合わせたものなどを用いることができる。また、インキングユニット１０３にインキを補充するインキ補充装置（図示せず）や、インキを保存するインキタンク（図示せず）が接続されていることが望ましい。

【0054】

また、アニロックスロール１０４上に均一にインキを供給する為にドクター１０５を併設することが望ましい。ドクター１０５の形状は刃状のものやロール状のものなどがあり、そのいずれでもかまわない。また、インキングユニット１０３がインキ溜りの場合には、ドクター１０５は、アニロックスロール１０４の回転方向で、インキ溜りからアニロックスロール１０４と凸版１０１との当接点までの間に位置し、掻き取ったインキがインキ溜りに落ちるようにするのが好ましい。

【0055】

本発明の実施の形態に係る凸版１０１に用いられる基材の材料は、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂、鉄や銅、アルミニウムといった公知の金属、またはそれらの積層体を用いることができる。

【0056】

凸版１０１を構成する基材としては、高い寸法安定性を保持するものが望ましく、基材として用いられる材料としては金属が好適に使用される。基材として用いられる金属としては鉄、アルミニウム、銅、亜鉛、ニッケル、チタン、クロム、金、銀やそれらの合金、積層体などが挙げられるが、特に、加工性、経済性から鉄を主成分とするスチール基材やアルミ基材を好適に用いることができる。

【0057】

凸版１０１の版面を樹脂で形成する場合、その版面上の凸部の形成方法としてはポジ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、ネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、射出成型、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、レーザーアブレーション法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましく、また、要求精度の凸版を形成可能なネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が最も望ましい。

【0058】

感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法を凸部パターン形成法として適用する場合、基材層、反射抑制層、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版１０１の凸部を形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、射出成型法、突出成型法、ラミネート法、バーコート法、スリットコート法、カンマコート法などの公知の方法を用いることができる。

【0059】

凸版１０１の版面を樹脂で形成する場合、用いる樹脂としてはインキに対する耐溶剤性があればよく、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロース誘導体などや、フッ素系エラストマーやポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンやそれらの共重合体といったフッ素系樹脂から一種類以上を選択することができる。

【0060】

本発明の実施の形態に係る凸版１０１は、上記のように基材上に凸部パターンが形成された凸版１０１を版胴１０２に巻きつけて使用されるが、版胴１０２を基材として直接版胴１０２に凸部パターンを形成しても良い。

【0061】

使用するインキは、インキ供給装置１０３からアニロックスロール１０４への塗工及びアニロックスロール１０４から凸版１０１への転写を考慮し適した粘度に調整し、インキの粘度は２〜１２０ｍＰａ・ｓとすることが望ましい。本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスロール１０４から凸版１０１上へのインキの転写が最初に行われるが、１２０ｍＰａ・ｓ以上の粘度ではアニロックスロール１０４から凸版１０１上へインキが転写した後、凸版１０１上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、２ｍＰａ・ｓ以下では、画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。

【0062】

アニロックスロール１０４から凸版１０１上に転写されるインキ量は、被印刷基板１０６に成膜する膜厚によって決定するが、インキ濃度とアニロックスロール１０４のセル容積を調整してすることで凸版１０１上に転写されるインキ量を一定にすることが望ましい。

【0063】

上記のアニロックスロール１０４から凸版１０１へのインキの転写において、予備転写部２００が存在しなければ、印刷工程初期の凸版１０１上に供給されたインキ薄膜は膜厚が一定でなく、被印刷基板１０６への転写に対して不安定な状態なため、印刷工程初期に被印刷基板１０６への転写を行なうと、被印刷基板１０６上に形成されるインキ薄膜の膜厚均一性が低く、転写欠陥が発生するおそれがある。そこで、被印刷基板１０６への予備転写を行なうようにすれば、上記の印刷工程初期における転写の問題を解消することができるが、しかし、この場合には予備転写に用いられる高価な被印刷基板１０６がコストの増大につながる。そのため、本発明の凸版印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法においては、被印刷基板１０６への転写の前に予備転写部２００による予備転写を行うことで、被印刷基板１０６を用いずに予備転写が行なえ、印刷工程初期の転写欠陥などの問題を解消することができる。

【0064】

図４に、図２の凸版印刷装置により製造された有機ＥＬパネルの断面概略図を示した。

【0065】

この有機ＥＬパネル４００は、透光性基板４０１と透明導電層４０２と正孔注入層４０３と有機発光層４０４と陰極層４０５と、画素を区画する隔壁４０６とを具備するものである。

【0066】

この有機ＥＬパネル４００において、透光性基板４０１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより有機発光素子の製造が可能となり、安価に素子を提供できる。そ
のプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、透光性基板４０１の透明導電層４０２を成膜しない側に、セラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層してもよい。

【0067】

透明導電層４０２をなす材料としては、インジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）が挙げられる。また、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものや、ポリアニリン等の有機化合物などが挙げられる。

【0068】

正孔注入層４０３をなす材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の導電性高分子材料を用いても良い。

【0069】

有機発光層４０４は、電圧の印加により発光する層であり、図２の装置によって、本発明に係る凸版１０１を用いて形成された層であり、上述した塗工液が乾燥してできた層である。

【0070】

陰極層４０５をなす材料としては、有機発光層４０４の発光特性に応じたものを使用すればよく、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体や酸化物、これらと金、銀などの安定な金属との合金などが用いられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。

【0071】

透光性基板４０１上に透明導電層４０２及び正孔注入層４０３を形成するには、公知の方法を用いればよく、それらを形成した後に、その上に、図２の装置を用いて有機発光層４０４を形成し、更にその上に、陰極層４０５を形成する。陰極層４０５の形成には真空蒸着法の他にインキジェット法といった公知の手段を用いることができる。透明導電層４０２、正孔注入層４０３、有機発光層４０４、陰極層４０５、および隔壁４０６は、透光性基板４０１に接着剤層４０７を介して取り付けられた封止基板４０８によって封止される。

【0072】

以上の構成による有機ＥＬパネル４００は、図２に示す印刷装置を用いて、次のように製造することができる。即ち、透光性基板４０１を被印刷基板１０６とし、有機発光層４０４の形成用インキを被印刷基板１０６に転写するインキとして、図２の印刷装置による予備転写部２００への有機発光層形成用インキの予備転写を行った後、有機発光層形成用インキの被印刷基板１０６への転写を行うことにより、透光性基板４０１に有機発光層４０４を形成することができる。ここで、有機発光層形成用インキの予備転写は、１〜２０回行うことが望ましい。

【0073】

以下に、本発明の有機ＥＬパネル４００の製造方法に係る実施例及び比較例を示すが、これに限るものではない。

【実施例】

【0074】

＜実施例１＞
（被印刷基板１０６の作製工程）
被印刷基板１０６として、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタと、その上方に形成された平坦化層と、平坦化層状に形成されてコンタクトホールによって前記薄膜トランジスタと導通が図られている画素電極とを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。画素サイズの１辺は、１５０μｍ角であり、ＲＧＢのサブピクセルのサイズは５０×１５０μｍである。

【0075】

前記アクティブマトリクス基板上に設けられている画素電極の端部を被覆し、画素を区画するような形状で隔壁を形成した。この隔壁の形成は、日本ゼオン社製ポジレジストＺＷＤ６２１６−６をスピンコーターにて、アクティブマトリクス基板の全面に乾燥後の膜厚が１μｍであるように成膜した後、フォトリソグラフィーによって各サブピクセルの４辺に線幅２０μｍの隔壁を形成した。

【0076】

画素電極の上にスピンコート法により正孔輸送層として、ポリ−（３，４）−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）１．５ｗｔ％水溶液を、１００ｎｍの膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ薄膜を、減圧下１００℃で１時間乾燥することで、被印刷基板１０６を作製した。

【0077】

（有機発光層形成用インキの作製工程）
赤色、緑色、青色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の３色からなる以下の高分子有機発光インキを調整した。
赤色発光インキ（Ｒ）： ポリフルオレン系誘導体のキシレン１ｗｔ％溶液
（住友化学社製赤色発光材料、商品名Ｒｅｄ１１００）
緑色発光インキ（Ｇ）： ポリフルオレン系誘導体のキシレン１ｗｔ％溶液
（住友化学社製緑色発光材料、商品名Ｇｒｅｅｎ１３００）
青色発光インキ（Ｂ）： ポリフルオレン系誘導体のキシレン１ｗｔ％溶液
（住友化学社製青色発光材料、商品名Ｂｌｕｅ１１００）

【0078】

（凸版１０１の作製工程）
厚さ２５０μｍの４２ニッケル材を基材として、その上に黒色顔料を混錬したアクリルバインダー樹脂溶液を乾燥膜厚が１０μｍになるように塗布して乾燥し、反射防止層を形成した。

【0079】

次に、下記組成の材料を混錬して感光性樹脂組成物を調整し、前記基材の反射防止層上に総厚が３１０μｍとなるように溶融塗工した。
主剤： 水溶性ポリアミド樹脂
ラジカル重合性モノマー： ジペンタエリスリトールヘキサキスアクリレート
光重合開始剤： ２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）

【0080】

次に、厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム社製）に、ポリビニルアルコール溶液を乾燥膜厚１μｍになるように塗布し、上記感光性樹脂組成物を溶融塗工した面とラミネートして、感光性凸版を作製した。

【0081】

合成石英基材のクロムマスクを凸版１０１のパターンの原版とし、このマスクをプロキシミティ露光装置にセットしたものを用いて感光性凸版を露光することで、所望のパターンが形成された凸版１０１を作製した。

【0082】

（有機発光層形成用インキの印刷工程）
凸版１０１を枚葉式の印刷装置の版胴１０２に固定した。次に、前記高分子有機発光インキをインキングユニット内タンク１０３に供給し、アニロックスロール１０４を回転させることで全面にインキングした。アニロックスロール１０４は６００ライン／インチのアニロックスロールを使用した。その後、アニロックスロール１０４上の余剰インキをドクター１０５でかき取り、凸版１０１の凸パターン部にインキングした。

【0083】

前述のようにインキングされた凸版１０１上のインキを被印刷基板１０６に転写する前
に、回転させた回転ロール２０１上に予備転写する。回転ロールは表面が被印刷基板と同形状にパターニングされ、その表面を被印刷基板最表面と同材質で被覆した回転ロールを使用した。予備転写後、上記の有機発光層形成用インキの印刷工程と同様に凸版１０１の凸パターン部をインキングした。本実施例ではこのような予備転写を１０回実施した。

【0084】

前述のように予備転写を実施した後、再度有機発光層形成用インキの印刷工程を繰り返し、インキングされた凸版１０１を被印刷基板１０６に押し当てることで、被印刷基板１０６の上にストライプパターンを印刷した。この工程を赤色有機発光層、緑色有機発光層、青色有機発光層それぞれに繰り返すことで有機発光層パターンを得た。各色について印刷をおこなった後、オーブン内にて１３０℃で１時間乾燥を行った。

【0085】

前記のように形成されたパターン各色における印刷１枚目のパネル内平均膜厚は７０ｎｍ程度であり、パネル内膜厚ｒａｎｇｅ、３σともに約８ｎｍであった。

【0086】

また、印刷により形成した高分子有機発光層上に真空蒸着法によってカルシウムを１０ｎｍ、銀を３００ｎｍ成膜し、その後ガラスキャップを用いて封止することで有機ＥＬパネル４００を作製した。

【0087】

前記有機ＥＬパネル４００について点灯表示確認を行ったところ、パネル全面において良好な発光が得られた。

【0088】

＜比較例１＞
被印刷基板最表面と同材質であるが、パターニングは施していない予備転写ロール２０１を使用して、実施例１と同様に有機ＥＬパネルを作製した。

【0089】

成されたパターン各色における印刷２枚目のパネル内平均膜厚、ｒａｎｇｅ、３σは、いずれも実施例同等の結果が得られたが、予備転写後の有機ＥＬパネル印刷において１枚目は膜厚にバラツキがあり不安定な転写となった。また、このようにして作製した有機ＥＬパネルについて点灯表示確認を行ったところ、パネル全面において良好な発光が得られた。

【0090】

＜比較例２＞
予備転写を回転ロール２０１ではなくガラス基板上に実施して、実施例１同様に有機ＥＬパネルを作製した。

【0091】

形成されたパターン各色における印刷３枚目のパネル内平均膜厚、ｒａｎｇｅ、３σは、いずれも実施例同等の結果が得られたが、予備転写後の有機ＥＬパネル印刷において２枚目まで膜厚にバラツキがあり不安定な転写となった。また、このようにして作製した有機ＥＬパネルについて点灯表示確認を行ったところ、パネル全面において良好な発光が得られた。

【0092】

＜比較例３＞
予備転写を実施することなく、前述の実施例同様に有機ＥＬ素子を作製した。

【0093】

形成されたパターン各色のパネル内平均膜厚、ｒａｎｇｅ、３σともに実施例と比較して悪化することが確認された。また、このようにして作製した有機ＥＬパネルについて点灯表示確認を行ったところ、転写不具合に起因する発光不良や発光ムラが確認された。

【0094】

表１に実施例１と比較例１〜３の印刷特性評価結果を示す。

【0095】

【表1】

【符号の説明】

【0096】

１００・・・凸版印刷部
１０１・・・凸版
１０２・・・版胴
１０３・・・インキングユニット
１０４・・・アニロックスロール
１０５・・・ドクター
１０６・・・被印刷基板
１０７・・・移動定盤
２００・・・予備転写部
２０１・・・回転ロール
２０２・・・洗浄液供給ノズル
２０３・・・洗浄液内ドクター
２０４・・・ドクターホルダ
２０５・・・洗浄液外ドクター
２０６・・・ドクターホルダ
２０７・・・乾燥ノズル
２０８・・・貯液槽
２０９・・・オーバーフロー管
２１０・・・洗浄液供給バルブ
２１１・・・ドレンバルブ
２１２・・・窒素またはクリーンエア供給バルブ
２１３・・・洗浄液
２１４・・・転写されたインキ
２１５・・・ドレン管
３００・・・支持基台
４００・・・有機ＥＬパネル
４０１・・・透光性基板
４０２・・・透明導電層
４０３・・・正孔注入層
４０４・・・有機発光層
４０５・・・陰極層
４０６・・・隔壁
４０７・・・接着剤層
４０８・・・封止基板

【図1】

【図2】

【図4】

【図3】