特許 5908030 貫通電極を有する半導体パッケージ及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5908030

(24)【登録日】2016年4月1日

(45)【発行日】2016年4月26日

(54)【発明の名称】貫通電極を有する半導体パッケージ及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 23/12 20060101AFI20160412BHJP

   H01L 25/065 20060101ALI20160412BHJP

   H01L 25/07 20060101ALI20160412BHJP

   H01L 25/18 20060101ALI20160412BHJP

   H01L 25/10 20060101ALI20160412BHJP

   H01L 25/11 20060101ALI20160412BHJP

【ＦＩ】

   H01L23/12 501P

   H01L25/08 C

   H01L25/14 Z

【請求項の数】20

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2014-125069(P2014-125069)

(22)【出願日】2014年6月18日

(65)【公開番号】特開2015-5748(P2015-5748A)

(43)【公開日】2015年1月8日

【審査請求日】2016年1月8日

(31)【優先権主張番号】10-2013-0071775

(32)【優先日】2013年6月21日

(33)【優先権主張国】KR

(31)【優先権主張番号】14/264,120

(32)【優先日】2014年4月29日

(33)【優先権主張国】US

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】390019839

【氏名又は名称】三星電子株式会社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100110364

【弁理士】

【氏名又は名称】実広 信哉

(72)【発明者】

【氏名】鄭 顯秀

(72)【発明者】

【氏名】馬 金希

(72)【発明者】

【氏名】李 仁榮

(72)【発明者】

【氏名】趙 文祺

(72)【発明者】

【氏名】趙 ▲チャ▼済

(72)【発明者】

【氏名】趙 泰済

【審査官】 豊島 洋介

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許出願公開第２００４／０１８８８１９（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２００１−２３７２０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１３／００３７９１７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１２−２３８８９４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ２３／１２−２３／１５

２５／００−２５／０７

２５／１０−２５／１１

２５／１６−２５／１８

Ｈ０５Ｋ３／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ウエハーの前面上に第１活性層を含む基板を提供し、
前記第１活性層上にポリマー物質を含む第１モールド層を形成して前記基板に剛性を提供し、
前記第１モールド層を形成した後に、接着剤の使用無しで前記第１モールド層に装置を付着して前記基板が支持された状態で、前記基板の第１後面を除去して前記基板を薄型化し、第２後面を露出させ、
前記薄型化された基板に前記基板に提供された貫通電極と電気的に連結されるパッドを形成することを含み、
前記第１モールド層は、前記基板が薄型化の間に曲がらないように、基板に剛性を提供するための所定の厚さを有する、半導体素子の製造方法。

【請求項2】

前記装置は、前記装置が前記第１モールド層に接着されないまま、前記第１モールド層に付着される請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項3】

前記装置は、前記装置と前記第１モールド層との間に接着剤を使用せずに、前記第１モールド層に付着される請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項4】

前記基板の第１後面を薄型化することは、
機械的な工程を使用して前記第１後面を除去することを含む請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項5】

前記基板の第１後面を薄型化することは、
前記基板の第１後面をグラインディングすることを含む請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項6】

前記薄型化された基板内に前記貫通電極を形成することをさらに含む請求項４に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項7】

前記薄型化された基板の第２後面上にチップを積層することをさらに含み、
前記チップの活性面は、前記薄型化された基板の第２後面に向かう請求項６に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項8】

前記チップ上に前記チップをモールディングする第２モールド層を形成して前記基板に剛性を付し、
前記第２モールド層を形成した後に前記第１モールド層の少なくとも一部を除去して滑らかで平坦な面を形成することをさらに含む請求項７に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項9】

前記第１及び第２モールド層と前記基板とをカッティングして半導体パッケージを形成することをさらに含み、
前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅の中でいずれか１つは、前記チップの幅に比べて大きい請求項８に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項10】

前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅は、同一である請求項９に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項11】

前記第２モールド層は、前記チップと前記基板との間に配置されない請求項９に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項12】

前記基板を薄型化する時、前記装置は、前記第１モールド層と直接接触して支持する真空チャックである請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項13】

前記第１モールド層の少なくとも一部を除去する時、前記第２モールド層は、真空チャックに直接接触して支持される請求項８に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項14】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとは、１つの桁程度（ａｎ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）の範囲である請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項15】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとの比は、３乃至１である請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項16】

前記第１活性層は、回路層である請求項１に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項17】

ウエハーの前面上に提供された第１活性層を含む基板を提供し、
前記第１活性層上にポリマー物質を含む第１モールド層を形成して前記基板に剛性を付し、
前記第１モールド層を形成した後に、前記基板の第１後面を除去して前記基板を薄型化し、第２後面を露出させ、
前記薄型化された基板内に前記第１活性層と電気的に連結される貫通電極を形成し、
前記薄型化された基板上に前記基板内に提供された前記貫通電極と電気的に連結されるパッドを形成することを
含み、
前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとは、１つの桁程度（ａｎ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）の範囲である、半導体素子の製造方法。

【請求項18】

前記第１モールド層は、装置が前記第１モールド層に接着されないまま、前記装置に付着される、請求項１７に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項19】

前記第１モールド層は、装置と前記第１モールド層との間に接着剤を使用せずに、前記装置に付着される、請求項１７に記載の半導体素子の製造方法。

【請求項20】

前面上に第１活性層を含む基板を提供し、
前記第１活性層上に第１モールド層を形成して前記基板に剛性を提供し、
前記第１モールド層を形成した後に、前記基板の第１後面を除去して前記基板を薄型化し、第２後面を露出させ、
前記薄型化された基板内に前記第１活性層と電気的に連結される貫通電極を形成し、
前記薄型化された基板に前記基板内に提供された前記貫通電極と電気的に連結されるパッドを形成し、
前記薄型化された基板の第２後面上に、チップの活性面が前記薄型化された基板の第２後面に向かう前記チップを積層すること含み、
前記基板が薄型化されるときに接着剤の使用無しで装置に前記第１モールド層を付着して、前記基板が支持され、
前記第１モールド層の幅、及び前記基板の幅は、同一である、半導体素子の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は半導体に関し、より具体的には貫通電極を有する半導体パッケージ及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

貫通電極によって高性能の半導体パッケージが具現される。貫通電極を半導体パッケージに適用するためには、接着剤を利用してウエハーにキャリヤーをボンディングした後、ウエハーを練磨することが一般的である。半導体パッケージに貫通電極を適用するためにはキャリヤー工程が必要とされるので、生産性の低下と工程費用の上昇のような問題点があった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】米国特許第８３３８９３９号明細書

【特許文献2】米国特許第８３７３２６１号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本発明は、従来技術での問題点を解決するために案出されたことであって、本発明の目的は、工程費用を減らし、生産性を向上させることができる貫通電極を有する半導体パッケージ及びその製造方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明の一実施形態は、半導体素子の製造方法を提供し、前記方法は、ウエハーの前面上に第１活性層を含む基板を提供し、前記第１活性層上にポリマー物質を含む第１モールド層を形成して前記基板に剛性を提供し、前記第１モールド層を形成した後に、接着剤の使用無しで前記第１モールド層に装置を除去できるように付着して前記基板が支持された状態で、前記基板の第１後面を除去して前記基板を薄型化し、第２後面を露出させ、前記薄型化された基板に前記基板に提供された貫通電極と電気的に連結されるパッドを形成すること包含することができる。

【0006】

前記装置は、前記装置が前記第１モールド層に接着されないまま、前記第１モールド層に除去できるように付着され得る。

【0007】

前記装置は、前記装置と前記第１モールド層との間に接着剤を使用せずに、前記第１モールド層に除去できるように付着され得る。

【0008】

前記基板の第１後面を薄型化することは、機械的な工程を使用して前記第１後面を除去することを包含することができる。

【0009】

前記基板の第１後面を薄型化することは、前記基板の第１後面をグラインディングすることを包含することができる。

【0010】

一実施形態において、前記方法は、前記薄型化された基板内に前記貫通電極を形成することをさらに含むことができる。

【0011】

一実施形態において、前記方法は、前記薄型化された基板の第２後面上にチップを積層することをさらに含み、前記チップの活性面は、前記薄型化された基板の第２後面に向かうことができる。

【0012】

一実施形態において、前記方法は、前記チップ上に前記チップをモールディングする第２モールド層を形成して前記基板に剛性を付し、前記第２モールド層を形成した後に前記第１モールド層の少なくとも一部を除去して滑らかで平坦な面を形成することをさらに含むことができる。

【0013】

一実施形態において、前記方法は、前記第１及び第２モールド層と前記基板とをカッティングして半導体パッケージを形成することをさらに含み、
前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅の中でいずれか１つは、前記チップの幅に比べて大きくなり得る。

【0014】

前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅は、同一であり得る。

【0015】

前記第２モールド層は、前記チップと前記基板との間に配置されないことがあり得る。

【0016】

前記基板を薄型化する時、前記装置は、前記第１モールド層と直接接触して支持する真空チャックであり得る。

【0017】

前記第１モールド層の少なくとも一部を除去する時、前記第２モールド層は、真空チャックに直接接触して支持され得る。

【0018】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとは、１つの桁程度（ａｎ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）の範囲であり得る。

【0019】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとの比は、３乃至１であり得る。

【0020】

前記第１活性層は、回路層であり得る。

【0021】

本発明の他の実施形態は、半導体素子の製造方法を提供し、前記方法は、ウエハーの前面上に提供された第１活性層を含む基板を提供し、
前記第１活性層上にポリマー物質を含む第１モールド層を形成して前記基板に剛性を付し、前記第１モールド層を形成した後に、前記基板の第１後面を除去して前記基板を薄型化し、第２後面を露出させ、前記薄型化された基板内に前記第１活性層と電気的に連結される貫通電極を形成し、前記薄型化された基板上に前記基板内に提供された前記貫通電極と電気的に連結されるパッドを形成することを包含することができる。

【0022】

前記装置は、前記装置が前記第１モールド層に接着されないまま、前記第１モールド層に除去できるように付着され得る。

【0023】

前記装置は、前記装置と前記第１モールド層との間に接着剤を使用せずに、前記第１モールド層に除去できるように付着され得る。

【0024】

前記基板の第１後面を薄型化することは、機械的な工程を使用して前記第１後面を除去することを包含することができる。

【0025】

前記基板の第１後面を薄型化することは、前記基板の第１後面をグラインディングすることを包含することができる。

【0026】

他の実施形態において、前記方法は、前記薄型化された基板の第２後面上にチップを積層することをさらに含み、前記チップの活性面は、前記薄型化された基板の第２後面に向かうことができる。

【0027】

他の実施形態において、前記方法は、前記チップ上に前記チップをモールディングする第２モールド層を形成して前記基板に剛性を付し、前記第２モールド層を形成した後に前記第１モールド層の少なくとも一部を除去して滑らかで平坦な面を形成することをさらに含むことができる。

【0028】

他の実施形態において、前記方法は、前記第１及び第２モールド層と前記基板とをカッティングして半導体パッケージを形成することをさらに含み、前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅の中でいずれか１つは、前記チップの幅に比べて大きくなり得る。

【0029】

前記半導体パッケージの第１モールド層の幅、前記半導体パッケージの第２モールド層の幅、及び前記半導体パッケージの基板の幅は、同一であり得る。

【0030】

前記第２モールド層は、前記チップと前記基板との間に配置されないことがあり得る。

【0031】

前記基板を薄型化する時、前記装置は、前記第１モールド層と直接接触して支持する真空チャックであり得る。

【0032】

前記第１モールド層の少なくとも一部を除去する時、前記第２モールド層は、真空チャックに直接接触して支持され得る。

【0033】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥは、１つの桁程度（ａｎ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）の範囲であり得る。

【0034】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとの比は、３乃至１であり得る。

【0035】

本発明の一実施形態は、半導体素素子を提供し、前記半導体素子は、第１ポリマー物質を含む第１モールド層と、前記第１モールド層上に配置された第１活性層と、前記第１活性層上に配置され、前記第１活性層と電気的に連結される貫通電極が内部に形成された基板と、前記基板上に形成されて前記貫通電極と電気的に連結されるパッドと、前記基板上に配置され、前記チップの第２活性層に向かって、そして前記パッドと電気的に連結されたチップと、前記チップの少なくとも一部を覆い、前記基板に剛性を付し、そして第２ポリマー物質を含む第２モールド層と、を含み、前記基板の幅は、前記チップの幅に比べて大きくなり得る。

【0036】

前記チップは、前記第２モールド層によって囲まれることができる。

【0037】

前記基板の側壁と前記第１活性層の側壁とは、前記第２モールド層によって覆わないこともあり得る。

【0038】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとは、１つの桁程度（ａｎ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）の範囲であり得る。

【0039】

前記第１モールド層の熱膨張係数ＣＴＥと前記基板の熱膨張係数ＣＴＥとの比は、３乃至１であり得る。

【発明の効果】

【0040】

本発明によると、ウエハーを練磨する段階において、必要であるキャリヤーのボンディング及びデボンディング工程が必要としないので、生産性を向上させ、工程費用を減少させることができる効果がある。ウエハーと類似の熱膨張係数を有するモールド層をウエハー上に形成することによってウエハーの歪み現象を無くすか、或いは減らすことができるので、工程不良を抑制することができる効果がある。さらに、本発明は貫通電極を形成するためのビアファースト、ビアミドル、及びビアラスト工程の中でいずれかのスキームとの互換性がある。

【図面の簡単な説明】

【0041】

【図1A】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1B】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1C】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1D】図１Ｂの変形形態を示した断面図である。

【図1E】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1F】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1G】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1H】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1I】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図1J】本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図2A】本発明の他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図2B】本発明の他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図2C】本発明の他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図2D】本発明の他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3A】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3B】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3C】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3D】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3E】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3F】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3G】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3H】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図3I】図３Ａの変形形態を示した断面図である。

【図3J】図３Ｇの変形形態を示した断面図である。

【図4A】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図4B】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図4C】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図4D】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図4E】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図5A】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図5B】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図5C】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図5D】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図5E】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図6A】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図6B】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図6C】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図6D】本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。

【図7A】本発明の実施形態による半導体パッケージを具備するメモリカードを示したブロック図である。

【図7B】本発明の実施形態による半導体パッケージを応用した情報処理システムを示したブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0042】

以下、本発明による半導体パッケージ及びその製造方法を添付した図面を参照して詳細に説明する。

【0043】

本発明と従来技術とを比較した長所は添付された図面を参照した詳細な説明と特許請求の範囲を通じて明確になり得る。特に、本発明は特許請求の範囲で明確に請求される。しかし、本発明は添付された図面と関連して次の詳細な説明を参照することによって最も良く理解されることができる。図面において、同一の参照符号は多様な図面を通じて同一の構成要素を示す。

【0044】

＜実施形態１＞
図１Ａ乃至図１Ｊは本発明の一実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。図１Ｄは図１Ｂの変形形態を示した断面図である。

【0045】

図１Ａを参照すれば、ウエハー１０１上に活性層が形成されたウエハーレベルチップ１９０が提供され得る。一例によれば、活性層は回路層１０３であり、本発明はこれに限定されない。ウエハー１０１は前面１０１ａと第１後面１０１ｂとを有するシリコンのような半導体を包含することができる。ウエハーレベルチップ１９０の前面１０１ａの上には回路層１０３と電気的に連結されたバンプ１０５が提供され得る。回路層１０３はメモリ回路、ロジック回路或いはこれらの組み合わせのような集積回路を含み、回路層１０３の構成要素と電気的に連結された前面パッド１０４をさらに包含することができる。バンプ１０５は前面パッド１０４に直接或いは間接的に接続されて回路層１０３と電気的に連結され得る。

【0046】

図１Ｂを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１を薄型化することができる。例えば、ウエハー１０１の前面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１を研磨することができる。一例として、前面モールド層１１１がウエハー１０１を支持した状態でウエハー１０１の第１後面１０１ｂをグラインダ９０によって研磨することができる。前記ウエハー後面研磨によってウエハー１０１の厚さが縮小されて第２後面１０１ｃが露出され得る。一例によれば、ウエハー１０１は機械的な工程のような薄型化工程によって薄型化され得る。本明細書で前面は活性面に相当し、第２後面は非活性面に相当することがあり得る。

【0047】

前面モールド層１１１はウエハー１０１に剛性乃至硬直性を提供するのに充分な厚さを有するので、ウエハー後面研磨工程の時、ウエハー１０１は曲がらず、屈曲されず、或いは変形されず、その状態を維持することができる。以下ではウエハー１０１の曲げに対して説明されるが、本発明の実施形態はこれに限定されず、ウエハー１０１の屈曲、変形、或いは歪み等に対しても適用され得る。前面モールド層１１１は絶縁体、例えばエポキシ樹脂のような高分子物質を包含することができる。エポキシ樹脂は約５０〜８０ｐｐｍ／℃の熱膨張係数ＣＴＥを有していると知られている。ウエハー１０１を構成するシリコンのＣＴＥは大略３ｐｐｍ／℃であるので、ウエハー１０１と前面モールド層１１１との間の熱膨張係数の差（ＣＴＥｍｉｓｍａｔｃｈ）によってウエハー１０１の歪み（ｗａｒｐａｇｅ）現象が発生することがあり得る。本発明をこれに限定しようとする意図ではなく、単なる一例として、前面モールド層１１１はエポキシ樹脂にシリカが混合された（例：約８０ｗｔ％のシリカ含量）約５〜７ｐｐｍ／℃のＣＴＥを有するエポキシピラー複合体を包含することができる。このようにウエハー１０１のＣＴＥと類似のＣＴＥを有する前面モールド層１１１を形成することによってウエハー１０１の歪み現象が無くなるか、或いは減少され得る。一例によれば、ウエハー１０１の熱膨張係数ＣＴＥと前面モールド層１１１の熱膨張係数ＣＴＥとは同じ大きさの程度（ｓａｍｅ ｏｒｄｅｒ ｏｆ ｍａｇｎｉｔｕｄｅ）、例えば２つの熱膨張係数は１乃至１０ｐｐｍ／℃であり得る。他の例として、前面モールド層１１１の熱膨張係数ＣＴＥ：ウエハー１０１の熱膨張係数ＣＴＥ＝３：１であり得る。

【0048】

本実施形態によれば、前記ウエハー後面研磨工程の時、前面モールド層１１１がウエハー１０１を支持するので、ウエハー１０１の前面１０１ａ上に接着剤を利用してキャリヤーを付着する工程が必要としない。その上に、前面モールド層１１１はウエハー１０１と類似のＣＴＥを有するので、歪み現象によるウエハー１０１の損傷を避けることができる。

【0049】

前面モールド層１１１はウエハー１０１と回路層１０３とを含むウエハーレベルチップ１９０に全体的に剛性乃至硬直性を提供する。ウエハー研磨工程の時、ウエハーレベルチップ１９０、特に前面モールド層１１１は剛性乃至硬直性を提供して曲げやすいことを防止する真空チャックやその以外の他の器具のような装置によって支持される。一例として、真空チャックは前面モールド層１１１に直接接触して支持することができる。

【0050】

前記装置は接着剤の使用無しで前面モールド層１１１に脱付着され得る。例えば、前記装置は前面モールド層１１１に接着されない状態で脱付着され得る。他の例として、前記装置と前面モールド層１１１との間に接着剤を形成しなかった状態で前記装置が前面モールド層１１１とに脱付着され得る。

【0051】

図１Ｃを参照すれば、ウエハー１０１を貫通して回路層１０３に電気的に連結される貫通電極１２１を形成することができる。言い換えれば、貫通電極１２１は貫通シリコンビアＴＳＶであり得る。例えば、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃをドライエッチングするか、或いはドリリングして垂直ホール１２０を形成し、垂直ホール１２０をタングステンや銅等のような伝導体を電気鍍金するか、或いは蒸着して貫通電極１２１を形成することができる。ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に貫通電極１２１と連結される後面パッド１２３をさらに形成することができる。一例として、電気鍍金で貫通電極１２１と後面パッド１２３とを同時に形成することができる。この場合、貫通電極１２１と後面パッド１２３とは一体化された１つの構造（ｓｉｎｇｌｅ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）を成し得る。他の例として、貫通電極１２１を形成した後に後面パッド１２３を別個の工程で形成することができる。

【0052】

他の例として、図１Ｄに示したように、ウエハー１０１はウエハー１０１を一部貫通して第１後面１０１ｂに至らない貫通電極１２１を包含することができる。ウエハー１０１の前面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１は、前面モールド層１１１がウエハー１０１を支持する状態で、グラインダ９０で第１後面１０１ｂを研磨することができる。前記ウエハー後面研磨は貫通電極１２１を露出させる第２後面１０１ｃが露出される時まで進行することができる。続いて、ウエハー１０１の第２後面１０１ｃ上に貫通電極１２１と連結される図１Ｃに図示されたような後面パッド１２３を形成することができる。

【0053】

本実施形態によれば、貫通電極１２１は図１Ｃに図示したようにウエハー後面研磨後に即ち、ビアラスト（Ｖｉａ Ｌａｓｔ）工程で形成するか、又は図１Ｄに示したようにウエハー後面研磨以前に、即ちビアファースト（Ｖｉａ Ｆｉｒｓｔ）或いはビアミドル（Ｖｉａ Ｍｉｄｄｌｅ）工程で形成され得る。このように本実施形態はビアファースト、ビアミドル、ビアラスト工程の全てに適用され得る。

【0054】

図１Ｅを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００を積層することができる。例えば、基板２０１の活性面２０１ａがウエハー１０１の非活性面１０１ｃに向かうようにチップ２００を覆してフリップチップ実装することができる。ウエハー１０１は非活性面１０１ｃが上に向かうように覆してあり得る。チップ２００は基板２０１の活性面２０１ａ上に提供された回路層２０３に電気的に連結されたバンプ２０５が貫通電極１２１に連結されることによってウエハー１０１の回路層１０３と電気的に連結され得る。チップ２００の回路層２０３はメモリ回路、ロジック回路、或いはこれらの組み合わせを包含することができる。基板２０１はチップ単位の半導体ウエハーであり得る。チップ２００のバンプ２０５は貫通電極１２１と垂直整列されるか、或いは垂直整列されないことがあり得る。垂直整列されないバンプ２０５と貫通電極１２１とを電気的に連結するために後面パッド１２３は再配線されてあり得る。

【0055】

図１Ｆを参照すれば、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上にチップ２００をモールディングする後面モールド層２１１を形成し、前面モールド層１１１を除去することができる。一例として、後面モールド層２１１はウエハー１０１を含む最終構造に剛性を提供することができる。後面モールド層２１１は前面モールド層１１１と同一又は類似のエポキシピラー複合体を包含することができる。前面モールド層１１１はグラインディング工程、化学機械的な研磨工程、或いはエッチング工程で除去することができる。例えば、滑らかで平坦な面が形成され得る。一例によれば、前面モールド層１１１はバンプ１０５が露出される時までグラインダ９０によって研磨され得る。これにしたがって、ウエハー１０１の活性面１０１ａ乃至回路層１０３は隣接するバンプ１０５の間を満たす前面モールド層１１１で覆われていることがあり得る。図１Ｂを参照して前述したように、前面モールド層１１１が研磨される時、真空チャックやその以外の他の器具のような装置が前面モールド層１１１に脱付着される方法と類似に後面モールド層２１１に脱付着され得る。一例として、真空チャックは後面モールド層２１１に直接接触して支持（ｈｏｌｄ）することができる。

【0056】

図１Ｇを参照すれば、バンプ１０５上に第２バンプ１０７を付着して外部端子１０９を形成することができる。第２バンプ１０７は蒸発（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、電気鍍金（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃ ｐｌａｔｉｎｇ）、無電解鍍金（ｅｌｅｃｔｒｏｌｅｓｓ ｐｌａｔｉｎｇ）、ボールドロップ（ｂａｌｌ ｄｒｏｐ）、スクリーンプリンティング（ｓｃｒｅｅｎ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程等にバンプ１０５上にソルダペースト等を提供した後、リフロして形成することができる。前記一連の工程を通じてウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００が積層されたウエハーレベルパッケージ１を製造することができる。ウエハーレベルパッケージ１は以下で後述するようにパッケージングされ得る。

【0057】

図１Ｈを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ１をダイシングすることができる。一例として、ブレード９５やレーザーを利用して隣接するチップ２００間の後面モールド層２１１、ウエハー１０１、前面モールド層１１１を分離することができる。前記ダイシングによってウエハーレベルチップ１９０は複数個に単位チップ、例えば図１Ｉのチップ１００に分離され得る。

【0058】

図１Ｉを参照すれば、前記ダイシングによってウエハーレベルパッケージ１が分離されて、チップ１００（以下、マスターチップ）上にチップ２００（以下、スレーブチップ）が積層された複数個のチップレベルの半導体パッケージ１１が製造され得る。マスターチップ１００はスレーブチップ２００に比べて左右幅が大きい大きさを有することができる。マスターチップ１００はウエハー１０１のダイシングによって形成されるので、マスターチップ１００の側面１００ｓは露出され得る。反面に、スレーブチップ２００は後面モールド層２１１にモールディングされており、その側面２００ｓは露出されないこともあり得る。前面モールド層１１１はマスターチップ１００の回路層１０３を覆う保護層として活用され得る。一例として、前面モールド層１１１の幅と後面モールド層２１１の幅との中でいずれか１つ、そしてウエハーレベルパッケージ１のカッティングされたウエハー１０１の幅はスレーブチップ２００の幅に比べて実質的に大きくなり得る。他の例として、前面モールド層１１１の幅、後面モールド層２１１の幅、及びウエハーレベルパッケージ１のカッティングされたウエハー１０１の幅は実質的に同一であり得る。

【0059】

本実施形態によれば、半導体パッケージ１１はマスターチップ１００の非活性面１０１ｃとスレーブチップ２００の活性面２０１ａが対面する方式に積層されたバック−フロント（ｂａｃｋ−ｔｏ−ｆｒｏｎｔ）構造を有することができる。スレーブチップ２００のバンプ２０５がマスターチップ１００の貫通電極１２１と連結されることによって、スレーブチップ２００とマスターチップ１００とが電気的に連結され得る。外部端子１０９は前面モールド層１１１上へ突出されることによって、半導体パッケージ１１と電気的な装置（例：半導体チップ、半導体パッケージ、印刷回路基板、モジュール基板）との電気的な連結が容易になり得る。一例として、後面モールド層２１１はスレーブチップ２００とカッティングされたウエハー１０１との間に配置されないことがあり得る。

【0060】

図１Ｊを参照すれば、半導体パッケージ１１をパッケージ基板８０上に実装して半導体パッケージ１２を製造することができる。一例として、印刷回路基板のようなパッケージ基板８０の前面８０ａ上に半導体パッケージ１１を実装し、半導体パッケージ１１を覆う外部モールド層８３を形成して半導体パッケージ１２を製造することができる。パッケージ基板８０の後面８０ｂにソルダボール８５を付着することができる。マスターチップ１００は前面モールド層１１１と、後面モールド層２１１と、外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。スレーブチップ２００は後面モールド層２１１と外部モールド層８３とによって二重に囲まれてモールディングされ得る。半導体パッケージ１２は外部端子１０９を媒介にパッケージ基板８０と電気的に連結され、ソルダボール８５を通じて電気的な装置（例：半導体チップ、半導体パッケージ、モジュール基板）と電気的に連結され得る。

【0061】

＜実施形態２＞
図２Ａ乃至図２Ｄは本発明の他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。以下には第１実施形態と異なる点に対して詳説し、同一な点に対しては省略するか、或いは概説する。

【0062】

図２Ａを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００を積層し、前面モールド層１１１を除去することができる。一例として、図１Ａ乃至図１Ｆで説明したことと同一又は類似にウエハー１０１の活性面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成した後、ウエハー１０１を研磨し、貫通電極１２１と後面パッド１２３とを形成した後、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に複数個のチップ２００をフリップチップ実装し、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上にチップ２００をモールディングする後面モールド層２１１を形成した後、前面モールド層１１１を除去することができる。一例によれば、前面モールド層１１１を選択的に除去することができる化学物質を提供して前面モールド層１１１を除去することができる。

【0063】

図２Ｂを参照すれば、前面モールド層１１１の除去によってウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に複数個のチップ２００がフリップチップ実装されたウエハーレベルパッケージ２が製造され得る。本実施形態によれば、前面モールド層１１１が完全に除去されて、バンプ１０５は突出された状態を有することができる。他の例として、前面モールド層１１１は完全に除去されなく、バンプ１０５を埋め込まらせない厚さにウエハー１０１の活性面１０１ａ乃至回路層１０３上に残留することができる。

【0064】

図２Ｃを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ２をダイシングして半導体パッケージ２１を製造することができる。半導体パッケージ２１はマスターチップ１００上にスレーブチップ２００がフリップチップ実装されたバック−フロント構造を有することができる。本実施形態によれば、バンプ１０５が突出されているので、バンプ１０５上に第２バンプを形成する工程が必要としないことがあり得る。

【0065】

図２Ｄを参照すれば、半導体パッケージ２１を印刷回路基板のようなパッケージ基板８０の前面８０ａ上に実装し、外部モールド層８３を形成して半導体パッケージ２２を製造することができる。マスターチップ１００は後面モールド層２１１と外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。スレーブチップ２００は後面モールド層２１１と外部モールド層８３とによって二重に囲まれてモールディングされ得る。

【0066】

＜実施形態３＞
図３Ａ乃至図３Ｈは本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。図３Ｉは図３Ａの変形形態を示した断面図である。図３Ｊは図３Ｇの変形形態を示した断面図である。

【0067】

以下には第１実施形態と異なる点に対して詳説し、同一な点に対しては省略するか、或いは概説する。

【0068】

図３Ａを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００を積層することができる。例えば、図１Ａ乃至図１Ｅで説明したことと同一又は類似にウエハー１０１の活性面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成した後、ウエハー１０１を研磨し、そして貫通電極１２１と後面パッド１２３とを形成した後、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に複数個のチップ２００を実装することができる。チップ２００は前面２０１ａと第１後面２０１ｂとを有する基板２０１上に提供された回路層２０３とバンプ２０５とを包含することができる。チップ２００はウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上にフリップチップが実装され、バンプ２０５と貫通電極１２１とが連結されてウエハー１０１の回路層１０３と電気的に連結され得る。

【0069】

図３Ｂを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に後面モールド層２１１を形成し、チップ２００を薄型化することができる。一例として、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上にチップ２００をモールディングする後面モールド層２１１を形成し、チップ２００を研磨することができる。後面モールド層２１１はチップ２００の第１後面２０１ｂを覆う形態であるか、或いは露出させる形態を有することができる。チップ２００を練磨することはグラインダ９０を利用するグラインディング工程或いは化学機械的な研磨工程を包含することができる。前記チップ研磨によってチップ２００の第１後面２０１ｂが練磨されて第２後面２０１ｂ（以下、非活性面）が露出され得る。後面モールド層２１１はチップ２００と共に練磨されてチップ２００をモールディングし、チップ２００の非活性面２０１ｃを露出させる形態を有することができる。言い換えれば、後面モールド層２１１はチップ２００の間、及びチップ２００とウエハー１０１との間を満たすことができる。

【0070】

図３Ｃを参照すれば、チップ２００の基板２０１を貫通して回路層２０３と電気的に連結される貫通電極２２１を形成することができる。例えば、チップ２００の非活性面２０１ｃをドライエッチングするか、或いはドリリングして垂直ホール２２０を形成し、垂直ホール２２０をタングステンや銅等のような伝導体を電気鍍金するか、或いは蒸着して貫通電極２２１を形成することができる。チップ２００の非活性面２０１ｃ上に貫通電極２２１と連結される後面パッド２２３をさらに形成することができる。一例として、電気鍍金によって貫通電極２２１と後面パッド２２３とを同時に蒸着して一体化された１つの構造に形成することができる。他の例として、貫通電極２２１を形成した後に後面パッド２２３を別個の工程によって形成することができる。その他の例として、図１Ｄに図示されたことと類似に、チップ２００はビアファースト或いはビアミドル工程によって形成された貫通電極２２１を包含することができる。この場合、前記チップ研磨によって貫通電極２２１を露出させた後、貫通電極２２１と連結される後面パッド２２３を形成することができる。

【0071】

図３Ｄを参照すれば、チップ２００の非活性面２０１ｃ上に複数個のチップ３００を実装することができる。チップ２００（以下、第１スレーブチップ）とチップ３００（以下、第２スレーブチップ）は１：１対応され得る。第２スレーブチップ３００は活性面３０１ａと非活性面３０１ｃとを有する基板３０１上に提供された回路層３０３とバンプ３０５とを包含することができる。第２スレーブチップ３００は第１スレーブチップ２００の非活性面２０１ｃ上にフリップチップ実装され、バンプ３０５と貫通電極２２１とが連結されることによって第１スレーブチップ２００と電気的に連結され得る。第２スレーブチップ３００の回路層３０３はメモリ回路、ロジック回路、或いはこれらの組み合わせを包含することができる。第２スレーブチップ３００の基板３０１はチップ単位の半導体ウエハーであり得る。

【0072】

図３Ｅを参照すれば、第２スレーブチップ３００をモールディングする第２後面モールド層３１１を形成し、前面モールド層１１１を除去することができる。一例によれば、グラインダ９０で前面モールド層１１１を研磨してバンプ１０５を露出させ得る。前面モールド層１１１は一部が残留して隣接するバンプ１０５間を満たすことができる。他の例として、前面モールド層１１１は図２Ａ及び図２Ｂに示したように化学物質を利用するエッチングによって完全に除去されるか、或いはバンプ１０５を露出させる埋め込まさせない厚さにウエハー１０１の活性面１０１ａ上に残留することができる。

【0073】

図３Ｆを参照すれば、バンプ１０５上に第２バンプ１０７を付着して外部端子１０９を形成することによってウエハーレベルパッケージ３を製造することができる。ウエハーレベルパッケージ３はウエハーレベルチップ１９０上にフリップチップ実装された第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とを包含することができる。

【0074】

図３Ｇを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ３をダイシングしてウエハー１０１が分離されて形成されたマスターチップ１００上に第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とがフリップチップ実装された半導体パッケージ３１を製造することができる。半導体パッケージ３１はマスターチップ１００と第１スレーブチップ２００との間のバック−フロント構造及び第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００との間のバック−フロント構造を有することができる。第１スレーブチップ２００のバンプ２０５がマスターチップ１００の貫通電極１２１と連結されることによって、第１スレーブチップ２００とマスターチップ１００とが電気的に連結され、第２スレーブチップ３００のバンプ３０５が第１スレーブチップ２００の貫通電極２２１と連結されることによって、第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とが電気的に連結され得る。

【0075】

マスターチップ１００は第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とに比べて左右幅が大きい大きさを有することができる。第２スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とは同一であるか、或いは類似の幅を有することができる。マスターチップ１００はウエハー１０１のダイシングによって形成されるので、マスターチップ１００の側面１００ｓは露出され得る。反面に、第１スレーブチップ２００の側面２００ｓは後面モールド層２１１によって覆っており、第２スレーブチップ３００の側面３００ｓは第２後面モールド層３１１によって覆っているので、露出されないこともあり得る。

【0076】

図３Ｈを参照すれば、半導体パッケージ３１を印刷回路基板のようなパッケージ基板８０の前面８０ａ上に実装し、外部モールド層８３を形成して半導体パッケージ３２を製造することができる。マスターチップ１００は前面モールド層１１１と、後面モールド層２１１と、外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。第１スレーブチップ２００は第１スレーブチップ２００を囲む後面モールド層２１１及び第２後面モールド層３１１を外部モールド層８３がさらに囲む形態にモールディングされ得る。第２スレーブチップ３００は第２後面モールド層３１１と外部モールド層８３とによって二重に囲まれてモールディングされ得る。

【0077】

他の例として、図３Ｉに示したようにウエハーレベルチップ１９０上に上部ウエハーレベルチップ２９０を積層することができる。上部ウエハーレベルチップ２９０は回路層２０３とバンプ２０５が提供された上部ウエハー２０１を包含することができる。上部ウエハー２０１はその活性面２０１ａがウエハー１０１の非活性面１０１ｃに向かうように覆して下部ウエハー１０１上に積層され得る。上部ウエハー２０１の第１後面２０１ｂが図３Ｂでのように練磨されて非活性面２０１ｃが露出され得る。

【0078】

図３Ｂ乃至図３Ｇで説明したことと同一又は類似の工程によってマスターチップ１００上に第１スレーブチップ２００と第２スレーブチップ３００とがフリップチップ実装された半導体パッケージ３１ａが製造され得る。マスターチップ１００はウエハー１０１のダイシングによって形成されるので、その側面１００ｓが露出され得る。類似に、第１スレーブチップ２００は上部ウエハー２０１のダイシングによって形成されるので、その側面２００ｓが露出され得る。反面に、第２スレーブチップ３００の側面３００ｓは第２後面モールド層３１１によって覆っているので、露出されないこともあり得る。半導体パッケージ３１ａはパッケージ基板８０上に実装され、外部モールド層８３によってモールディングされて図３Ｈに図示された半導体パッケージ３２と類似にパッケージングされ得る。

【0079】

＜実施形態４＞
図４Ａ乃至図４Ｅは本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。以下には第１実施形態と異なる点に対して詳説し、同一な点に対しては省略するか、或いは概説する。

【0080】

図４Ａを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に複数個の半導体パッケージ１１を積層することができる。一例として、図１Ａ乃至図１Ｃで説明したことと同一又は類似にウエハー１０１の活性面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１を研磨した後、貫通電極１２１と後面パッド１２３とを形成することができる。その後、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に図１Ｉに図示された複数個の半導体パッケージ１１を実装することができる。半導体パッケージ１１の外部端子１０９がウエハーレベルチップ１９０の貫通電極１２１に連結されることによって、半導体パッケージ１とウエハーレベルチップ１９０とが電気的に連結され得る。

【0081】

図４Ｂを参照すれば、ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に半導体パッケージ１１をモールディングする後面モールド層２１１を形成し、前面モールド層１１１を除去することができる。前面モールド層１１１はグラインダ９０を利用するグラインディング工程、或いは化学物質を利用するエッチング工程等に除去されることができる。例えばグラインダ９０で前面モールド層１１１を研磨してバンプ１０５を露出させ得る。

【0082】

図４Ｃを参照すれば、バンプ１０５上に第２バンプ１０７を付着して外部端子１０９ａを形成することによってウエハーレベルパッケージ４を製造することができる。ウエハーレベルパッケージ４はウエハーレベルチップ１９０上に実装された複数個の半導体パッケージ１１を包含することができる。

【0083】

図４Ｄを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ４をダイシングしてウエハー１０１が分離されて形成されたマスターチップ１００上に半導体パッケージ１１が実装された半導体パッケージ４１を製造することができる。一例によれば、マスターチップ１００の側面１００ｓは露出され、半導体パッケージ１１は後面モールド層２１１によってモールディングされ得る。

【0084】

図４Ｅを参照すれば、半導体パッケージ４１を印刷回路基板のようなパッケージ基板８０の前面８０ａ上に実装し、外部モールド層８３を形成して、半導体パッケージ４２を製造することができる。マスターチップ１００は前面モールド層１１１と、後面モールド層２１１と、外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。半導体パッケージ１１は後面モールド層１１１と外部モールド層８３とによって二重に囲まれてモールディングされ得る。

【0085】

＜実施形態５＞
図５Ａ乃至図５Ｅは本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。以下には第１実施形態と異なる点に対して詳説し、同一な点に対しては省略するか、或いは概説する。

【0086】

図５Ａを参照すれば、下部ウエハーレベルチップ１９０上に上部ウエハーレベルチップ２９５を積層することができる。例えば、図１Ａ乃至図１Ｃで説明したことと同一又は類似にウエハー１０１の活性面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１を研磨した後、貫通電極１２１と後面パッド１２３とを形成することができる。その後、ウエハー１０１（以下、下部ウエハー）の非活性面１０１ｃ上に回路層２５３を有するウエハー２５１（以下、上部ウエハー）を積層することができる。上部ウエハー２５１は活性面２５１ａと非活性面２５１ｃとを有するシリコンのような半導体を包含することができる。上部ウエハー２５１の活性面２５１ａの上には回路層２５３と電気的に連結されたバンプ２５５が提供され得る。上部ウエハー２５１はその活性面２５１ａが下部ウエハー１０１の非活性面１０１ｃに向かうように覆して下部ウエハー１０１上に積層され得る。

【0087】

図５Ｂを参照すれば、下部ウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に上部ウエハーレベルチップ２９５をモールディングする後面モールド層２１１を形成し、前面モールド層１１１を除去することができる。前面モールド層１１１はグラインダ９０によってバンプ１０５を露出させる時まで研磨され得る。他の例として、前面モールド層１１１は図２Ａ及び図２Ｂに示したように化学物質を利用するエッチングによって完全に除去されるか、或いはバンプ１０５を露出させる埋め込まさせない厚さにウエハー１０１の活性面１０１ａ上に残留することができる。

【0088】

図５Ｃを参照すれば、バンプ１０５上に第２バンプ１０７を付着して外部端子１０９を形成することができる。前記一連の工程を通じて上部ウエハーレベルチップ２９５が後面モールド層２１１でモールディングされて、下部ウエハーレベルチップ１９０上に積層されたウエハーレベルパッケージ５を製造することができる。

【0089】

図５Ｄを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ５をダイシングして下部ウエハー１０１が分離されて形成されたマスターチップ１００上に上部ウエハー２５１が分離されて形成されたスレーブチップ２５０が実装された半導体パッケージ５１を製造することができる。マスターチップ１００の側面１００ｓとスレーブチップ２５０の側面２５０ｓとは露出され得る。

【0090】

図５Ｅを参照すれば、半導体パッケージ５１を印刷回路基板のようなパッケージ基板８０の前面８０ａ上に実装し、外部モールド層８３を形成して、半導体パッケージ５２を製造することができる。マスターチップ１００は前面モールド層１１１と、後面モールド層２１１と、外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。スレーブチップ２５０は後面モールド層２１１と外部モールド層８３とによって囲まれてモールディングされ得る。

【0091】

＜実施形態６＞
図６Ａ乃至図６Ｄは本発明のその他の実施形態による半導体パッケージの製造方法を示した断面図である。以下には第１実施形態と異なる点に対して詳説し、同一な点に対しては省略するか、或いは概説する。

【0092】

図６Ａを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００を積層することができる。例えば、図１Ａ乃至図１Ｅで説明したことと同一又は類似にウエハー１０１の活性面１０１ａ上に前面モールド層１１１を形成し、ウエハー１０１を研磨した後、貫通電極１２１と後面パッド１２３とを形成し、そしてウエハー１０１の非活性面１０１ｃ上に複数個のチップ２００をフリップチップ実装することができる。本実施形態によれば、ウエハーレベルチップ１９０はウエハー１０１の活性面１０１ａ上に提供されて前面パッド１０４と連結されるバンプを包含しないことがあり得る。

【0093】

図６Ｂを参照すれば、ウエハーレベルチップ１９０上に後面モールド層２１１を形成し、前面モールド層１１１をグラインディング工程、化学機械的研磨工程、或いはエッチング工程等によって除去することができる。一例によれば、前面モールド層１１１はグラインダ９０によって練磨されて前面パッド１０４が露出され得る。

【0094】

図６Ｃを参照すれば、前面モールド層１１１の除去によってウエハーレベルチップ１９０上に複数個のチップ２００が積層されたウエハーレベルパッケージ６が製造され得る。バンプ２０５が貫通電極１２１と連結されることによって、チップ２００がウエハーレベルチップ１９０と電気的に連結され得る。

【0095】

図６Ｄを参照すれば、ウエハーレベルパッケージ６のダイシングによって形成されたチップ積層体１９５を印刷回路基板のようなパッケージ基板７０上に実装して半導体パッケージ６１を製造することができる。一例として、前面パッド１０４に連結されるボンディングパッド７４を形成し、接着層７１の介在下にチップ積層体１９５を実装してパッケージ基板７０の前面７０ａ上に実装することができる。チップ積層体１９５はウエハー１０１のダイシングによって分離されて形成されたマスターチップ１００上にフリップチップ実装されたスレーブチップ２００を包含することができる。

【0096】

パッケージ基板７０の後面７０ｂにはソルダボール７５が付着され得る。本実施形態によれば、パッケージ基板７０はチップ積層体１９５のセンターを開放するウインドー７０ｗを包含することができる。チップ積層体１９５はウインドー７０ｗを通過してボンディングパッド７４に接続するボンディングワイヤ７２を通じてパッケージ基板７０と電気的に連結され得る。ウインドー７０ｗはボンディングワイヤ７２を固定させ、保護するモールド層７３によって満たされ得る。

【0097】

＜応用例＞
図７Ａは本発明の実施形態による半導体パッケージを具備するメモリカードを示したブロック図である。図７Ｂは本発明の実施形態による半導体パッケージを応用した情報処理システムを示したブロック図である。

【0098】

図７Ａを参照すれば、メモリカード１２００はホストとメモリ１２１０との間の諸般データ交換を制御するメモリコントローラ１２２０を包含することができる。ＳＲＡＭ１２２１は中央処理装置１２２２の動作メモリとして使用され得る。ホストインターフェイス１２２３はメモリカード１２００と接続されるホストのデータ交換プロトコルを具備することができる。誤謬修正コード１２２４はメモリ１２１０から読出されたデータに含まれる誤謬を検出及び訂正することができる。メモリインターフェイス１２２５はメモリ１２１０とインターフェイシングする。中央処理装置１２２２はメモリコントローラ１２２０のデータを交換するための諸般制御動作を遂行することができる。メモリ１２１０は本実施形態の半導体パッケージの中で少なくともいずれか１つを包含することができる。

【0099】

図７Ｂを参照すれば、情報処理システム１３００は本実施形態の半導体パッケージの中で少なくともいずれか１つを具備するメモリシステム１３１０を包含することができる。情報処理システム１３００はモバイル機器やコンピューター等を包含することができる。一例として、情報処理システム１３００はシステムバス１３６０に電気的に連結されたメモリシステム１３１０、モデム１３２０、中央処理装置１３３０、ＲＡＭ１３４０、ユーザーインターフェイス１３５０を包含することができる。メモリシステム１３１０はメモリ１３１１とメモリコントローラ１３１２とを包含でき、図７Ａのメモリカード１２００と実質的に同様に構成され得る。このようなメモリシステム１３１０には中央処理装置１３３０によって処理されたデータ又は外部から入力されたデータが格納され得る。情報処理システム１３００はメモリカード、半導体ディスク装置（Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｄｉｓｋ）、カメライメージプロセッサ（Ｃａｍｅｒａ Ｉｍａｇｅ Ｓｅｎｓｏｒ）、及びその他の応用チップセット（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｃｈｉｐｓｅｔ）に提供され得る。

【0100】

以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で多様な他の組み合わせ、変更及び環境で使用することができる。添付された請求の範囲は他の実施状態も含むことと理解しなければならない。

【符号の説明】

【0101】

１、１１・・・半導体パッケージ
１００・・・マスターチップ
１０１・・・下部ウエハー
１０１ａ・・・前面、活性面
１０１ｂ・・・第１後面、非活性面
１０１ｃ・・・第２後面
１０３・・・回路層
１０４・・・前面パッド
１０５・・・バンプ
１０９・・・外部端子
１１１・・・前面モールド層
１２０・・・垂直ホール
１２１・・・貫通電極
１２３・・・後面パッド
２００・・・スレーブチップ

【図1A】

【図1B】

【図1C】

【図1D】

【図1E】

【図1F】

【図1G】

【図1H】

【図1I】

【図1J】

【図2A】

【図2B】

【図2C】

【図2D】

【図3A】

【図3B】

【図3C】

【図3D】

【図3E】

【図3F】

【図3G】

【図3H】

【図3I】

【図3J】

【図4A】

【図4B】

【図4C】

【図4D】

【図4E】

【図5A】

【図5B】

【図5C】

【図5D】

【図5E】

【図6A】

【図6B】

【図6C】

【図6D】

【図7A】

【図7B】