特許 5908097 眼圧センサー及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5908097

(24)【登録日】2016年4月1日

(45)【発行日】2016年4月26日

(54)【発明の名称】眼圧センサー及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   A61B 3/16 20060101AFI20160412BHJP

   H01L 29/84 20060101ALI20160412BHJP

   G01L 5/00 20060101ALI20160412BHJP

【ＦＩ】

   A61B3/16

   H01L29/84 Z

   G01L5/00 Z

【請求項の数】15

【全頁数】16

(21)【出願番号】特願2014-534453(P2014-534453)

(86)(22)【出願日】2011年11月24日

(65)【公表番号】特表2014-533983(P2014-533983A)

(43)【公表日】2014年12月18日

(86)【国際出願番号】KR2011009009

(87)【国際公開番号】WO2013051755

(87)【国際公開日】20130411

【審査請求日】2014年5月29日

(31)【優先権主張番号】10-2011-0102571

(32)【優先日】2011年10月7日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】513192683

【氏名又は名称】スンシル ユニバーシティー リサーチ コンソルティウム テクノ−パーク

【氏名又は名称原語表記】ＳＯＯＮＧＳＩＬ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＮＳＯＲＴＩＵＭ ＴＥＣＨＮＯ−ＰＡＲＫ

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】100164471

【弁理士】

【氏名又は名称】岡野 大和

(74)【代理人】

【識別番号】100187078

【弁理士】

【氏名又は名称】甲原 秀俊

(72)【発明者】

【氏名】カン ビョン ジュ

(72)【発明者】

【氏名】チョ ジ ソン

(72)【発明者】

【氏名】パク チャン グン

【審査官】 安田 明央

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１１／０３５２２８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０９−０４３０８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−２６０６１１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０７１４６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１０−５１５４７６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第０５００５５７７（ＵＳ，Ａ）

【文献】 米国特許第０６６８２４９０（ＵＳ，Ｂ１）

【文献】 中国特許出願公開第１０２２４９１７７（ＣＮ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２３０４０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０４７５８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００９−５３２１１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−３３１４６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００１／０００１３１１（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 韓国公開特許第２００３−００７９２８０（ＫＲ，Ａ）

【文献】 韓国公開特許第２００４−００５１４６４（ＫＲ，Ａ）

【文献】 欧州特許出願公開第０１４７１３４０（ＥＰ，Ａ１）

【文献】 米国特許第０６５４６８０４（ＵＳ，Ｂ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ６１Ｂ ３／００−３／１６

Ｇ０１Ｌ ５／００

Ｈ０１Ｌ ２９／８４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、
第１基板を準備する段階と、
前記第１基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、
前記第１基板に対してエッチングを行って、前記ベースフィルムの上面を露出させる段階と、
露出された前記ベースフィルムの中央にエポキシを塗布する段階と、
前記ベースフィルムのエポキシ塗布部位に第１電極を配置する段階と、
第２基板を準備する段階と、
前記第２基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、
前記支持フィルム上に第２電極を形成する段階と、
前記第２基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下面を露出させる段階と、
前記第１基板上に前記第２基板を配置する段階と、
を含み、
前記エポキシが流入する接着ホールが、前記第１電極の中央に形成される、眼圧センサーの製造方法。

【請求項2】

患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、
第１基板を準備する段階と、
前記第１基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、
前記第１基板に対してエッチングを行って、電極固定部を前記ベースフィルムの中央に形成し、前記ベースフィルムの上部を露出させる段階と、
前記電極固定部上にエポキシを塗布する段階と、
前記電極固定部上に前記第１電極を配置する段階と、
第２基板を準備する段階と、
前記第２基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、
前記支持フィルム上に第２電極を形成する段階と、
前記第２基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下部を露出させる段階と、
前記第１基板上に前記第２基板を配置する段階と、
を含み、
前記エポキシが流入する接着ホールが、前記第１電極の中央に形成される、眼圧センサーの製造方法。

【請求項3】

前記第１基板と前記第２基板は、面積が同一である請求項１または２に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項4】

前記第１基板と前記ベースフィルムは、面積が同一である請求項３に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項5】

前記第２基板と前記支持フィルムは、面積が同一である請求項３に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項6】

前記第１基板と前記第２基板とに対するエッチング面積は、互いに同一である請求項１に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項7】

前記第１電極は、前記ベースフィルムと接着される接着部が突設される請求項１に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項8】

前記第１基板に対するエッチング段階は、
前記第１基板にマスキングを行う第１マスキング段階と、
前記第１基板にエッチングを行うが、前記第１基板の全体厚さのうち一部を残留させる第１エッチング段階と、
前記第１基板のエッチング部位の中央にマスキングを行う第２マスキング段階と、
前記第１基板にエッチングを行って、前記電極固定部を形成させ、前記ベースフィルムを露出させる第２エッチング段階と、
を含む請求項２に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項9】

前記第１基板上に前記第２基板を配置するが、前記エッチング部位が互いに一致するように整列して配置する段階を含む請求項１または２に記載の眼圧センサーの製造方法。

【請求項10】

患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、
眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、
前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、
板状であり、前記ベースフィルム上に配される第１電極と、
前記第１電極の一面の中央に突設され、エポキシによって前記ベースフィルムに接着される接着部と、
前記本体の上部に配される支持フィルムと、
前記支持フィルム上に配される第２電極と、
を含み、
前記エポキシが流入する接着ホールが、前記第１電極の中央に形成される、眼圧センサー。

【請求項11】

患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、
眼球の前記眼圧測定の基準面として作用し、中央部にエポキシが塗布されるベースフィルムと、
前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、
板状であり、前記ベースフィルム上に配され、前記エポキシが流入する接着ホールが中央に形成される第１電極と、
前記本体の上部に配される支持フィルムと、
前記支持フィルム上に配される第２電極と、
を含む眼圧センサー。

【請求項12】

患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、
眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、
前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、
前記ベースフィルムの中央に配される電極固定部と、
板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第１電極と、
前記本体の上部に配される支持フィルムと、
前記支持フィルム上に配される第２電極と、
を含み、
前記エポキシが流入する接着ホールが、前記第１電極の中央に形成される、眼圧センサー。

【請求項13】

前記本体の内部空間に渦電流が生成され、
前記渦電流は、
前記第１電極と前記第２電極との距離に対応してサイズが変化される請求項１０ないし請求項１２のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。

【請求項14】

前記第１電極は、フェライト、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）を含む請求項１０ないし請求項１２のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。

【請求項15】

前記第２電極は、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）を含む請求項１０ないし請求項１２のうち何れか一項に記載の眼圧センサー。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、眼圧センサー及びその製造方法に係り、より詳細には、眼圧の測定範囲と測定効率とをより向上させうる眼圧センサー及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

眼圧センサーは、人の身体のうち、眼球の圧力、すなわち、眼圧を測定する。

【0003】

眼圧センサーは、眼球に関連した疾病の診断と治療とのために、患者の眼圧を正確に測定するために使われる。特に、緑内障は、目内の眼圧（Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ）が上がることによって、高くなった圧力を視神経が耐えることができなくて、視神経の損傷が発生する病気であって、緑内障の診断と治療とにおいては、患者の眼圧を正確に測定する必要がある。

【0004】

したがって、眼球の眼圧変化に対応して眼圧の測定範囲と測定効率とをより向上させる必要がある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明は、前記問題点を解決するために案出されたものであって、患者の眼球の眼圧測定範囲と測定効率とをより向上させうる眼圧センサー及びその製造方法を提供することを目的とする。

【0006】

眼圧センサーのベースフィルムと第１電極との接着面積を減少させて、眼圧変化による第１電極の移動をより容易にする眼圧センサー及びその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の第１側面による眼圧センサーの製造方法は、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第１基板を準備する段階と、前記第１基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第１基板に対してエッチングを行って、前記ベースフィルムの上面を露出させる段階と、露出された前記ベースフィルムの中央にエポキシを塗布する段階と、前記ベースフィルムのエポキシ塗布部位に第１電極を配置する段階と、第２基板を準備する段階と、前記第２基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第２電極を形成する段階と、前記第２基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下面を露出させる段階と、前記第１基板上に前記第２基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法を提供する。

【0008】

本発明の第２側面による眼圧センサーの製造方法は、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定する眼圧センサーを製作する方法であって、第１基板を準備する段階と、前記第１基板の下面にベースフィルムを蒸着形成する段階と、前記第１基板に対してエッチングを行って、電極固定部を形成し、前記ベースフィルムの上部を露出させる段階と、前記電極固定部上にエポキシを塗布する段階と、前記電極固定部上に前記第１電極を配置する段階と、第２基板を準備する段階と、前記第２基板上に支持フィルムを蒸着形成する段階と、前記支持フィルム上に第２電極を形成する段階と、前記第２基板に対してエッチングを行って、前記支持フィルムの下部を露出させる段階と、前記第１基板上に前記第２基板を配置する段階と、を含む眼圧センサーの製造方法を提供する。

【0009】

前記第１基板と前記第２基板は、面積が同一であり得る。

【0010】

前記第１基板と前記ベースフィルムは、面積が同一であり得る。

【0011】

前記第２基板と前記支持フィルムは、面積が同一であり得る。

【0012】

前記第１基板と前記第２基板とに対するエッチング面積は、互いに同一であり得る。

【0013】

前記第１電極は、前記ベースフィルムと接着される接着部が突設される。

【0014】

前記第１電極は、前記ベースフィルムと接着される部位に接着ホールが形成されうる。

【0015】

前記第１基板に対するエッチング段階は、前記第１基板にマスキングを行う第１マスキング段階と、前記第１基板にエッチングを行うが、前記第１基板の全体厚さのうち一部を残留させる第１エッチング段階と、前記第１基板のエッチング部位の中央にマスキングを行う第２マスキング段階と、前記第１基板にエッチングを行って、前記電極固定部を形成させ、前記ベースフィルムを露出させる第２エッチング段階と、を含みうる。

【0016】

前記第１基板上に前記第２基板を配置するが、前記エッチング部位が互いに一致するように整列して配置する段階を含みうる。

【0017】

本発明の第１側面による眼圧センサーは、患者の眼球に移植されて、患者の眼圧を測定するセンサーであって、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用し、中央部にエポキシが塗布されるベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、板状であり、前記ベースフィルム上に配され、前記エポキシに対応する接着ホールが形成される第１電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第２電極と、を含む眼圧センサーを提供する。

【0018】

本発明の第２側面による眼圧センサーは、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、前記本体の下部に配されるベースフィルムと、前記ベースフィルム上に配される電極固定部と、板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第１電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第２電極と、を含む眼圧センサーを提供する。

【0019】

本発明の第３側面による眼圧センサーは、眼球の前記眼圧測定の基準面として作用するベースフィルムと、前記ベースフィルムの上部外周に沿って配される本体と、前記ベースフィルム上に配される電極固定部と、板状であり、前記電極固定部にエポキシによって接着される第１電極と、前記本体の上部に配される支持フィルムと、前記支持フィルム上に配される第２電極と、を含む眼圧センサーを提供する。

【0020】

前記本体の内部空間に渦電流が生成され、前記渦電流は、前記第１電極と前記第２電極との距離に対応してサイズが変化されうる。

【0021】

前記第１電極は、フェライト、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）を含みうる。

【0022】

前記第２電極は、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）を含みうる。

【発明の効果】

【0023】

前記のような本発明は、眼圧センサーの下部に位置するベースフィルムと第１電極との接着面を最小化して、患者の眼球の測定範囲と測定効率とをより向上させうる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法の構成を示すフローチャートである。

【図2】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第１基板の処理過程を示す図面である。

【図3】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第２基板の処理過程を示す図面である。

【図4】図３に示された第２電極の構成の一例を示す斜視図である。

【図5】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの構成を示す断面図である。

【図6】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。

【図7】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーでの渦電流発生を説明する図面である。

【図8】本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で接着ホールが形成された第１電極の付着状態を示す断面図である。

【図9】図８に示された第１基板を使う眼圧センサー１００Ａの構成を示す図面である。

【図10】図９に示された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。

【図11】本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法を示すフローチャートである。

【図12】本発明の第２実施形態で使う第１基板の処理過程を示す図面である。

【図13】本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法で第１基板に対するエッチング段階の構成を示すフローチャートである。

【図14】電極固定部上に第１電極が配された眼圧センサーの構成を示す断面である。

【図15】本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法によって製作された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以下、添付した図面を参照しながら、本発明による望ましい実施形態を詳しく説明する。

【0026】

図１は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法の構成を示すフローチャートである。

【0027】

図面を参照して、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法の各段階を説明する。

【0028】

図２は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第１基板の処理過程を示す図面である。

【0029】

図２の（Ａ）を参照すれば、第１基板を準備する段階（ステップＳ１１０）は、後述する第２基板と共に眼圧センサー１００の基本的な形態である本体を成す第１基板１１０を準備する段階である。第１基板１１０は、ハード（ｈａｒｄ）な材質であって、所定の面積と厚さとからなる。

【0030】

図２の（Ｂ）を参照すれば、ベースフィルム形成段階（ステップＳ１２０）は、第１基板１１０の下面にベースフィルム１２０を形成する段階であって、ベースフィルム１２０は、第１基板１１０の下面に蒸着工程によって形成される。

【0031】

ベースフィルム１２０は、眼圧測定の基準面として使われる。この際、ベースフィルム１２０の面積は、第１基板１１０の面積と同一であることが望ましい。

【0032】

ベースフィルム１２０は、フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）な特性を有するフィルムであって、眼圧測定のために使われるので、患者の身体または眼球に対して無害な物質であることが望ましい。

【0033】

図２の（Ｃ）と（Ｄ）とを参照すれば、エッチングを行う段階（ステップＳ１３０）は、ベースフィルム１２０が付着されている第１基板１１０の上面に対してエッチングを行って、ベースフィルム１２０を露出させる。

【0034】

ここで、第１基板１１０に対するエッチングは、次のように行われる。すなわち、図２の（Ｃ）に示されているように、第１基板１１０の上面の外周側部位に部分的にマスク（ｍａｓｋ）１１２を覆って配置する。ここで。マスク１１２は、第１基板１１０の上面の１０〜２０％に対して行われるが、ユーザの必要に応じて変更されうる。

【0035】

マスク１１２が配されれば、エッチングを行って、図２の（Ｄ）に示されているように、エッチング部位を通じてベースフィルム１２０を露出させる。エッチングが完了すれば、マスク１１２を除去する。

【0036】

エッチング段階（ステップＳ１３０）が完了すれば、エポキシ塗布段階（ステップＳ１４０）を行う。

【0037】

図２の（Ｅ）を参照すれば、エポキシ塗布段階（ステップＳ１４０）は、後述する第１電極１４０が付着されるように、ベースフィルム１２０上にエポキシ（ｅｐｏｘｙ）１３０を塗布する。

【0038】

エポキシ塗布段階（ステップＳ１４０）で、エポキシは、ベースフィルム１２０の中央部位に対して行われる。エポキシ１３０塗布面積は、後述する第１電極１４０が付着される範囲で最小限の面積であることが望ましい。

【0039】

ここで、エポキシ１３０は、塗布作業の遂行を容易にするために、ゲル状または液状であり得る。

【0040】

エポキシ塗布段階（ステップＳ１４０）が完了すれば、第１電極１４０を配置する。

【0041】

図２の（Ｆ）を参照すれば、第１電極配置段階（ステップＳ１５０）は、第１電極１４０をベースフィルム１２０上のエポキシ１３０塗布部位に配置する。

【0042】

第１電極１４０は、後述する第２電極１７４との離隔空間に渦電流を形成させる。第１電極１４０は、プレート形態であって、その面積は、第１基板１１０のエッチング部位を通じてベースフィルム１２０上に配された後、上下移動が可能な状態で可能な広く形成されることが望ましい。

【0043】

第１電極１４０は、フェライト（ｆｅｒｒｉｔｅ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）を含みうる。

【0044】

第１電極１４０は、ベースフィルム１２０上に塗布されたエポキシによってベースフィルム１２０上に付着される。ここで、第１電極１４０のベースフィルム１２０との接着面に長方形状の断面形態で形成された接着部１４１が突設される。

【0045】

第１電極１４０の配置時に、第１電極１４０の接着部１４１が、ベースフィルム１２０上のエポキシ１３０塗布部位に位置された後、エポキシが硬化されれば、第１電極１４０の固定がなされる。

【0046】

第１電極１４０とベースフィルム１２０との接着面積は、第１電極１４０の全体面積に比べた時、一部であるので、眼球の眼圧変化によるベースフィルム１２０の上昇と下降とがなされる時、第１電極１４０の移動がより容易になされる。

【0047】

図３は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で使う第２基板の処理過程を示す図面である。

【0048】

図３の（Ａ）を参照すれば、第２基板を準備する段階（ステップＳ１６０）は、第１基板１１０と共に眼圧センサー１００の全体的な形態を構成する第２基板１５０を準備する段階である。

【0049】

第２基板１５０の面積と厚さは、第１基板１１０の面積と厚さと同一であり、第２基板１５０の材質は、第１基板１１０の材質と同一であることが望ましい。

【0050】

図３の（Ｂ）を参照すれば、第２基板上に支持フィルム及び第２電極を形成する段階（ステップＳ１７０）は、第２基板１５０の上面に支持フィルム１６０を蒸着工程によって形成する。支持フィルム１６０は、眼圧センサーの使用時に、後述する第２電極を支持する。

【0051】

図３の（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）を参照すれば、支持フィルム及び第２電極を形成する段階（ステップＳ１７０）は、第１電極１４０と対応して眼圧センサー１００の内側空間に渦電流を形成させる第２電極１７４を形成する。

【0052】

まず、図３の（Ｃ）に示されているように、支持フィルム１６０上に金属層１７０を蒸着形成する。ここで、金属層１７０は、銅（Ｃｕ）またはアルミニウム（Ａｌ）、または銅とアルミニウム合金とを含む。

【0053】

図３の（Ｄ）を参照すれば、金属層１７０上に後述する第２電極１７４の形状に対応するマスク１７２を配置し、金属層１７０に対してエッチングを行って、図３の（Ｅ）に示したような第２電極１７４を形成させる。

【0054】

図４は、図３に示された第２電極の構成の一例を示す斜視図である。

【0055】

第２電極１７４の形態は、図示したところに限定されず、ユーザの必要に応じて多様に形成されうる。

【0056】

第２電極１７４は、第１電極１４０との離隔間隔の変化に対応して離隔空間の間に渦電流を形成する。

【0057】

再び図３を参照する。

【0058】

図３の（Ｆ）と（Ｇ）とを参照すれば、第２基板に対してエッチングを行う段階（ステップＳ１８０）は、第２基板１５０の下面に対してエッチングを行って、支持フィルム１６０の下部を露出させる。

【0059】

ここで、第２基板１５０に対するエッチングは、次のように行われる。すなわち、図３の（Ｆ）に示されているように、第２基板１５０の下面の外周側部位に部分的にマスク１５２を配置する。ここで、マスク１５２は、第１基板１１０の下面の１０〜２０％に対して行われるが、ユーザの必要に応じて変更されうる。

【0060】

マスク１５２の配置が完了すれば、エッチングを行って、図２の（Ｇ）に示されているように、エッチング部位を通じて支持フィルム１６０を露出させる。エッチングが完了すれば、マスク１５２を除去する。

【0061】

ここで、第２基板１５０に対するエッチング面積は、第１基板１１０に対するエッチング面積と同一であることが望ましい。

【0062】

第２基板１５０に対するエッチングが完了すれば、ベースフィルム１２０上に第１電極１４０が接着されている第１基板１１０の上部に第２基板１５０を配置して眼圧センサー１００を完成する。

【0063】

図５は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの構成を示す断面図である。

【0064】

図５を参照すれば、第１及び第２基板１１０、１５０に対するエッチング（ステップＳ１３０、ステップＳ１８０）以後、残留している第１及び第２基板１１０、１５０が互いに当接して、上下に連結される内部には、渦電流が形成される空間を有する本体１０４を形成することが分かる。

【0065】

本体１０４の下部と上部には、それぞれベースフィルム１２０と支持フィルム１６０とが配されることが分かる。

【0066】

ベースフィルム１２０上に第１電極１４０が配されており、支持フィルム１６０上には、第２電極１７４が配されていて、第１電極１４０と第２電極１７４との離隔空間には、離隔距離に対応して渦電流が形成されうる。

【0067】

これは、後述する眼圧センサーに対しても同様に適用可能である。

【0068】

前記のように構成された本発明の作用を説明する。

【0069】

図５に示されている構成の眼圧センサー１００は、眼球（図示せず）内に配される。

【0070】

眼圧が正常である場合、第１電極１４０と第２電極１７４との離隔距離は、図５に示されているように、元々設定されている状態を継続的に保持する。

【0071】

図６は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーの動作状態を示す図面であって、眼圧が一定程度上昇した場合の第１電極１４０と第２電極１７４との関係を示す図面である。

【0072】

示されているように、眼圧の上昇によってベースフィルム１２０の中央部の高さが上昇して、第１電極１４０と第２電極１７４との離隔距離が狭くなる。

【0073】

第１電極１４０と第２電極１７４との間の渦電流が増加するので、これを感知して眼圧の上昇を測定することができる。

【0074】

第１電極１４０とベースフィルム１２０との接着面積は、第１電極１４０の全体面積に比べた時、一部であるので、眼球の眼圧変化によるベースフィルム１２０の上昇と下降とがなされる時、第１電極１４０の移動がより容易になされる。

【0075】

図７は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法によって完成された眼圧センサーでの渦電流発生を説明する図面である。

【0076】

すなわち、図７に示されているように、第１電極１４０と第２電極１７４との間では、渦電流が発生する。渦電流は、インダクターのインダクタンスを減少させる方向に作用するので、もし、眼圧センサーの外部圧力が増加して、第１電極１４０と第２電極１７４とが互いに接近する場合、本体１０４の内部空間には、渦電流のサイズが増加し、結果的にインダクターのインダクタンスは、さらに減少する。

【0077】

このように、眼圧センサーの外部圧力によって、第１電極１４０と第２電極１７４との間に距離が変化すれば、第２電極１７４によるインダクターの寄生成分が変化し、このような寄生成分の変化は、眼圧センサーのインピーダンス値の変化を発生させる。このような眼圧センサーのインピーダンス値の変化を外部で検出すれば、眼球内の圧力を外部で分かる。

【0078】

すなわち、電極と電極との距離に対応して、渦電流の量は変化されるので、第１電極１４０と第２電極１７４との距離変化による渦電流変化を測定して、眼圧の測定が可能である。電極間の距離による渦電流の変化は、別途に測定がなされる。

【0079】

一方、眼圧センサーの製造過程のうち、第１電極の付着時に、電極の付着圧力によってベースフィルム１２０上に塗布されていたエポキシが押されながら、エポキシ塗布部位がユーザの意図とは異なって拡張されうる。

【0080】

図８は、本発明の第１実施形態による眼圧センサーの製造方法で接着ホールが形成された第１電極の付着状態を示す断面図である。

【0081】

図９は、図８に示された第１基板を使う眼圧センサー１００Ａの構成を示す図面である。

【0082】

図８と図９とを参照すれば、第１電極１４０Ａの中央には、接着ホール１４２が貫設される。接着ホール１４２の面積は、エポキシ塗布面積よりも多少小さく形成されることが望ましい。

【0083】

接着ホール１４２が形成された第１電極１４０Ａが、エポキシが塗布されたベースフィルム１２０上に配されれば、エポキシは、第１電極１４０Ａをベースフィルム１２０と接着させる。この際、エポキシは、第１電極１４０Ａの付着圧力によって接着ホール１４２の内側に流入され、ベースフィルム１２０と第１電極１４０Ａとの接着面積が設定以上に拡張されることを防止することができる。

【0084】

図１０は、図９に示された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。

【0085】

図１０に示された眼圧センサー１００Ａは、第１電極１４０Ａに接着ホール１４２が形成されるものの以外には、図５と図６とに示された眼圧センサー１００と構成と作用とが同一なので、これについての詳細な説明は省略する。

【0086】

図１１は、本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法を示すフローチャートであり、図１２は、本発明の第２実施形態で使う第１基板の処理過程を示す図面である。

【0087】

図面を参照して、本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法を説明する。

【0088】

ここで、以前の実施形態と同一の構成については、詳細な説明を省略し、差がある構成についてのみ説明する。

【0089】

本実施形態で、第１電極１４０Ｂの固定のための接着面積の最小化のために、ベースフィルム１２０上には、電極固定部１１６が形成される。

【0090】

電極固定部１１６の形成は、第１基板に対するエッチング段階（ステップＳ２３０）からなされる。

【0091】

このために、第１基板に対するエッチング段階（ステップＳ２３０）は、次のように行われる。

【0092】

図１３は、本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法で第１基板に対するエッチング段階（ステップＳ２３０）の構成を示すフローチャートである。

【0093】

図１３を参照すれば、第１基板に対するエッチング段階は、第１マスキング段階（ステップＳ２３２）と、第１エッチング段階（ステップＳ２３３）と、第２マスキング段階（ステップＳ２３４）と、第２エッチング段階（ステップＳ２３５）と、を含む。

【0094】

第１マスキング段階（ステップＳ２３２）は、第１基板１１０のエッチング面に対して第１マスク１１２を配置する段階である。第１マスク１１２は、図１２の（Ｃ）に示されているように、第１基板１１０の上面の外周側部位を部分的に覆うように配される。ここで、第１マスク１１２は、第１基板１１０の上面の１０〜２０％を覆うように配してもよいが、これはユーザの必要に応じて変更されうる。

【0095】

第１マスク１１２の配置が完了すれば、図１２の（Ｄ）に示されているように、第１エッチング段階（ステップＳ２３３）を行う。第１エッチング段階（ステップＳ２３３）は、第１基板１１０のエッチング部位の厚さがほぼ１／２になるまで進行する。

【0096】

第１基板１１０のエッチング部位の厚さが１／２の程度に減少すれば、第１エッチング段階（ステップＳ２３３）を終了する。本実施形態で、第１エッチング段階（ステップＳ２３３）は、第１基板１１０のエッチング部位の厚さが１／２になるまで進行するが、これは、後述する電極固定部１１６の高さが第１基板１１０の１／２の高さで形成される場合に限定されるものであって、電極固定部１１６の設定の高さによって第１エッチング段階（ステップＳ２３３）の程度は変化されうる。

【0097】

以後、図１２の（Ｅ）に示されているように、エッチング面の中央に所定の面積で第２マスク１１４が配される。第２マスク１１４の面積は、後述する電極固定部１１６の上部面積に対応するレベルからなる。

【0098】

第２マスク１１４の配置が完了すれば、図１２の（Ｆ）に示されているように、第１基板１１０の上面に対してエッチングをする第２エッチング段階（ステップＳ２３５）を行う。第２エッチング段階（ステップＳ２３５）は、第１エッチング段階（ステップＳ２３３）からなるエッチング部位を通じてベースフィルム１２０が露出されるまで進行する。この際、第２マスク１１４が配された部分は、除去されず、所定の高さと直径とを有する電極固定部１１６が形成される。第２エッチング段階（ステップＳ２３５）が完了すれば、第２マスク１１４は除去される。

【0099】

図１２の（Ｇ）に示されているように、エポキシ塗布段階（ステップＳ２４０）は、第２エッチング段階（ステップＳ２３５）で形成された電極固定部１１６の上面にエポキシを塗布する。

【0100】

以後、電極固定部１１６上には、第１電極１４０Ｂを配置する（ステップＳ２５０）。

【0101】

図１４は、電極固定部１１６上に第１電極１４０Ｂが配された眼圧センサー１００Ｂの構成を示す断面である。

【0102】

ここで、第１電極１４０Ｂは、平板状に形成されるが、以前の実施形態でのように接着ホールが形成され、電極固定部が形成されうる。

【0103】

第１基板１１０と第２基板１５０とに対するエッチングが完了すれば、図１４に示したように、第１基板１１０と第２基板１５０とを互いに整列して結合させて、眼圧センサー１００Ｂを完成させる。

【0104】

図１５は、本発明の第２実施形態による眼圧センサーの製造方法によって製作された眼圧センサーの動作状態を示す図面である。

【0105】

本実施形態による製造方法によって製作された眼圧センサーの作用は、以前の実施形態による製造方法によって製作された眼圧センサーと同一なので、これについての詳細な説明は省略する。

【0106】

本発明は、図面に示された実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これより多様な変形及び均等な他実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されるべきである。

【産業上の利用可能性】

【0107】

本発明は、眼圧センサー及びその製造方法関連の技術分野に適用可能である。

【図1】

【図2(A)】

【図2(B)】

【図2(C)】

【図2(D)】

【図2(E)】

【図2(F)】

【図3(A)】

【図3(B)】

【図3(C)】

【図3(D)】

【図3(E)】

【図3(F)】

【図3(G)】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12(A)】

【図12(B)】

【図12(C)】

【図12(D)】

【図12(E)】

【図12(F)】

【図12(G)】

【図12(H)】

【図13】

【図14】

【図15】