【図1】Ｓｉ_３Ｎ_４−２ｍａｓｓ％Ａｌ_２Ｏ_３−５ｍａｓｓ％Ｙ_２Ｏ_３−３ｍａｓｓ％ＭｇＯ−１ｍａｓｓ％ＡｌＮ組成に配合したＳｉ_３Ｎ_４系セラミックスの鏡面ＳＥＭ組織に及ぼす焼結温度の影響である。白矢印はポアを示す。高倍写真（上段）はポアの少ない部分を撮影したもの。

【図2】Ｓｉ_３Ｎ_４−２ｍａｓｓ％Ａｌ_２Ｏ_３−５ｍａｓｓ％Ｙ_２Ｏ_３−１ｍａｓｓ％〜２ｍａｓｓ％ＭｇＯ−１ｍａｓｓ％ＡｌＮ組成に配合したＳｉ_３Ｎ_４系セラミックスの鏡面ＳＥＭ組織に及ぼすＭｇＯ添加量の影響である。白矢印はポアを示す。高倍写真（上段）はポアの少ない部分を撮影したもの。

【図3】Ｓｉ_３Ｎ_４−５ｍａｓｓ％Ｙ_２Ｏ_３−１ｍａｓｓ％ＭｇＯ−１ｍａｓｓ％〜６ｍａｓｓ％ＡｌＮ組成に配合したＳｉ_３Ｎ_４系セラミックスのα率に及ぼすＡｌＮ添加量の影響である。

【図4】Ｓｉ_３Ｎ_４−５ｍａｓｓ％Ｙ_２Ｏ_３−１ｍａｓｓ％ＭｇＯ−４ｍａｓｓ％ＡｌＮ組成に配合したＳｉ_３Ｎ_４系セラミックスの鏡面ＳＥＭ組織に及ぼすＷＯ_３添加の影響である。ＷＯ_３を添加したセラミックス中の白色粒子はＷ_２Ｃ等のＷを含む相である。寸法は、最大でも約１μｍで、多くの粒子は０．２μｍ以下であった。

【図5】図４の各セラミックスのＸ線回折図（ターゲット：ＣｕＫα）である。

【図6】図５の各セラミックスについて、セラミックス全体の量に対するＷＯ_３添加量と、ＷおよびＷ炭化物全体に対するＷ、Ｗ_２Ｃ、ＷＣの重量比率との関係である。図５の組成に加え、ＷＯ_３１０ｍａｓｓ％添加を追記している。

【図7】インコネル７１８の引張り強さに及ぼす測定温度の影響（非特許文献３にある図の一部を改変）である。９８２℃−１ｈの固溶化処理および７１８℃−８ｈの後６２１℃まで炉内冷却し、全時効時間の合計が１８ｈになるように６２１℃に保持する時効をした、直径１２．７ｍｍのインコネル７１８の試験片による。