特許 5917355 レーザ加工方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5917355

(24)【登録日】2016年4月15日

(45)【発行日】2016年5月11日

(54)【発明の名称】レーザ加工方法

(51)【国際特許分類】

   C03B 33/09 20060101AFI20160422BHJP

   C03C 23/00 20060101ALI20160422BHJP

   B23K 26/38 20140101ALI20160422BHJP

   G03F 7/20 20060101ALI20160422BHJP

【ＦＩ】

   C03B33/09

   C03C23/00 D

   B23K26/38 Z

   G03F7/20 505

【請求項の数】1

【全頁数】4

(21)【出願番号】特願2012-216814(P2012-216814)

(22)【出願日】2012年9月28日

(65)【公開番号】特開2014-69986(P2014-69986A)

(43)【公開日】2014年4月21日

【審査請求日】2015年3月23日

(73)【特許権者】

【識別番号】000233332

【氏名又は名称】ビアメカニクス株式会社

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 靖

(72)【発明者】

【氏名】松本 総太

(72)【発明者】

【氏名】川本 晃裕

【審査官】 山崎 直也

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００５／０３４５９４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００６−１１７４７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−２１８５６３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−２６２５３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−３４０９２６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−３２９５１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−３０１５００（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０３Ｂ ２３／００−３５／２６

Ｃ０３Ｃ １５／００−２３／００

Ｂ２３Ｋ ２６／００−２６／７０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

感光性ガラス基体に、エッチングすることによって貫通孔を形成するための微細な潜像を、レーザ光の照射により形成するレーザ加工方法において、
感光性ガラス基体を感光防止フィルムで覆い、
レーザ光によりまず感光防止フィルムに孔を開け、
前記孔の中にレーザ光を照射して感光性ガラス基体を感光して微細な潜像を形成する
ことを特徴とするレーザ加工方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、感光性ガラス基板のレーザ加工方法に係るものである。

【背景技術】

【0002】

近年、微細な貫通孔を有するガラス基板、あるいはガラス部品が、プリント配線基板、インクジェットプリント用ヘッド、あるいはガスフローメーター等に応用されつつあり、特にガラス材料として、感光性ガラスを用いたものが注目されている。感光性ガラスに微細な貫通孔を形成する方法として、例えば、特許文献１に開示されているように、感光性ガラス内部にビームウエストを有する紫外線集光光束を照射して微細な潜像を形成し、エッチングする方法が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第４８４９８０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

感光性ガラスを加工するためには、通常照明においては感光性ガラスが感光してしまうため、特殊な照明室（イエロールーム等）内で加工する必要があった。本発明は、特殊な照明室を用いることなく感光性ガラスを加工できる方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

図４を参照して感光性ガラス基体（１）を感光防止フィルム（２）で覆い、レーザ光によりまず感光防止フィルムに孔（３）を開け、その後その孔の中にレーザ光を照射して感光性ガラス基体を感光させて潜像（４）を形成させればよい。

【0006】

なお、上記カッコ内の符号は、図面と対照するためのものであるが、これにより特許請求の範囲の記載に何等影響を及ぼすものではない。

【発明の効果】

【0007】

通常照明の下であっても、感光性ガラス基体は感光防止フィルムで覆われているので感光性ガラス基体が感光することがないため、加工時のみならず、運搬時や保管時においても取扱い易い、という利点を持つ。また、レーザ光によりまず感光防止フィルムに形成した孔をマスクとして使用することにより、潜像の径をさらに小さくできる。さらに、レーザ光で形成された潜像の位置が、感光防止フィルムに形成した孔があるために、分かりやすくなる、という利点もある。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本発明に係る感光防止の実施の形態を示す平面図である。

【図2】図１のＡ−Ａ断面図である。

【図3】本発明に係る感光防止の実施の形態で加工を行った状態を示す平面図である。

【図4】図３のＢ−Ｂ断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、本発明に好適な実施の形態について図面を用いて説明する。図１は本発明に係る感光防止の様子を示す平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。まず、イエロールーム等の感光性ガラスが感光しない場所で感光性ガラス基体１を感光防止フィルム２で覆う。ここで、感光性ガラス基体１としては、ＨＯＹＡ株式会社製ＰＥＧ３、株式会社アポロリンク製ＬＳ−Ｇ、などを用いることが出来る。また、感光防止フィルム２としては、感光波長を遮断できるフィルムに粘着剤が均一に形成された株式会社ヤマヒラ製ミルクール１９０５や全く光を透過しないアルミ箔、銅箔に粘着剤が均一に形成されたものを使用することができる。ここで、感光性ガラス基体１の覆い方としては、図１及び図２で示した例に限定されるものではないが、感光性ガラス基体１の表面に気泡等が入らないように粘着剤でぴったりと貼ることが必須である。

【0010】

図３は、図１及び図２で示した例にレーザ加工を施した場合の平面図であり、図４は図３のＢ−Ｂ断面図である。まず、集光したレーザビームで感光防止フィルム２に孔を開け、感光性ガラス基体１の表面を暴露する。暴露された感光性ガラス基体１にレーザビームを照射し、感光性ガラス基体１内に潜像を形成する。ここで、感光防止フィルム２に孔を開けるレーザ光と感光性ガラス基体１内に潜像を形成するレーザ光をそれぞれに適した波長にすると効率が向上する場合がある。

【0011】

以後、エッチングにより潜像部分を除去して貫通孔を形成する。

【符号の説明】

【0012】

１ 感光性ガラス基体
２ 感光防止フィルム
３ 孔
４ 感光層

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】