特許 5926596 積層フィルムとその製造方法およびそれを用いた磁気記録テープの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5926596

(24)【登録日】2016年4月28日

(45)【発行日】2016年5月25日

(54)【発明の名称】積層フィルムとその製造方法およびそれを用いた磁気記録テープの製造方法

(51)【国際特許分類】

   B32B 27/36 20060101AFI20160516BHJP

   B29C 47/06 20060101ALI20160516BHJP

   G11B 5/73 20060101ALI20160516BHJP

   G11B 5/78 20060101ALI20160516BHJP

   B29K 33/04 20060101ALN20160516BHJP

   B29L 7/00 20060101ALN20160516BHJP

   B29L 9/00 20060101ALN20160516BHJP

【ＦＩ】

   B32B27/36

   B29C47/06

   G11B5/73

   G11B5/78

   B29K33:04

   B29L7:00

   B29L9:00

【請求項の数】8

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2012-76861(P2012-76861)

(22)【出願日】2012年3月29日

(65)【公開番号】特開2013-203019(P2013-203019A)

(43)【公開日】2013年10月7日

【審査請求日】2014年12月18日

(73)【特許権者】

【識別番号】301020226

【氏名又は名称】帝人デュポンフィルム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100169085

【弁理士】

【氏名又は名称】為山 太郎

(72)【発明者】

【氏名】田中 良敬

(72)【発明者】

【氏名】飯田 真

【審査官】 岸 進

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０００−０８５０４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１８３７１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２１４９６６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−３１８０７９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｇ１１Ｂ ５／６２− ５／８２

Ｂ２９Ｃ４７／００−４７／９６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルＡからなり、厚みが０．５〜４．０μｍの範囲にあるＡ層と、その両面にポリエステル層Ａから剥離が可能である熱可塑性樹脂ＢからなるＢ層とが積層された共押出積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ｂが、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレンもしくはこれらの樹脂の混合物からなる群より選ばれる一種であること、Ｂ層が２層以上からなり、Ａ層と接しない側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ２層）の粒子含有量（ＣＢ２：質量％）と、Ａ層と接する側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ１層）の粒子含有量（ＣＢ１：質量％）の差（ＣＢ２−ＣＢ１）が０．０５質量％以上であること、そしてＢ層を剥離してＡ層を用いる積層フィルム。

【請求項2】

熱可塑性樹脂Ｂのガラス転移温度（ＴｇＢ：℃）が、ポリエステルＡのガラス転移温度（ＴｇＡ：℃）に対して、−２０〜＋３０℃の範囲にある請求項１に記載の積層フィルム。

【請求項3】

Ａ層が、ポリエステルＡのほかに、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる少なくとも１種をＡ層の質量を基準として０．５〜２５重量％の範囲で含有する請求項１または２のいずれかに記載の積層フィルム。

【請求項4】

Ｂ層の厚みが０．５−１０μｍである請求項１〜３のいずれかに記載の積層フィルム。

【請求項5】

Ａ層は、少なくとも一方の表面を形成するポリエステルＡが、粒子を含まないか、含んだとしても粒子径１２０ｎｍ以下の粒子を１０００ｐｐｍ以下の範囲で含有する請求項１〜４のいずれかに記載の積層フィルム。

【請求項6】

請求項１〜５のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法であって、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルＡの両面に熱可塑性樹脂Ｂを溶融状態で積層して未延伸フィルムとし、該未延伸フィルムの幅方向の両端部を把持してポリエステルＡからなるＡ層の厚みが０．５〜４．０μｍの範囲となるように延伸する積層フィルムの製造方法。

【請求項7】

未延伸フィルムが、その幅方向の両端部をポリエステルＡのみからなる単層部とする請求項６記載の積層フィルムの製造方法。

【請求項8】

請求項１〜５のいずれかに記載の積層フィルムからＢ層を剥離し、露出されたＡ層の片面に磁性層を形成する磁気記録テープの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、データストレージなどの磁気記録テープのベースフィルムに用いる積層熱可塑性樹脂フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

ポリエステルフィルムに代表される熱可塑性樹脂フィルムは、比較的安価で、優れた機械的特性を有することから磁気記録テープのベースフィルムに用いられてきた。そして、磁気記録テープのベースフィルムに用いる場合、熱可塑性樹脂フィルムには粗大な突起や欠点がない平坦な表面を有することが求められる。一方、平坦な表面を有するベースフィルムはこれを巻き取る際に、フィルム同士の滑り性が悪い場合にはブロッキングして突起となったり、フィルム間からの層間空気の抜けが悪い場合には残留空気が抜けきらないため巻取り速度が上げられなかったりといった不具合があり、巻取りの歩留り低下や生産性の低下を招き、効率的な製造することができない。これらの問題を解決するためには熱可塑性樹脂フィルムに不活性粒子などの滑剤を含有させて、表面に突起などを形成することが求められ、電磁変換特性との両立を図るために一方の面には小さい粒子を少なく、他方の面には大きな粒子を多めに添加するなどの手法も活用されている。

【0003】

しかしながら、近年の高密度記録の要求はすさまじく、特に記録容量が１巻あたり５ＴＢを超えるようなデータストレージなどの塗布型磁気記録テープでは、前述の特許文献１〜５で表面欠点がないとされたフィルムや特許文献６〜７でウネリが少ないとされたフィルムでも十分に応えられなくなってきた。特に、２層フィルムの片面を粗面化して滑り性および、または層間空気の抜けやすさを確保しようとする場合に、粗面化した面の突起が磁性層面に転写して凹みとなり、磁気記録テープとして使用した時にヘッドとの距離が増大する事によって信号の欠落となることが、高密度記録で記録波長が短くなるにつれて顕著となっている。また、平坦面の側にもある程度の量の粒子を添加しておかないと、フィルム製造工程中のパスロールに張り付いてしまったり、貼り付いた場所を起点にしたスクラッチが発生したりして、磁気記録テープとしたときに表面欠陥となり信号の欠落につながってしまうという問題がある。

【0004】

また、限定されたテープカートリッジの体積の中で記録面積を最大化しようとすると、磁気記録テープ厚みおよび基材となるベースフィルムの厚みを薄くする必要があるが、フィルムの薄膜化によってフィルムのスティフネスが大幅に低下してしまい、フィルム製造工程中での巻取り性を著しく悪化させてしまうという課題もあった。

【0005】

一方、特許文献８では、熱可塑性樹脂からなる第１ポリマー層の少なくとも１層と該熱可塑性樹脂より抵融点でかつ非相溶な熱可塑性樹脂からなる第２ポリマー層の少なくとも１層とが隣接し、さらに最外層の少なくとも１層が第１ポリマー層からなるように積層した多層延伸フィルムが開示され、具体的には第１ポリマー層がポリエステル（Ｅ層）からなり、第２ポリマー層がポリオレフィン（Ｏ層）からなり、Ｅ層／Ｏ層からなる２層フィルム、Ｅ層／Ｏ層／Ｅ層からなる３層フィルム、Ｅ層／Ｏ層／Ｅ層／Ｏ層／Ｅ層からなる５層フィルムが開示され、ポリエステル（Ｅ層）とポリオレフィン（Ｏ層）を剥離してそれぞれ使用することが提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００４−１１４４９２号公報

【特許文献2】特開２００３−２９１２８８号公報

【特許文献3】特開２００２−３６３３１１号公報

【特許文献4】特開２００２−３６３３１０号公報

【特許文献5】特開２００２−０５９５２０号公報

【特許文献6】特開２００１−３４１２６５号公報

【特許文献7】特開２００４−０９１７５３号公報

【特許文献8】特開平１０−６７０８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明の目的は、例えば高記憶容量の塗布型磁気記録テープのベースフィルムに用いたとき、究極的に優れた電磁変換特性およびエラーレート性能、信号欠落の少ない特性を発現できるポリエステルフィルムを低コストで提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究し、ポリエステルフィルムに含有させる粒子、ポリエステルフィルムの層構成や延伸条件などだけでは根本的な解決にならないことから、特許文献８に記載された使用するとき剥離することを試みたところ、薄いポリエステルフィルムの両面に保護層として磁性層塗布加工時に剥離が可能な別の熱可塑性樹脂層を積層させることにより、表面が極めて平坦かつ薄いポリエステルフィルムであっても、フィルム製造工程中でのハンドリング不良による歩留りの低下や、パスロールなどへの張り付きやスクラッチを防止し、例えば記憶容量が５ＴＢ以上であるデータストレージのベースフィルムに用いても信号欠落の少ない優れた大容量の磁気記録テープが得られることを見出し、本発明に到達した。

【0009】

かくして本発明によれば、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルＡからなり、厚みが０．５〜４．０μｍの範囲にあるＡ層と、その両面にポリエステル層Ａから剥離が可能である熱可塑性樹脂ＢからなるＢ層とが積層された共押出積層フィルムであって、熱可塑性樹脂Ｂが、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレンもしくはこれらの樹脂の混合物からなる群より選ばれる一種であること、Ｂ層が２層以上からなり、Ａ層と接しない側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ２層）の粒子含有量（ＣＢ２：質量％）と、Ａ層と接する側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ１層）の粒子含有量（ＣＢ１：質量％）の差（ＣＢ２−ＣＢ１）が０．０５質量％以上であること、そしてＢ層を剥離してＡ層を用いる積層フィルムが提供される。

【0010】

また、本発明の好ましい態様として、熱可塑性樹脂Ｂのガラス転移温度（ＴｇＢ：℃）が、ポリエステルＡのガラス転移温度（ＴｇＡ：℃）に対して、−２０〜＋３０℃の範囲にあること、Ａ層が、ポリエステルＡのほかに、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンからなる群より選ばれる少なくとも１種をＡ層の質量を基準として０．５〜２５重量％の範囲で含有すること、Ｂ層の厚みが０．５−１０μｍであること、Ａ層は、少なくとも一方の表面を形成するポリエステルＡが、粒子を含まないか、含んだとしても粒子径１２０ｎｍ以下の粒子を１０００ｐｐｍ以下の範囲で含有することの少なくともいずれかを具備する積層フィルムも提供される。

【0011】

さらにまた、上記の積層フィルムの製造方法であって、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルＡの両面に熱可塑性樹脂Ｂを溶融状態で積層して未延伸フィルムとし、該未延伸フィルムの幅方向の両端部を把持してポリエステルＡからなるＡ層の厚みが０．５〜４．０μｍの範囲となるように延伸する積層フィルムの製造方法および該未延伸フィルムが、その幅方向の両端部をポリエステルＡのみからなる単層部とする積層フィルムの製造方法も提供され、また本発明の積層フィルムからＢ層を剥離し、露出されたＡ層の片面に磁性層を形成する磁気記録テープの製造方法も提供される。

【発明の効果】

【0012】

本発明の積層フィルムは、積層フィルムの生産性やその後の加工性に優れ、しかも例えば高記憶容量の磁気記録テープに、究極的に優れた電磁変換特性およびエラーレート性能、信号欠落の少ない特性を発現させることができる。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本発明について、詳述する。
＜ポリエステルＡ＞
本発明におけるポリエステルＡは、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましく、特にエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを主たる繰り返し単位とするものが好ましい。ここでいう主たるとは、好ましくは６０モル％以上、さらに７０モル％以上、よりさらに８０モル％以上、特に９０モル％以上を意味する。

【0014】

また、より環境変化に対する寸法安定性を向上させる観点から、国際公開２００８／０９６６１２号パンフレットに記載された６，６’−（エチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分、６，６’−（トリメチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分および６，６’−（ブチレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分などの６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を共重合したものも挙げられる。好ましい（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分の共重合量は、全ジカルボン酸成分のモル数を基準として、５〜４０モル％の範囲である。そのような観点から、エチレンテレフタレートまたはエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートと、エチレン−６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸との合計量が、全繰り返し単位の９０モル％以上であることが好ましい。

【0015】

本発明におけるポリエステルＡは、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有しない場合はο−クロロフェノール中、３５℃において、６，６’−（アルキレンジオキシ）ジ−２−ナフトエ酸成分を含有する場合はＰ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒中、３５℃において、測定したときの固有粘度が０．４０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．４０〜１．０ｄｌ／ｇであることがさらに好ましい。固有粘度が０．４ｄｌ／ｇ未満ではフィルム製膜時に切断が多発したり、成形加工後の製品の強度が不足したりすることがある。一方固有粘度が１．０ｄｌ／ｇを超える場合は重合時の生産性が低下する。

【0016】

本発明におけるポリエステルＡの融点は、２００〜３００℃であることが好ましく、更に好ましくは２１０〜２９０℃、特に好ましくは２２０〜２８０℃である。融点が下限に満たないと積層フィルムの耐熱性が不十分な場合があり、融点が上限を超える場合は溶融混練する際の温度が非常に高温になり、熱劣化などを引き起こしやすくなる。

【0017】

なお、本発明におけるポリエステルＡ、本発明の効果を損なわない範囲で、それ自体公知の他の共重合成分をさらに共重合、例えば繰り返し単位のモル数に対して１０モル％以下、さらに５モル％以下の範囲で共重合していてもよいし、他の熱可塑性樹脂などを、例えば０．５〜２５重量％の範囲でブレンドしても良い。好ましくはポリエステルＡとブレンドすることで、ガラス温度などの耐熱性を高められる、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンなどをブレンドすることが好ましい。

【0018】

＜熱可塑性樹脂Ｂ＞
熱可塑性樹脂Ｂは、ポリエステルＡと共押出しでフィルムに製膜でき、後にポリエステルＡからなるＡ層から剥離できるものであれば特に制限されない。具体的にはポリエステル（例えばポリエステルＡがポリエチレン２，６−ナフタレートの場合にはポリエチレンテレフタレートを、ポリエステルＡがポリエチレンテレフタレートの場合にはポリエチレン−２，６−ナフタレートを熱可塑性樹脂Ｂとすることができる）、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホンもしくはこれらの混合物などを例示できる。これらの中でも、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレンもしくはこれらの樹脂の混合物からなる群より選ばれる一種であることが好ましい。

【0019】

ところで、熱可塑性樹脂Ｂのガラス転移温度（ＴｇＢ：℃）は、ポリエステルＡのガラス転移温度（ＴｇＡ：℃）に対して、−２０〜＋３０℃の範囲にあることが、延伸などでの製膜性と得られたＡ層に高度の機械的特性を付与しやすい点から好ましい。ＴｇＢが下限未満では、延伸時に熱可塑性樹脂Ｂの部分を把持しようとすると、十分な把持を行うのが困難になりやすい。他方ＴｇＢが上限を超えると、延伸時に延伸応力がＡ層に十分働かず、Ａ層の機械的特性を向上させ難くなる。

【0020】

ところで、後述の延伸時に把持される未延伸フィルムの両端部をポリエステルＡからなる単層部とすることで、上記延伸時の把持の問題は回避できる。そのため、両端部を単層部とする場合、ＴｇＢ−ＴｇＡは延伸によるＡ層の機械的特性の向上効果をより大きくすることから、−２０〜−５℃の範囲、さらに−１５〜−８℃の範囲であることが好ましい。一方、両端部を単層部としない場合は、製膜性の点から、ＴｇＢ−ＴｇＡは−５〜３０℃、さらに０〜２５℃の範囲にあることが好ましい。

【0021】

＜Ｂ層＞
本発明におけるＢ層は、Ａ層の両面に積層される層で、前述の熱可塑性樹脂Ｂからなる。Ｂ層の1枚当たりの厚みは、０．５〜１０μｍが好ましい。厚みがこの範囲よりも薄すぎると剥離工程で切断等の発生により剥離することが困難となったり、Ａ層の厚みを薄くしたときに実用上必要なスティフネスを維持する効果が発現しがたくなったりする。また、厚みがこの範囲よりも厚いと、積層体としてフィルム製造工程で巻取る際、巻取り可能な長さに制約がかかり、テープとするときの加工工程で長手方向に取得可能なテープ巻数が減少してしまい、切替えロスの増大が発生する。特に本発明では、Ａ層の両面にＢ層を積層するので、その影響は非常に大きい。Ｂ層１枚当たりのより好ましい厚み範囲は０．７〜８μｍ、更に好ましくは０．９〜６．０μｍ、特に好ましくは１．０〜５．０μｍである。

【0022】

このように、Ｂ層がＡ層の両面に積層されていることから、Ａ層は積層フィルムの表面に晒されず、製造工程でのダメージを完全に避けることが可能になるとともに、Ａ層に、滑り性を付与するために粒子等を添加する必要性がなくなり、磁気テープとしたときに極めて平滑な表面を形成することが可能となり、電磁変換特性に非常に優れた磁気テープとするために極めて有利である。

【0023】

ところで、Ａ層のそれぞれの表面に積層されるＢ層自体が２層以上の積層構造をとることも可能である。この場合、どちらか一方の最表面となる層（Ｂ１層とする）には粒子の添加等を極力行なわず、もう一方の最表面となる層(Ｂ２層とする)にのみ粒子を添加し、Ｂ１層をＡ層に、Ｂ２層をＢ１層のＡ層と接しない側に積層することで、Ａ層へのＢ２層が含有する粒子の形状転写などがＢ１層によって防げることから好ましい。
なお、上記Ｂ２層には、滑り性付与の観点から１種類以上の粒子が含有されていることが好ましいが、それ以外の手法（例えばポリマーブレンドでの相分離による突起形成など）により滑り性が付与可能であれば粒子添加を必ずしも行なわなくてもよい。

【0024】

Ｂ２層に粒子添加を行なう際には、平均粒子径０．０１〜０．５μｍの範囲の粒子を、Ｂ２層に対して０．００１〜０．８重量％の範囲で添加することが好ましい。また、Ｂ１層は、粒子を含まないか、含んだとしても平均粒子径１２０ｎｍ以下の粒子をＢ１層の質量を基準として１０００ｐｐｍ以下で含有することが好ましい。粒子を含有する場合のより好ましい平均粒子径と添加量は、１００ｎｍ以下で８００ｐｐｍ以下、さらに８０ｎｍ以下で５００ｐｐｍ以下である。

【0025】

よりＡ層の表面の平坦性と積層フィルムとしての走行性とを両立しやすい観点から、Ｂ層が２層以上からなり、Ａ層と接しない側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ２層）の粒子含有量（ＣＢ２：質量％）と、Ａ層と接する側のＢ層の表面を形成する層（Ｂ１層）の粒子含有量（ＣＢ１：質量％）の差（ＣＢ２−ＣＢ１）が０．０５質量％以上であることが好ましい。好ましいＣＢ２−ＣＢ１の下限は、０．１質量％である。なお、ＣＢ２−ＣＢ１の上限は特に制限されないが、０．８質量％以下であることが、Ｂ２層に含有される粒子の影響をＡ層に及ぼさない観点から好ましい。

【0026】

＜Ａ層＞
本発明におけるＡ層は、前述のポリエステルＡからなる。Ａ層は、単層であっても２層以上の層からなる積層であってもよい。単層もしくは積層の場合はより平坦にしたい層（例えば磁性層を形成する側の表面で、以下、Ａ１層と称する。）は、粒子を含まないか、含んだとしても平均粒子径が１２０ｎｍ以下の粒子をＡ１層の質量を基準として１０００ｐｐｍ以下で含有することが好ましい。

【0027】

本発明において、Ａ層はフィルム製造工程中では熱可塑性樹脂層Ｂにより保護されているため、粒子の添加がない、あるいはごくわずかであったとしてもフィルム製造工程中で問題が起こることは少ない。ただし、磁気テープとしたときの走行耐久性の観点からＡ層のより平坦にしたい側の表面を形成する層に粒子を添加する必要がある場合は、上記範囲内での添加を行なうことが好ましい。粒子を含有させる場合のより好ましい粒子径と添加量は、平均粒子径が１００ｎｍ以下で８００ｐｐｍ以下、さらに平均粒子径が８０ｎｍ以下で５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
一方、Ａ層が積層の場合におけるＡ１層とは反対側のＡ層の表面を形成するＡ２層は、平均粒子径０．０１〜０．５μｍの範囲の粒子を、Ａ２層に対して０．００１〜０．８重量％の範囲で添加することが好ましい。

【0028】

＜粒子＞
前述のＡ層、Ｂ層、Ａ１層、Ａ２層、Ｂ１層またはＢ２層のいずれかに不活性粒子を含有させる場合、含有させる粒子はもともと粗大粒子を含まないか含有するとしても極めて少ない粒子が好ましい。このような粒度分布がシャープなものにしやすく、一次粒子の状態で存在しやすい粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子などの有機高分子粒子および球状シリカ粒子、シリカと有機高分子の複合体粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましい。これらの中でも、特にシリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、球状シリカ粒子、シリカーアクリルの複合体粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であることが好ましい。もちろん、これらの粒子を含有させる場合は、さらに粗大粒子をなくすため、フィルターでのろ過を行ったり、分散剤で粒子の表面を処理したり、押出機での混練を強化することが好ましい。

【0029】

＜積層フィルム＞
本発明の積層フィルムは、前述の通り、Ａ層の両面にＢ層を積層したものである。本発明の積層フィルムは、最外層（Ｂ層のＡ層と接していない側）の表面の表面粗さは、いずれの表面も表面粗さＲａが４．０ｎｍ以上であることが好ましい。表面粗さＲａがこの範囲未満であると積層フィルムを製造して巻取る工程で滑り性の悪さに起因して歩留りを落とす可能性が高い。より好ましくは４．５ｎｍ以上、更に好ましくは５．０ｎｍ以上、特に好ましくは６．０ｎｍ以上である。なお、表面粗さの上限は特に制限されないが、Ａ層の表面の平坦性に影響を及ぼさない観点から、８ｎｍ以下、さらに７．５ｎｍ以下であることが好ましい。このような表面粗さは、Ｂ層もしくはＢ２層に含有させる粒子の粒径や含有量によって調整できる。

【0030】

本発明の積層フィルムの全体厚みは、３．５〜２０μｍが好ましい。この範囲よりも薄いと、フィルムの腰がないためハンドリングが困難となり、またこの範囲よりも厚いと、一回に巻き取れるフィルムの長さが短くなってしまうため、加工工程での効率上不利となる。より好ましい積層フィルムの全体厚みは４．５〜１８μｍ、さらに５．０〜１６μｍ、特に５．５〜１４μｍである。
本発明の積層フィルムの摩擦係数は、０．９以下であることが好ましい。摩擦係数がこの値を超えるとフィルム同士のブロッキングによってフィルムロールに突起物ができやすくなり巻取りの歩留りが低下してしまう。より好ましい摩擦係数は０．８以下、更に好ましくは０．７以下、特に好ましくは０．６以下である。この摩擦係数は、後述の通り、積層フィルムを２枚用意して、それぞれ異なる側の表面が接するように重ねて測定した値である。

【0031】

＜積層フィルムの製造方法＞
本発明の積層フィルムの製造方法について、以下で説明する。まず、前述のポリエステルＡと熱可塑性樹脂Ｂは、それ自体公知の製造方法で製造できる。そして、ポリエステルＡと、Ａ層の保護層であるＢ層を形成する熱可塑性樹脂Ｂとを用意し、これらを溶融状態でＡ層の両面にＢ層を積層してダイからシート状に共押出する工程、得られたシート状物を冷却固化することで、積層未延伸フィルムとする工程、そして得られた積層未延伸フィルムを製膜方向と幅方向に延伸することで製造できる。溶融状態で押し出す工程での温度は、ポリエステルＡと熱可塑性樹脂Ｂとがそれぞれ未溶融物がなく、過度に樹脂の熱劣化が進まない温度であれば特に制限されず、例えば、それぞれの樹脂の融点（Ｔｍ：℃）ないし（Ｔｍ＋６０）℃の温度で行うことが好ましい。

【0032】

つぎに、冷却については、得られる積層未延伸フィルムの平坦性を維持しつつ、厚み斑も少なくするために、フィルム製膜方向に沿ってダイの下方に設置された回転する冷却ドラムを用い、それにシート状物を密着させて冷却するのが好ましい。つづいて、延伸については、積層未延伸フィルムを、一軸方向（縦方向または横方向）に（ポリエステルＡのガラス転移温度（Ｔｇ＋５）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向と直交する方向に（Ｔｇ＋５）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５倍以上、好ましくは３倍以上の倍率で延伸するのが好ましい。さらに必要に応じて縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。このように延伸したときの全延伸倍率は、面積延伸倍率（縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率）として９倍以上が好ましく、１２〜３５倍がさらに好ましく、１５〜３０倍が特に好ましい。さらにまた、二軸配向フィルムは、（ポリエステルＡの融点（ＴｍＡ：℃）−７０）〜（ＴｍＡ−１０）℃の温度で熱固定することができ、例えば１８０〜２５０℃で熱固定するのが好ましい。熱固定時間は０．１〜６０秒が好ましい。また、前述の延伸は逐次二軸延伸で説明したが、縦方向と横方向に同時に延伸する同時二軸延伸を用いても良い。

【0033】

ところで、前述のとおり、熱可塑性樹脂Ｂのガラス転移温度（ＴｇＢ）がポリエステルＡのガラス転移温度（ＴｇＡ）よりも低い場合、十分にＡ層に延伸を施そうとすると、表面に位置するＢ層が過度に熱を受けた状態での延伸となり、問題となることがある。例えば、積層フィルムの幅方向の両端部をクリップなどで把持して延伸しようとしたときに、Ｂ層が過剰に変形してクリップが緩むなどの問題が挙げられる。そのため、本発明では、ポリエステルＡと熱可塑性樹脂Ｂとを溶融状態でＡ層の両面にＢ層を積層してダイからシート状に共押出する際、幅方向の両端部はポリエステルＡからなる単層としておくことが好ましい。すなわち、フィルムの厚み方向に層構成を見たとき、フィルムの幅方向の中央部はＢ層／Ａ層／Ｂ層の層構成とし、フィルムの幅方向の両端部はＡ層だけの構成とするのが好ましい。このような層構成は、溶融状態で積層する際にＡ層の幅をＢ層の幅よりも狭くすることや、Ａ層とＢ層と積層した後に幅方向の両端部にポリエステルＡを溶融状態で合流させることで製造できる。
また、Ｂ層をＢ１層とＢ２層の積層、またはＡ層をＡ１層またはＡ２層の積層にする場合、Ｂ１層、Ｂ２層、Ａ１層またはＡ２層の樹脂を用意し、Ａ層とＢ層を積層する際に同様に積層すればよく、その際、含有する粒子の組成などが、前述の条件を満足するようにするのが好ましい。

【0034】

＜磁気記録テープおよびその製造方法＞
本発明の積層フィルムは、高密度磁気記録テープ、特にディジタル記録型磁気記録テープのベースフィルムとして好ましく用いられる。そこで、本発明の積層フィルムを用いた磁気記録テープについて、さらに説明する。
まず、本発明の磁気記録テープは、前述の本発明の積層フィルムからＢ層を剥離し、露出したＡ層の表面に磁性層を形成する塗剤を塗布するか、磁性層を形成する強磁性金属薄膜を蒸着することで形成できる。この際、Ａ層がＡ１層とＡ２層からなる場合、Ａ１層の表面に磁性層を形成すればよい。

【0035】

本発明における磁性層は、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉やバリウムフェライトをポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体等のバインダーに均一分散し、その塗液を塗布して形成したものが好ましく挙げられる。そして、前述のとおり、本発明の積層フィルムを使用することで、電磁変換特性やエラーレート性能に極めて優れた塗布型磁気記録テープとすることができる。
なお、塗布型での磁性層は、その厚みが１μｍ以下、さらに０．１〜１μｍとなるように塗布するのが、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録テープとする観点から好ましい。また、必要に応じて、塗布型磁性層の下地層として、微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することも好ましい。

【0036】

また、塗布型での磁性層の表面には、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに他方の表面に、公知のバックコート層を設けてもよい。
前述のとおり、塗布型での磁性層および必要に応じて下地層やバックコート層を設ける際には、本発明の積層フィルムから、保護層であるＢ層を剥離して除去する必要がある。剥離は、加工工程でのパスロールなどでの傷付を防止する観点から、これらの層を形成する直前に行なわれることが好ましい。
このようにして得られる塗布型磁気記録テープは、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ＤＬＴ、Ｓ−ＤＬＴ、ＬＴＯ等のデータ用途の磁気テープとして極めて有用である。

【0037】

また、本発明では、強磁性金属薄膜層を真空蒸着により設けることで蒸着型磁気記録テープとしてもよい。使用する金属薄膜としては公知のものを使用でき、特に限定されない。具体的な金属薄膜としては、鉄、コバルト、ニッケル、またはそれらの合金の強磁性体からなるものが好ましい。金属薄膜層の厚さは１００〜３００ｎｍが好ましい。蒸着型磁気記録テープの場合も、磁性層の反対面にバックコート層が設けられていることが好ましい。該バックコート層としては、微粒子、潤滑剤、有機高分子からなる結合材からなる層を、有機溶媒を用いた溶液の塗布、乾燥により設けることが好ましい。バックコート層の厚さは０．５〜１．５μｍ程度が好ましい。微粒子としてはカーボンブラック、アルミナ等が、潤滑剤としてはシリコーン、フッ素化合物などが、結合材としてはポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましく用いられ、これらに限定されない。
また、蒸着型磁気記録テープの磁性層上に１０ｎｍ程度の厚みのダイヤモンド状カーボン膜をコーティングし、更にその上に潤滑剤塗布により潤滑剤層を設けてもよい。

【実施例】

【0038】

以下に実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明における積層フィルムおよびデータストレージの特性は、下記の方法で測定および評価した。

【0039】

（１）固有粘度
得られたポリエステルの固有粘度は、前述のとおり、ｏ−クロロフェノール、３５℃で測定し、ｏ−クロロフェノールでは均一に溶解するのが困難な場合は、ｐ−クロロフェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン（４０／６０重量比）の混合溶媒を用いて３５℃で測定して求めた。

【0040】

（２）フィルム中の粒子の粒径
プラズマ低温灰化処理法（例えばヤマト科学製、ＰＲ−５０３型）でポリエステルＡまたは熱可塑性樹脂Ｂを除去し、粒子を露出させる。処理条件は、ポリマーは灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて１万倍程度の倍率で粒子を観察し、粒子の画像（粒子によってできる光の濃淡）をイメージアナライザー（例えば、ケンブリッジインストルメント製、ＱＴＭ９００）に結びつけ、観察箇所を変えて少なくとも５，０００個の粒子の面積円相当径（Ｄｉ）を求める。この結果から粒子の粒径分布曲線を作成した。なお、粒子種の同定はＳＥＭ−ＸＭＡ、ＩＣＰによる金属元素の定量分析などを使用して行うことができる。また、添加する不活性粒子の平均粒径は、同様な測定を行って各粒子の粒径を求め、数平均を平均粒径とした。

【0041】

（３）粒子の含有量
（３−１）各層中の粒子の総含有量
積層フィルムからそれぞれ測定したい層を各々１００ｇ程度削り採ってサンプリングし、ポリエステルＡや熱可塑性樹脂Ｂは溶解し、粒子は溶解させない溶媒を選択して、サンプルを溶解した後、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、サンプル重量に対する粒子の比率（重量％）をもって各層中の粒子総含有量とする。

【0042】

（４）フィルムおよび各層の厚み
（４−１）積層フィルム全体の厚みおよびＡ層とＢ層の厚み
ゴミが入らないようにフィルムを１０枚重ね、打点式電子マイクロメータにて厚みを測定し、１枚当たりのフィルム厚みを計算する。なお、Ａ層とＢ層の厚みは、それぞれ積層フィルムから剥離した後、前述の方法で測定した。

【0043】

（４−２）Ａ１層、Ａ２層、Ｂ１層またはＢ２層の厚み
２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ３０００ｎｍ迄の範囲のフィルム中の粒子の内もっとも高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルＡまたは熱可塑性樹脂Ｂの炭素元素の濃度比（Ｍ＋／Ｃ＋）を粒子濃度とし、表面から深さ３０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。そして一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２となる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を求め、これを表層厚さとする。そして、先ほどのＡ層またはＢ層の厚みと表層厚さから、各層の厚みを算出する。
条件は次のとおりである。
（ａ）測定装置：２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）
（ｂ）測定条件
１次イオン種 ：Ｏ^２＋
１次イオン加速電圧：１２ＫＶ
１次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域 ：４００μｍ□
分析領域 ：ゲート３０％
測定真空度 ：０．８Ｐａ（６．０×１０^−３Ｔｏｒｒ）
Ｅ−ＧＵＮ ：０．５ＫＶ−３．０Ａ
なお、表層から深さ３０００ｎｍ迄の範囲にもっとも多く含有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデプスプロファイルを測定し、表層厚さを求めてもよい。

【0044】

（５）表面粗さ（Ｒａ）
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ^２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏＰｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求め、これを表面粗さ（Ｒａ）とした。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を中心面平均粗さ（Ｒａ）とした。

【0045】

（６）巻取り良品率
製品を１ｍ幅で５０００ｍ巻取り、１００本作成し、以下のような欠陥がないものを良品と定義し、その本数を巻取り良品率とした。
欠陥：ブロッキングによる突起が認められるか、シワが発生したもの。

【0046】

（７）剥離性
フィルムを幅１ｃｍ長さ１０ｃｍの短冊状に切り出し、端部両面に粘着テープを貼り手で剥離を行なった。途中で切断せず剥離できたものを剥離可能、それ以外を剥離不能とした。

【0047】

（８）フィルムの静摩擦係数
２枚の積層フィルムを用意し、異なる表面が接するように重ね合せ、下側に固定したガラス板を置き、重ね合せたフィルムの下側（ガラス板と接しているフィルム）のフィルムを低速ロールにて引取り（１０ｃｍ／ｍｉｎ）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方向と逆端）に検出器を固定してフィルム／フィルム間のスタート時の引張力を検出する。なお、そのときに用いるスレッドは重さ２００ｇ、下側面積５０ｃｍ^２のものを使用する。
なお、静摩擦係数（μｓ）は次式より求めた。
μｓ＝（スタート時の引張力ｇ）／（荷重２００ｇ）
フィルムの静摩擦係数が、０．９を超える場合は、極端に滑り性が低下し、フィルムをロール状に巻き取る際、シワや欠陥が出やすくなり好ましくない。

【0048】

（９）磁気テープの作成
各実施例及び比較例で得られた幅１０００ｍｍ、長さ１０００ｍの積層フィルムから一方のＢ層を剥離し、露出したＡ層の表面に、下記組成のバックコート層塗料をダイコータ（加工時の張力：２０ＭＰａ、温度：１２０℃、速度：２００ｍ／分）で、塗布し、乾燥させた後、他方のＢ層を剥離し、露出したＡ層の表面に下記組成の非磁性塗料、磁性塗料をダイコータで同時に膜厚を変えて塗布し、磁気配向させて乾燥させる。さらに、小型テストカレンダ−装置（スチ−ルロール／ナイロンロール、５段）で、温度：７０℃、線圧：２００ｋｇ／ｃｍでカレンダ−処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。上記テ−プを１２．６５ｍｍにスリットし、カセットに組み込み磁気記録テープとした。なお、乾燥後のバックコート層、非磁性層および磁性層の厚みは、それぞれ０．５μｍ、１．２μｍおよび０．１μｍとなるように塗布量を調整した。また、Ａ層がＡ１層とＡ２層からなる場合、Ａ２層の表面にバックコート層を形成した。

【0049】

＜非磁性塗料の組成＞
・酸化鉄粉末 ：８０重量部
・カーボンブラック ：２０重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：１５０重量部
・トルエン ：７５重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜磁性塗料の組成＞
・バリウムフェライト磁性粉末 ：１００重量部
・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ：１０重量部
・ニッポラン２３０４（日本ポリウレタン 製ポリウレタンエラストマ）：１０重量部
・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネート） ： ５重量部
・レシチン ： １重量部
・メチルエチルケトン ：７５重量部
・メチルイソブチルケトン ：７５重量部
・トルエン ：７５重量部
・カーボンブラック ： １重量部
・ラウリン酸 ：１．５重量部
＜バックコート層塗料の組成：＞
カーボンブラック ：５０重量部
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ：６０重量部
イソシアネート化合物 ：１８重量部
（日本ポリウレタン工業社製コロネートＬ）
シリコーンオイル ：０．５重量部
メチルエチルケトン ：２５０重量部
トルエン ：５０重量部

【0050】

（１０）電磁変換特性
電磁変換特性測定には、ヘッドを固定した１／２インチリニアシステムを用いた。記録は、電磁誘導型ヘッド（トラック幅２５μｍ、ギャップ０．１μｍ）を用い、再生はＭＲヘッド（８μｍ）を用いた。ヘッド／テープの相対速度は１０ｍ／秒とし、記録波長０．２μｍの信号を記録し、再生信号をスペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号（波長０．２μｍ）の出力Ｃと、スペクトル全域の積分ノイズＮの比をＣ／Ｎ比とし、比較例２を０ｄＢとした相対値を求め、以下の基準で、評価した。なお、磁気記録テープは上記（９）の条件で製造したものを用いた。
◎ ： ＋２ｄＢ以上
○ ： ＋１ｄＢ以上
△ ： −１ｄＢ以上、＋１ｄＢ未満
× ： −１ｄＢ未満

【0051】

（１１）エラーレート
上記（９）で作製したテープ原反を１２．６５ｍｍ（１／２インチ）幅にスリットし、それをＬＴＯ用のケースに組み込み、磁気記録テープの長さが８５０ｍのデータストレージカートリッジを作成した。このデータストレージを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブを用いて２３℃５０％ＲＨの環境で記録し（記録波長０．５５μｍ）、次に、カートリッジを５０℃、８０％ＲＨ環境下に７日間保存した。カートリッジを１日常温に保存した後、全長の再生を行い、再生時の信号のエラーレートを測定した。エラーレートはドライブから出力されるエラー情報（エラービット数）から次式にて算出する。次の基準で寸法安定性を評価する。
エラーレート＝（エラービット数）／（書き込みビット数）
◎：エラーレートが１．０×１０^−６未満
○：エラーレートが１．０×１０^−６以上、１．０×１０^−４未満
×：エラーレートが１．０×１０^−４以上

【0052】

（１２）ドロップアウト（ＤＯ）
上記（１１）でエラーレートを測定したデータストレージカートリッジを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ５ドライブに装填してデータ信号を１４ＧＢ記録し、それを再生した。平均信号振幅に対して５０％以下の振幅（Ｐ−Ｐ値）の信号をミッシングパルスとし、４個以上連続したミッシングパルスをドロップアウトとして検出した。なお、ドロップアウトは８５０ｍ長１巻を評価し、１ｍ当たりの個数に換算して、下記の基準で判定する。
◎：ドロップアウト ３個／ｍ未満
○：ドロップアウト ３個／ｍ以上、９個／ｍ未満
×：ドロップアウト ９個／ｍ以上

【0053】

［実施例１］
ポリエステルＡとして、平均粒子径８０ｎｍの球状シリカ粒子を０．０５質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン―２，６―ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、粒子を含有しないシンジオタクチックポリスチレン（出光石油化学株式会社製、グレード：１３０ＺＣ）のペレットを用意し、一方、熱可塑性樹脂Ｂ２として前述の粒子を含有しないシンジオタクチックポリスチレンに、平均粒子径２００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有させたシンジオタクチックポリスチレンのペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ｂ２／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ｂ２の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、１２０℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が１３５℃になるように加熱し、延伸倍率４．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１３５℃に加熱されたステンター内に供給し、横方向に４．５倍に延伸（第1段）後、更に１７０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２１０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．５μｍの積層フィルムを得た。得られた積層フィルムから、テープ加工を施す際にＢ１層とＢ２層とを剥ぎ取りながら加工した。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0054】

［実施例２］
ポリエステルＡとして、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン―２，６―ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、粒子を含有しないシンジオタクチックポリスチレン（出光石油化学株式会社製、グレード：１３０ＺＣ）のペレットを用意し、一方、熱可塑性樹脂Ｂ２として前述の粒子を含有しないシンジオタクチックポリスチレンと、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン―２，６―ナフタレートとを重量比２０：８０でブレンドしたものに、平均粒子径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．３０質量％含有させたペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ｂ２／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ｂ２の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例１と同様な操作を繰り返して積層フィルムおよび磁気テープとした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0055】

［実施例３］
ポリエステルＡとして、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、粒子を含有しないポリプロピレン（Ｔｍ：１５２℃、メルトフローレイト：５ｇ／１０分、ホモポリプロピレン）のペレットを用意し、一方、熱可塑性樹脂Ｂ２として前述の粒子を含有しないポリプロピレンに平均粒子径３００ｎｍの球状シリコーン粒子を０．２０質量％含有させたペレットを用意した。
ポリエチレンテレフタレートのペレットを、１７０℃で３時間乾燥し、ポリプロピレンのペレットを８０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃および２１０℃で、Ｂ２／Ｂ１／Ａ／Ｂ１／Ｂ２の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ層のみからなる単層とした。
このようにして得られたエッジ単層部を有する積層未延伸ポリエステルフィルムを、７５℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が９０℃になるように加熱し、延伸倍率４．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１００℃に加熱されたステンター内に供給し、横方向に４．０倍に延伸（第１段）後、更に１５０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、１８０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．５μｍの積層フィルムを得た。さらに、実施例１と同様な操作を繰り返して磁気テープとした。なお、ステンターで幅方向に延伸する際にクリップで把持するのは、前述のエッジ単層部を把持するようにした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0056】

［実施例４］
ポリエステルＡとして、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のポリエーテルイミド（ＰＥＩ）“Ｕｌｔｅｍ１０１０”と固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートとを重量比１５：８５でブレンドした粒子を含有しないペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、平均粒径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有するポリプロピレン（Ｔｍ：１５２℃、メルトフローレイト：５ｇ／１０分、ホモポリプロピレン）のペレットを用意した。
ポリエーテルイミドとポリエチレンテレフタレートをブレンドしたペレットを１７０℃で３時間乾燥し、ポリプロピレンのペレットを８０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃および２１０℃で、Ｂ１／Ａ／Ｂ１の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ層のみからなる単層とした。
このようにして得られたエッジ単層部を有する積層未延伸ポリエステルフィルムを、８５℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が９５℃になるように加熱し、延伸倍率４．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１００℃に加熱されたステンター内に供給し、横方向に４．０倍に延伸（第１段）後、更に１５０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、１８０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．５μｍの積層フィルムを得た。さらに、実施例１と同様な操作を繰り返して磁気テープとした。なお、ステンターで幅方向に延伸する際にクリップで把持するのは、前述のエッジ単層部を把持するようにした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0057】

［実施例５］
ポリエステルＡ１として、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットを、ポリエステルＡ２として、平均粒径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有させた固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートに、平均粒径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．１０質量％含有させたペレットを、熱可塑性樹脂Ｂ２として、固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートに、平均粒径２００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有させたペレットを、用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、４台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ｂ２／Ｂ１／Ａ２／Ａ１／Ｂ１／Ｂ２の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ１層およびＡ２層のみからなる層とした。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例１と同様な操作を繰り返して、積層フィルムとした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0058】

［比較例１］
樹脂Ｂ１および樹脂Ｂ２を用いなかった以外は実施例１と同様な操作を繰り返した。得られた単層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0059】

［比較例２］
ポリエステルＡ１として、平均粒子径８０ｎｍの球状の架橋ポリスチレン粒子を０．１質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットと、ポリエステルＡ２として、平均粒子径３００ｎｍの球状の架橋ポリスチレン粒子を０．２質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、２台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ａ１／Ａ２の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。
このようにして得られたエッジ単層部を有する積層未延伸ポリエステルフィルムを、７５℃に予熱し、上方よりＩＲヒーターにてフィルム表面温度が９０℃になるように加熱し、延伸倍率４．０倍で縦方向（製膜方向）の延伸を行った。続いて、１００℃に加熱されたステンター内に供給し、横方向に４．０倍に延伸（第１段）後、更に１７０℃に加熱されたステンター内に供給して再度横方向に１．２倍に延伸した後、２１０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み４．５μｍの積層フィルムを得た。さらに、実施例１と同様な操作を繰り返して磁気テープとした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0060】

［比較例３］
ポリエステルＡ１として、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットと、ポリエステルＡ２として、平均粒子径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、平均粒径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ａ２／Ａ１／Ｂ１の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ１層およびＡ２のみからなる層とした。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例１と同様な操作を繰り返して、積層フィルムとした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0061】

［比較例４］
ポリエステルＡ１として、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットを、ポリエステルＡ２として、平均粒子径子３００ｎｍの球状の架橋ポリスチレン粒子を０．２質量％含有する固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、粒子を含有しないポリプロピレン（Ｔｍ：１５２℃、メルトフローレイト：５ｇ／１０分、ホモポリプロピレン）に平均粒子径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有させたペレットを用意した。
ポリエチレンテレフタレートのペレットを、１７０℃で３時間乾燥し、ポリプロピレンのペレットを８０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ａ２／Ａ１／Ｂ１の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ１層およびＡ２層のみからなる層とした。
このようにして得られたエッジ単層部を有する積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例３と同様な操作を繰り返して積層フィルムおよび磁気テープとした。なお、ステンターで幅方向に延伸する際にクリップで把持するのは、前述のエッジ単層部を把持するようにした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0062】

［比較例５］
ポリエステルＡ１として、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のポリエーテルイミド（ＰＥＩ）“Ｕｌｔｅｍ１０１０”と固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートとを重量比１５：８５でブレンドしたものに、平均粒径３００ｎｍの球状シリコーン粒子を０．２０質量％含有させたペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ｂ１／Ａ１／Ｂ１の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例１と同様な操作を繰り返して、積層フィルムとした。しかし、Ｂ層の剥離ができなく磁気テープとはしなかった。

【0063】

［比較例６］
ポリエステルＡ１として、粒子を含有しない固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレン−２，６−ナフタレートのペレットを用意した。一方、熱可塑性樹脂Ｂ１として、固有粘度０．６０ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートに、平均粒径１００ｎｍの球状シリカ粒子を０．２０質量％含有させたペレットを用意した。
それぞれのペレットを、１７０℃で３時間乾燥した後、３台の押出機ホッパーにそれぞれ供給し、溶融温度２９５℃で、Ａ１／Ｂ１の順序で、延伸後のそれぞれの層の厚みが表１に示す厚みとなるように積層し、ダイから冷却ドラム上にシート状に共押出し、積層未延伸フィルムを得た。この際、フィルム製膜方向および積層方向に直交する方向、すなわち幅方向の両端部（エッジ部）は、Ａ１層のみからなる層とした。
このようにして得られた積層未延伸ポリエステルフィルムを、実施例１と同様な操作を繰り返して、積層フィルムとした。得られた積層フィルムおよび磁気テープの特性を表１に示す。

【0064】

【表1】

【産業上の利用可能性】

【0065】

本発明の積層フィルムは、磁気記録媒体としたときにエラーやドロップアウトが少なく、かつ優れた電磁変換特性を発現でき、薄膜化による記録容量の大幅向上が可能であることから、高密度磁気記録媒体、特にディジタル記録型磁気記録テープのベースフィルムとして好適に用いることができる。