特許 5929411 塗布膜形成装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5929411

(24)【登録日】2016年5月13日

(45)【発行日】2016年6月8日

(54)【発明の名称】塗布膜形成装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 5/00 20060101AFI20160526BHJP

   B05C 11/00 20060101ALI20160526BHJP

   B05C 13/02 20060101ALI20160526BHJP

【ＦＩ】

   B05C5/00 101

   B05C11/00

   B05C13/02

【請求項の数】6

【全頁数】19

(21)【出願番号】特願2012-74487(P2012-74487)

(22)【出願日】2012年3月28日

(65)【公開番号】特開2013-202519(P2013-202519A)

(43)【公開日】2013年10月7日

【審査請求日】2015年2月19日

(73)【特許権者】

【識別番号】000003193

【氏名又は名称】凸版印刷株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(72)【発明者】

【氏名】甲斐 智洋

(72)【発明者】

【氏名】小谷 雅幸

【審査官】 八板 直人

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１０／１３７４０３（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００８−２０７０８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１１９３９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００９−５１７６８４（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０５Ｃ ５／００−２１／００

Ｂ０５Ｄ １／００− ７／２６

Ｈ０５Ｂ ３３／００−３３／２８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

２以上のパネル領域が主走査方向に並べられるとともに、２以上の前記パネル領域が前記主走査方向と交差する方向である副走査方向に並べられた基板が載置される基板ステージと、
前記主走査方向について互いに異なる位置に配置され、前記基板ステージに向けて切れ目なく塗布液を吐出する２以上のノズルからなるノズル群と、
前記ノズル群に対して前記基板ステージを相対的に前記主走査方向に動かす主走査を行う主走査部と、
前記ノズル群を前記副走査方向に動かす副走査を行う副走査部と、
前記複数のノズルの各々の前記主走査方向における位置を個別に変える位置変更部と、
前記主走査方向に並ぶ複数の前記パネル領域の各々の位置を検出する位置検出部と、
前記位置検出部の検出結果に基づく前記位置変更部の駆動を通じて、少なくとも２つの前記パネル領域の各々の上に相互に異なる前記ノズルを配置し、前記主走査部と前記副走査部とを交互に駆動して、前記主走査部による前記主走査と前記副走査部による前記副走査とを交互に実行する制御部とを備え、
前記パネル領域は、複数の画素が前記副走査方向に並べられて画素列を形成する塗布領域として、前記副走査方向に延びる塗布領域を有し、
前記制御部は、前記副走査部の駆動を通じて、前記主走査方向において各別の前記パネル領域上に配置された前記ノズルの各々に、前記副走査ごとに、前記副走査方向に並ぶ２以上の前記パネル領域の上を通過させ、これら２以上のパネル領域に対して、前記主走査と前記副走査とを交互に実行することを繰り返す
塗布膜形成装置。

【請求項2】

２以上の前記ノズルが支持される１つの支持部材を有し、
前記副走査部は、前記副走査として前記支持部材を前記副走査方向に動かす
請求項１に記載の塗布膜形成装置。

【請求項3】

前記支持部材が、前記主走査方向に延びるガイド部材であり、
前記位置変更部は、前記支持部材に沿って２以上の前記ノズルの各々の主走査方向における位置を変える
請求項２に記載の塗布膜形成装置。

【請求項4】

２以上の前記ノズルが各別に支持される複数の支持部材を有し、
前記複数の支持部材の各々が、前記副走査方向に延びるガイド部材であり、
前記副走査部は、前記副走査として前記複数の支持部材の各々に沿って２以上の前記ノズルの各々を動かす
請求項１に記載の塗布膜形成装置。

【請求項5】

前記位置変更部は、前記複数の支持部材の各々を前記主走査方向に動かすことによって、２以上の前記ノズルの各々の主走査方向における位置を変える
請求項４に記載の塗布膜形成装置。

【請求項6】

前記主走査方向に並ぶ画素の幅情報が前記パネル領域ごとに記憶される記憶部を備え、
前記制御部は、前記記憶部に記憶された幅情報に基づいて２以上の前記ノズルの各々の前記主走査方向における位置を前記副走査ごとに算出し、前記位置変更部の駆動を通じて２以上の前記ノズルの各々の前記主走査方向における位置を前記副走査ごとに変える
請求項１〜５のいずれか一項に記載の塗布膜形成装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示の技術は、基板に向けて液柱状の塗布液を切れ目なく吐出することにより塗布膜を形成する塗布膜形成装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、有機ＥＬ素子における発光層等の機能層を液体から形成する装置の一つとして、インクジェット装置が知られている。インクジェット装置は、インクを微小な液滴として吐出するノズルを備えて、機能層の形成材料が含まれる液滴を機能層が形成される部位に吐出する。しかしながら、インクジェット装置では、微小な液滴が間欠的に吐出されるため、微細な液膜を形成することが可能であるとは言え、インクの乾燥によるノズルの目詰まりが不可避な問題となっている。そこで、例えば特許文献１に記載のように、塗布液を液柱状に切れ目なく吐出するノズルを備えて、該ノズルを基板に対して相対的に移動させながら塗布液を塗布することにより、基板上に塗布膜を形成する塗布膜形成装置が提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２−７５６４０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、上述の塗布膜形成装置では、塗布膜の形成にかかる時間を短縮するために、１つの基板の塗布に際して複数のノズルから塗布液を流し続けることが検討されている。この際に、複数のノズルの各々から流れる塗布液の流量は、流量計や流量制御弁の応答性や精度によって相互に異なる。それゆえに、１つの装置に備えられる複数のノズルの各々の流量を完全に一致させることが難しいため、１つの基板に対して単に複数のノズルから塗布液が吐出されると、１つの基板から製造されるパネル内で塗布膜の膜厚の均一性が低下してしまう。

【0005】

本開示の技術は、このような実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、塗布膜の形成にかかる時間を短縮しつつ、パネルごとの塗布膜の膜厚の均一性が低下することを抑えることの可能な塗布膜形成装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、２以上のパネル領域が主走査方向に並べられるとともに、２以上の前記パネル領域が前記主走査方向と交差する方向である副走査方向に並べられた基板が載置される基板ステージと、前記主走査方向について互いに異なる
位置に配置され、前記基板ステージに向けて切れ目なく塗布液を吐出する２以上のノズルからなるノズル群と、前記ノズル群に対して前記基板ステージを相対的に前記主走査方向に動かす主走査を行う主走査部と、前記ノズル群を前記副走査方向に動かす副走査を行う副走査部と、前記複数のノズルの各々の前記主走査方向における位置を個別に変える位置変更部と、前記主走査方向に並ぶ複数の前記パネル領域の各々の位置を検出する位置検出部と、前記位置検出部の検出結果に基づく前記位置変更部の駆動を通じて、少なくとも２つの前記パネル領域の各々の上に相互に異なる前記ノズルを配置し、前記主走査部と前記副走査部とを交互に駆動して、前記主走査部による前記主走査と前記副走査部による前記副走査とを交互に実行する制御部とを備え、前記パネル領域は、複数の画素が前記副走査方向に並べられて画素列を形成する塗布領域として、前記副走査方向に延びる塗布領域を有し、前記制御部は、前記副走査部の駆動を通じて、前記主走査方向において各別の前記パネル領域上に配置された前記ノズルの各々に、前記副走査ごとに、前記副走査方向に並ぶ２以上の前記パネル領域の上を通過させ、これら２以上のパネル領域に対して、前記主走査と前記副走査とを交互に実行することを繰り返すことを要旨とする。

【0007】

上記の態様によれば、少なくとも２つのパネル領域の上には、各別のノズルが配置される。すなわち、複数のノズルを備えつつも、少なくとも２つのパネル領域に対しては、各々のパネル領域に対して１つのノズルで塗布液の塗布が行われる。したがって、基板上の複数のパネル領域に対して塗布膜を形成する場合であれ、塗布膜の形成にかかる時間を短縮しつつ、パネル領域ごとの塗布膜の膜厚の均一性が低下することを抑えることができる。また、複数のノズルの各々について主走査方向における位置算出と位置変更が行われる。したがって、主走査方向に並ぶ複数のパネル領域間の間隔が互いに異なる場合であっても、複数のノズルの各々を各別のパネル領域の上に配置することができる。

【0008】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、２以上の前記ノズルが支持される１つの支持部材を有し、前記副走査部は、前記副走査として前記支持部材を前記副走査方向に動かすことを要旨とする。

【0009】

上記の態様によれば、複数のノズルが一体に副走査方向に動かされる。すなわち、複数のノズルに対して副走査を行うための機構が１つにまとめられている。したがって、副走査の機構がノズルごとに各別に設けられる構成と比べて、副走査を行うための構成が簡易となる。

【0010】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、前記支持部材が、前記主走査方向に延びるガイド部材であり、前記位置変更部は、前記支持部材に沿って２以上の前記ノズルの各々の主走査方向における位置を変えることを要旨とする。

【0011】

上記の構成によれば、複数のノズルの主走査方向における位置を変えるための部材が１つにまとめられているため、複数のノズルの主走査方向への位置の変更が簡易な構成にて可能となる。

【0012】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、２以上の前記ノズルが各別に支持される複数の支持部材を有し、前記複数の支持部材の各々が、前記副走査方向に延びるガイド部材であり、前記副走査部は、前記副走査として前記複数の支持部材の各々に沿って２以上の前記ノズルの各々を動かすことを要旨とする。

【0013】

上記の態様によれば、複数のノズルの副走査の各々が独立して行われるため、副走査の移動量や副走査の移動速度をノズルごとに異ならせることが可能となる。したがって、主走査方向に並ぶパネル領域の大きさが相互に異なる場合等にも、パネル領域の大きさに合ったノズルの移動で塗布液を塗布することができる。また、副走査を行うための機構が複数のノズルの各々に対応して設けられるため、複数のノズルに対して副走査を行うための機構が１つにまとめられる場合と比較して、こうした機構の単体での重量が軽くなる。その結果、副走査の移動速度を向上させることが可能となるため、塗布膜の生産効率が向上される。

【0014】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、前記位置変更部は、前記複数の支持部材の各々を前記主走査方向に動かすことによって、２以上の前記ノズルの各々の主走査方向における位置を変えることを要旨とする。

【0015】

上記の態様によれば、複数のノズルの主走査方向における位置を変えるための部材が１つにまとめられているため、複数のノズルの主走査方向への位置の変更が簡易な構成にて可能となる。

【0016】

本開示における塗布膜形成装置の一態様は、前記主走査方向に並ぶ画素の幅情報が前記パネル領域ごとに記憶される記憶部を備え、前記制御部は、前記記憶部に記憶された幅情報に基づいて２以上の前記ノズルの各々の前記主走査方向における位置を前記副走査ごとに算出し、前記位置変更部の駆動を通じて２以上の前記ノズルの各々の前記主走査方向における位置を前記副走査ごとに変えることを要旨とする。

【0017】

上記の態様によれば、主走査方向の画素の幅に応じて、複数のノズルの各々における主走査方向の移動量が副走査ごとに互いに異なる状態で、複数のノズルの各々が基板ステージに対して相対的に移動される。したがって、主走査方向における画素の幅が主走査方向に並ぶパネル領域ごとに互いに異なる場合にも、画素ごとに塗布液を塗布することが可能となる。

【発明の効果】

【0018】

本開示の塗布膜形成装置によれば、塗布膜の形成にかかる時間を短縮しつつ、パネルごとの塗布膜の膜厚の均一性が低下することを抑えることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本開示の塗布膜形成装置の第１の実施形態について、塗布膜形成装置の全体構成を示す構成図である。

【図2】同実施形態の塗布膜形成装置について、塗布膜形成装置の電気的構成を示すブロック図である。

【図3】同実施形態の塗布膜形成装置について、ノズルの主走査方向における位置変更の態様を模式的に示す図であって、（ａ）は、ノズルの初期位置における配置を示す端面図、（ｂ）は、ノズルの補正位置における配置を示す端面図である。

【図4】同実施形態の塗布膜形成装置について、塗布液の塗布中の状態を模式的に示す平面図である。

【図5】本開示の塗布膜形成装置の第２の実施形態について、塗布膜形成装置の全体構成を示す構成図である。

【図6】同実施形態の塗布膜形成装置について、塗布膜形成装置の電気的構成を示すブロック図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

（第１の実施形態）
以下、本開示の塗布膜形成装置における第１の実施形態について、図１〜図４を参照して説明する。

【0021】

［装置構成］
まず、本実施形態の塗布膜形成装置の構成について図１を参照して説明する。図１に示される本実施形態の塗布膜形成装置１０は、塗布液が切れ目なく液柱状に吐出されるノズルを基板ステージに対して相対的に移動させて塗布膜を形成する装置であって、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層となる塗布膜を形成する装置である。なお、切れ目のない状態とは、ノズルと基板との間の全体にわたり柱状の塗布液が連なる状態であって、塗布液を塗布する動作のなかで少なくともこうした状態が含まれればよい。

【0022】

図１に示されるように、１つの方向に延びる固定軸である２つのステージガイド１１ａ，１１ｂは、該ステージガイド１１ａ，１１ｂの延びる方向である主走査方向と直交する方向である副走査方向に並設されている。これらステージガイド１１ａ，１１ｂには、基板１３の載置される基板ステージ１２が、ステージガイド１１ａ，１１ｂに沿って主走査方向に往動及び復動可能に連結されている。

【0023】

基板１３は、例えば、ガラス基板等の透光性の基板であって、複数のパネルが切り出されるマザー基板である。基板１３は、その上面に、パネルとなる領域である複数のパネル領域１４ａ〜１４ｆを有している。パネル領域１４ａ〜１４ｆの各々には、副走査方向に延びる赤色用塗布領域と、副走査方向に延びる緑色用塗布領域と、副走査方向に延びる青色用塗布領域とが、この順に繰り返して形成されている。赤色用塗布領域とは、複数の赤色用画素が副走査方向に並べられて画素列を形成する領域であり、緑色用塗布領域とは、緑色用画素が副走査方向に並べられて画素列を形成する領域であり、青色用塗布領域とは、青色用画素が副走査方向に並べられて画素列を形成する領域である。

【0024】

基板１３上において、主走査方向に並ぶ３つのパネル領域からなる１行分のパネル領域は、副走査方向に２つ並べられて、６つのパネル領域１４ａ〜１４ｆは、マトリクス状に配置されている。２行のパネル領域のうち、副走査方向の一方側の行であるパネル領域１４ａ〜１４ｃでは、パネル領域１４ａ〜１４ｃの各々の角部に、位置検出のためのアライメントマーク１４Ｍが設けられている。

【0025】

基板ステージ１２は、ステージモーターＭｓの駆動力を受けて、ステージガイド１１ａ，１１ｂに沿い、ステージガイド１１ａ，１１ｂの両端部の間を往動及び復動する。基板ステージ１２が移動する位置のうち、ステージガイド１１ａ，１１ｂの一端側に設定される塗布準備位置は、塗布液の塗布前の基板１３を基板ステージ１２に載置する等、塗布液を塗布するための準備が行われる位置である。基板ステージ１２が移動する位置のうち、ステージガイド１１ａ，１１ｂの長手方向の両端の中間に設定される塗布開始位置は、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が開始される位置である。基板ステージ１２が移動する位置のうち、ステージガイド１１ａ，１１ｂの他端側に設定される塗布完了位置は、塗布液の塗布が終了した基板１３が回収される等の後処理が行われる位置である。

【0026】

上記塗布準備位置と塗布開始位置との間の領域の上方には、基板１３におけるパネル領域１４ａ〜１４ｆの位置を検出する位置検出部１５が配設されている。位置検出部１５は、例えば、ＣＣＤカメラ等から構成されて、位置検出部１５の下方を通過するアライメントマーク１４Ｍをパネル領域１４ａ〜１４ｆの位置として検出する。

【0027】

上記塗布開始位置の上方には、ノズル部１６が配設されている。ノズル部１６は、主走査方向に延びる固定軸である調整ガイド１７と、調整ガイド１７に連結された副走査方向に延びる可動軸である３つの副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃと、副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃの各々に連結された３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃとから構成される。

【0028】

第１副走査ガイド１８ａは、第１調整モーターＭａ１の駆動力を受けて、調整ガイド１７に沿って主走査方向に往動及び復動する。第２副走査ガイド１８ｂは、第２調整モーターＭａ２の駆動力を受けて、調整ガイド１７に沿って主走査方向に往動及び復動する。第３副走査ガイド１８ｃは、第３調整モーターＭａ３の駆動力を受けて、調整ガイド１７に沿って主走査方向に往動及び復動する。

【0029】

第１ノズル１９ａは、第１副走査モーターＭｂ１の駆動力を受けて、第１副走査ガイド１８ａに沿って副走査方向に往動及び復動する。第２ノズル１９ｂは、第２副走査モーターＭｂ２の駆動力を受けて、第２副走査ガイド１８ｂに沿って副走査方向に往動及び復動する。第３ノズル１９ｃは、第３副走査モーターＭｂ３の駆動力を受けて、第３副走査ガイド１８ｃに沿って副走査方向に往動及び復動する。ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々は、これらのノズルが支持される副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃとともに、主走査方向の互いに異なる位置に配置される。ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの下面の各々には、塗布液を下方に向かって吐出する吐出口が形成されており、塗布液は吐出口から液柱状に切れ目なく吐出される。

【0030】

次に、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃへ塗布液を供給する塗布液の供給系の構成について説明する。
ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々には、同一の加圧タンク２０から、所定の色用の有機発光材料を含む塗布液が供給される。加圧タンク２０では、タンク内に窒素等のガスが送り込まれることにより、タンク内の塗布液が供給口から圧送される。加圧タンク２０の供給口には、脱気タンク２１が接続されている。脱気タンク２１では、塗布液がタンクに一旦溜められて、タンク底部から塗布液が流出される。これにより、タンク内に溜められた塗布液中の気体が液面上に排出されて、塗布液の脱気が行われる。その結果、ノズルに供給される塗布液に気泡が含まれることが抑えられるため、ノズルから吐出される塗布液の性状の安定性を高めることができる。

【0031】

脱気タンク２１には、塗布液の流路を開閉する３つの制御弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃが並列に接続されている。また、制御弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃの各々には、流路を流れる塗布液の流量を計測する流量計２３ａ，２３ｂ，２３ｃがそれぞれ接続されている。これらのうち、第１制御弁２２ａには第１流量計２３ａが接続されており、第１流量計２３ａは第１ノズル１９ａに接続されている。すなわち、加圧タンク２０から第１ノズル１９ａへ供給される塗布液の流量は、第１制御弁２２ａの開閉によって制御されるとともに第１流量計２３ａにて計測される。第１制御弁２２ａの開度は、第１流量計２３ａの計測値に応じて、該第１流量計２３ａの計測値が所定の値となるように制御される。

【0032】

同様に、第２制御弁２２ｂには第２流量計２３ｂが接続されており、第２流量計２３ｂは第２ノズル１９ｂに接続されている。すなわち、加圧タンク２０から第２ノズル１９ｂへ供給される塗布液の流量は、第２制御弁２２ｂの開閉によって制御されるとともに第２流量計２３ｂにて計測される。第２制御弁２２ｂの開度は、第２流量計２３ｂの計測値に応じて、該第２流量計２３ｂの計測値が所定の値となるように制御される。

【0033】

同様に、第３制御弁２２ｃには第３流量計２３ｃが接続されており、第３流量計２３ｃは第３ノズル１９ｃに接続されている。すなわち、加圧タンク２０から第３ノズル１９ｃへ供給される塗布液の流量は、第３制御弁２２ｃの開閉によって制御されるとともに第３流量計２３ｃにて計測される。第３制御弁２２ｃの開度は、第３流量計２３ｃの計測値に応じて、該第３流量計２３ｃの計測値が所定の値となるように制御される。

【0034】

このように、加圧タンク２０から分岐点Ｐ１にて分岐してノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃへ塗布液を供給する流路の各々について、分岐点Ｐ１とノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃとの間に制御弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃと流量計２３ａ，２３ｂ，２３ｃとが設けられている。

【0035】

こうした構成にあって、塗布膜が形成される場合には、まず、基板ステージ１２が、塗布準備位置から塗布開始位置まで往動される。基板ステージ１２が塗布開始位置まで移動すると、副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃが調整ガイド１７に沿って主走査方向に移動して、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが初期位置から補正位置に移動する。補正位置は、位置検出部１５によって検出されたパネル領域１４ａ〜１４ｆの主走査方向の位置から算出される。具体的には、補正位置として、主走査方向に並ぶ３列のパネル領域の各々に塗布を開始するための３つの位置が塗布開始点として設定される。この場合に、補正位置に配置されたノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々は、別々の塗布開始点に配置される。

【0036】

ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々が補正位置に配置されると、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃに沿って副走査方向へ動かされてパネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が開始される。そして、基板ステージ１２が塗布開始位置から塗布完了位置に向けて主走査方向へ所定量動かされる主走査と、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが副走査方向へ動かされる副走査とが交互に繰り返されて、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が行われる。

【0037】

このとき、パネル領域１４ａ，１４ｄにはノズル１９ａによって塗布液が塗布され、パネル領域１４ｂ，１４ｅにはノズル１９ｂによって塗布液が塗布され、パネル領域１４ｃ，１４ｆにはノズル１９ｃによって塗布液が塗布される。すなわち、主走査方向に並ぶパネル領域の各々に対しては各別のノズルにて塗布液が塗布され、副走査方向に並ぶパネル領域に対しては、同一のノズルにて塗布液が塗布される。

【0038】

各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの下方をパネル領域１４ａ，１４ｄ、パネル領域１４ｂ，１４ｅ、パネル領域１４ｃ，１４ｆがそれぞれ通過して、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が終了すると、基板ステージ１２が塗布完了位置まで移動される。そして、塗布完了位置にて上述の後処理が行われ、こうした後処理が終わると、基板ステージ１２は塗布完了位置から塗布準備位置まで復動されて一連の塗布膜の形成工程が繰り返される。

【0039】

［電気的構成］
次に、本実施形態の塗布膜形成装置の電気的な構成について、図２を参照して説明する。塗布膜形成装置は、中央処理装置（ＣＰＵ）、不揮発性メモリー（ＲＯＭ）、及び揮発性メモリー（ＲＡＭ）を有するマイクロコンピューターを中心に構成される制御部３０を備えている。

【0040】

図２に示されるように、制御部３０は、制御部３０に入力される各種の入力信号の入力処理や各駆動部への制御信号の出力処理を行う入出力部３０ａと、塗布を行うための塗布プログラムを解釈して実行する実行部３０ｂと、制御部３０の制御信号に基づいて各種の演算を実行する算出部３０ｃとを備えている。また、制御部３０は、算出部３０ｃの演算結果等を記憶する記憶部３０ｄと、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃに供給される塗布液の流量を制御する流量制御部３２と、基板ステージ１２及びノズル部１６の動作を制御するモーター駆動部３３とを備えている。

【0041】

入出力部３０ａには、各種のボタンやタッチパネル等から構成される操作部４０が接続されている。操作部４０は、基板１３に関する情報である基板情報や塗布条件に関する情報である塗布情報を入出力部３０ａに出力する。

【0042】

基板情報は、基板１３におけるパネル領域１４ａ〜１４ｆの配置、画素列の幅や数、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの塗布前の位置である初期位置等である。塗布情報は、基板ステージ１２の走査量や走査速度、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの走査量や走査速度に関する情報、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃから吐出される塗布液の流量に関する情報等である。

【0043】

また、入出力部３０ａには、位置検出部１５が接続されている。位置検出部１５は、アライメントマーク１４Ｍを検出したか否かを示す検出情報を入出力部３０ａに出力する。
算出部３０ｃは、流量算出部３１ａと、走査量算出部３１ｂと、位置算出部３１ｃとして機能する。流量算出部３１ａとしての機能と、走査量算出部３１ｂとしての機能と、位置算出部３１ｃとしての機能とは、算出部３０ｃにてハードウェアで構成されるが、ソフトウェアで構成することも可能である。

【0044】

流量算出部３１ａは、入出力部３０ａが入力する塗布情報に基づいて、第１制御弁２２ａ，第２制御弁２２ｂ，第３制御弁２２ｃの各々の供給流量の目標値を算出する。
走査量算出部３１ｂは、入出力部３０ａが入力する基板情報と塗布情報とに基づいて、主走査における基板ステージ１２の移動量と、副走査におけるノズル部１６の移動量とを算出する。

【0045】

位置算出部３１ｃは、入出力部３０ａが入力する検出情報とステージモーターＭｓの駆動量とに基づいて、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向における補正位置を算出する。

【0046】

流量制御部３２は、第１ノズル１９ａに供給される塗布液の流量を制御する第１ノズル流量制御部３２ａと、第２ノズル１９ｂに供給される塗布液の流量を制御する第２ノズル流量制御部３２ｂと、第３ノズル１９ｃに供給される塗布液の流量を制御する第３ノズル流量制御部３２ｃとを有している。

【0047】

第１ノズル流量制御部３２ａには、第１制御弁２２ａと第１流量計２３ａとが接続されている。第１ノズル流量制御部３２ａは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、流量算出部３１ａの算出する目標値と第１流量計２３ａから入力される計測値とに基づいて、計測値が目標値となるように、第１制御弁２２ａの駆動量を算出する。第１ノズル流量制御部３２ａは、算出された駆動量に応じた駆動信号を生成してその駆動信号を第１制御弁２２ａへ出力する。第１制御弁２２ａは、駆動信号に応じた開度で弁体を駆動して、第１ノズル１９ａに供給される塗布液の流量を制御する。

【0048】

第２ノズル流量制御部３２ｂには、第２制御弁２２ｂと第２流量計２３ｂとが接続されている。第２ノズル流量制御部３２ｂは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、流量算出部３１ａの算出する目標値と第２流量計２３ｂから入力される計測値とに基づいて、計測値が目標値となるように、第２制御弁２２ｂの駆動量を算出する。第２ノズル流量制御部３２ｂは、算出された駆動量に応じた駆動信号を生成してその駆動信号を第２制御弁２２ｂへ出力する。第２制御弁２２ｂは、駆動信号に応じた開度で弁体を駆動して、第２ノズル１９ｂに供給される塗布液の流量を制御する。

【0049】

第３ノズル流量制御部３２ｃには、第３制御弁２２ｃと第３流量計２３ｃとが接続されている。第３ノズル流量制御部３２ｃは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、流量算出部３１ａの算出する目標値と第３流量計２３ｃから入力される計測値とに基づいて、計測値が目標値となるように、第３制御弁２２ｃの駆動量を算出する。第３ノズル流量制御部３２ｃは、算出された駆動量に応じた駆動信号を生成してその駆動信号を第３制御弁２２ｃへ出力する。第３制御弁２２ｃは、駆動信号に応じた開度で弁体を駆動して、第３ノズル１９ｃに供給される塗布液の流量を制御する。

【0050】

このように、第１ノズル１９ａ，第２ノズル１９ｂ，第３ノズル１９ｃの各々に供給される塗布液の流量は各々が独立して制御される。
モーター駆動部３３は、ステージ駆動部３３ａと、第１ノズル駆動部３３ｂと、第２ノズル駆動部３３ｃと、第３ノズル駆動部３３ｄとを有している。

【0051】

ステージ駆動部３３ａは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流をステージモーターＭｓに出力する。ステージモーターＭｓは、ステージ駆動部３３ａから入力される駆動電流によって駆動されて基板ステージ１２の主走査を行う。

【0052】

第１ノズル駆動部３３ｂは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第１ノズル１９ａの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第１調整モーターＭａ１に出力する。第１調整モーターＭａ１は、第１ノズル駆動部３３ｂから入力される駆動電流によって駆動されて、副走査ガイド１８ａを主走査方向に移動させることにより、第１ノズル１９ａの位置を初期位置から補正位置へ変える。また、第１ノズル駆動部３３ｂは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した第１ノズル１９ａの副走査における移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第１副走査モーターＭｂ１に出力する。第１副走査モーターＭｂ１は、第１ノズル駆動部３３ｂから入力される駆動電流によって駆動されて、第１ノズル１９ａの副走査を行う。

【0053】

第２ノズル駆動部３３ｃは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第２ノズル１９ｂの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第２調整モーターＭａ２に出力する。第２調整モーターＭａ２は、第２ノズル駆動部３３ｃから入力される駆動電流によって駆動されて、副走査ガイド１８ｂを主走査方向に移動させることにより、第２ノズル１９ｂの位置を初期位置から補正位置へ変える。また、第２ノズル駆動部３３ｃは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した第２ノズル１９ｂの副走査における移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第２副走査モーターＭｂ２に出力する。第２副走査モーターＭｂ２は、第２ノズル駆動部３３ｃから入力される駆動電流によって駆動されて、第２ノズル１９ｂの副走査を行う。

【0054】

第３ノズル駆動部３３ｄは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第３ノズル１９ｃの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第３調整モーターＭａ３に出力する。第３調整モーターＭａ３は、第３ノズル駆動部３３ｄから入力される駆動電流によって駆動されて、副走査ガイド１８ｃを主走査方向に移動させることにより、第３ノズル１９ｃの位置を初期位置から補正位置へ変える。また、第３ノズル駆動部３３ｄは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した第３ノズル１９ｃの副走査における移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第３副走査モーターＭｂ３に出力する。第３副走査モーターＭｂ３は、第３ノズル駆動部３３ｄから入力される駆動電流によって駆動されて、第３ノズル１９ｃの副走査を行う。

【0055】

実行部３０ｂは、塗布プログラムに従って、各ノズル駆動部３３ｂ〜３３ｄによる各副走査モーターＭｂ１〜Ｍｂ３の駆動に先駆けて、各ノズル駆動部３３ｂ〜３３ｄによる各調整モーターＭａ１〜Ｍａ３の駆動を実行する。また、実行部３０ｂは、ステージ駆動部３３ａと各ノズル駆動部３３ｂ〜３３ｄとに交互に制御信号を出力し、ステージ駆動部３３ａによる主走査と各ノズル駆動部３３ｂ〜３３ｄによる副走査とを交互に実行する。

【0056】

このように、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃにおける補正位置への位置変更、及び、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃにおける副走査は、ノズルごとに独立して制御される。
なお、本実施形態では、ステージガイド１１ａ，１１ｂとステージモーターＭｓとによって主走査部が構成されている。また、副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃと各副走査モーターＭｂ１，Ｍｂ２，Ｍｂ３とによって副走査部が構成されている。また、調整ガイド１７と各調整モーターＭａ１，Ｍａ２，Ｍａ３とによって位置変更部が構成されている。

【0057】

［動作態様］
次に、上記の塗布膜形成装置の動作の態様を図３，図４を参照して説明する。なお、以下では、各パネル領域１４ａ〜１４ｆには、互いに異なる３色の画素列１４Ｌが主走査方向に順番に繰り返されて形成されている。互いに異なる３色の画素列１４Ｌは同一の幅を有しており、副走査方向に並ぶパネル領域では、同色の画素列１４Ｌが副走査方向に一直線上に並んでいる。

【0058】

なお、図３（ａ）では、初期位置に配置される各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが実線で示され、補正位置に配置される第３ノズル１９ｃが二点鎖線で示されている。また、図３（ｂ）では、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが塗布液の吐出を開始する状態が示され、主走査方向における３列のパネル領域間の隙間の大きさが誇張されている。

【0059】

まず、図３（ａ）に示されるように、実行部３０ｂが塗布プログラムを読み出して実行すると、基板ステージ１２が塗布準備位置から塗布開始位置への移動を開始する。この際に、位置検出部１５は、アライメントマーク１４Ｍを検出するたびに、アライメントマーク１４Ｍを検出したことを示す検出情報を制御部３０に出力する。実行部３０ｂは、位置検出部１５がアライメントマーク１４Ｍを検出するたびに、ステージモーターＭｓの駆動量をモーター駆動部３３から取得する。そして、実行部３０ｂは、基板ステージ１２が塗布開始位置に配置される状態で、パネル領域１４ａ〜１４ｃの各々における最も主走査方向の塗布領域上に各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが配置されるように、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの位置を補正する。すなわち、補正位置では、第１ノズル１９ａがパネル領域１４ａ，１４ｄに対応する塗布開始点の上方に配置され、第２ノズル１９ｂがパネル領域１４ｂ，１４ｅに対応する塗布開始点の上方に配置され、第３ノズル１９ｃがパネル領域１４ｃ，１４ｆに対応する塗布開始点の上方に配置される。

【0060】

例えば、基板情報では、基板１３における走査方向の端が原点として設定され、パネル領域１４ｃの設計上の配置位置が、各アライメントマーク１４Ｍの走査方向における設計位置Ｘ０として設定される。また、塗布情報では、基板ステージ１２が塗布開始位置に配置される状態で第３ノズル１９ｃが設計位置Ｘ０上となる位置が、第３ノズル１９ｃの初期位置Ｘ１として設定される。また、位置検出部１５が基板１３の端部を検出するように設定される。

【0061】

この際に、実行部３０ｂは、基板１３の端部が検出されたときのステージモーターＭｓの駆動量と、パネル領域１４ｃのアライメントマーク１４Ｍが検出されたときのステージモーターＭｓの駆動量とを取得する。次いで、実行部３０ｂは、基板１３の端部からアライメントマーク１４Ｍまでの距離である検出位置ＸｍをステージモーターＭｓの駆動量として算出する。そして、実行部３０ｂは、検出位置と設計位置との差分Ｘｄだけ第３調整モーターＭａ３を駆動させて第３ノズル１９ｃの位置を補正する。

【0062】

次いで、図３（ｂ）に示されるように、副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃが主走査方向に移動されてノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが補正位置に配置されると、基板ステージ１２が塗布開始位置に配置される。結果として、主走査方向における３列のパネル領域１４ａ，１４ｄ、パネル領域１４ｂ，１４ｅ、パネル領域１４ｃ，１４ｆの間の間隔が互いに異なっていたとしても、それぞれのパネル領域の組に対応した塗布開始点の上方に、各別のノズルが配置される。

【0063】

これにより、主走査方向に並ぶ３列のパネル領域に対しては各別のノズルにて塗布液が塗布され、副走査方向に並ぶ２列のパネル領域に対しては、同一のノズルにて塗布液が塗布される。すなわち、複数のパネル領域に対して複数のノズルで塗布液の塗布を行いながらも、１つのパネル領域に対しては１つのノズルで塗布液の塗布が行われることとなる。したがって、塗布膜の形成にかかる時間が短縮されるとともに、１つのパネル領域内において塗布される塗布液の量にばらつきが生じることが抑えられる。その結果、塗布膜の形成にかかる時間を短縮しつつ、パネル領域に形成される塗布膜の膜厚の均一性が低下することを抑えることが可能となる。

【0064】

なお、図４に示されるように、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが補正位置Ｘに位置変更されると、まず、実行部３０ｂは、上述の副走査によって、最も主走査方向の画素列１４Ｌに対する塗布を行う。次いで、実行部３０ｂは、基板情報に含まれる画素幅に基づいて、上述の主走査によって、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃを次に配列されている同色の画素列１４Ｌ上に配置する。これらの走査が繰り返されることにより、パネル領域１４ｃ，１４ｆへの塗布液の塗布が行われる。そして、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが１つのパネル領域に対する塗布を終了すると、基板１３上の全てのパネル領域１４ａ〜１４ｆでは、同色の画素列１４Ｌに対する塗布が終了する。

【0065】

以上説明したように、本実施形態の塗布膜形成装置によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）主走査方向に並ぶ３列のパネル領域の各々に対して各別のノズルによる塗布が行われる。したがって、複数のノズルを備えつつも、１つのパネル領域に対しては１つのノズルで塗布液の塗布が行われるため、基板上の複数のパネル領域に対して塗布膜を形成する場合であれ、塗布膜の形成にかかる時間を短縮しつつ、塗布膜の膜厚の均一性が低下することを抑えることができる。

【0066】

（２）補正位置の算出と補正位置への移動が、３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃに対して別々の駆動機構で行われ、且つ、３つの駆動機構が個別に駆動される。したがって、主走査方向に並ぶパネル領域間の間隔が互いに異なる場合であっても、各々のパネル領域の列に対応する塗布開始点の上方に各別のノズルを配置することができる。

【0067】

（３）３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々が、３つの副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃのそれぞれに連結され、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃに沿った副走査が独立して制御される。このように、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの副走査が独立して行われることにより、各ノズル間で副走査の移動量や移動速度を異ならせることが可能となる。したがって、例えば、大きさの異なるパネル領域が主走査方向に並ぶ場合にも対応して塗布液の塗布を行うことができる。また、副走査を行うための機構が各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃのそれぞれに対応して設けられるため、複数のノズルに対して副走査を行うための機構が１つにまとめられる場合と比較して、こうした機構単体が軽量となる。その結果、副走査の移動速度を向上させることが可能となるため、塗布膜の生産効率が向上される。

【0068】

（４）副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃの各々が調整ガイド１７に沿って移動されることにより、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向への位置の変更が行われる。したがって、副走査ガイド１８ａ，１８ｂ，１８ｃを主走査方向に移動させるためのガイド部材が１つにまとめられているため、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向への位置の変更を可能とする構成が簡易に実現できる。

【0069】

（第２の実施形態）
以下、本開示の塗布膜形成装置における第２の実施形態について、図５〜図６を参照して説明する。なお、第２の実施形態の塗布膜形成装置は、第１の実施形態とは位置変更部の構成が異なり、その他の基本的な構成は第１の実施形態と同様である。そのため、図５〜図６では、位置変更部の構成を詳細に説明し、第１の実施形態と実質的に同一の構成要素にはそれぞれ同一の符号を付して示し、重複する説明は割愛する。

【0070】

［装置構成］
まず、本実施形態の塗布膜形成装置の構成について図５を参照して説明する。
図５に示されるように、ノズル部２６は、副走査方向に延びる固定軸である副走査ガイド２７と、副走査ガイド２７に連結された主走査方向に延びる可動軸である調整ガイド２８と、調整ガイド２８に連結された３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃとから構成される。

【0071】

調整ガイド２８は、副走査モーターＭｂの駆動力を受けて、副走査ガイド２７に沿って副走査方向に往動及び復動する。第１ノズル１９ａは、第１調整モーターＭａ１の駆動力を受けて、調整ガイド２８に沿って主走査方向に往動及び復動する。第２ノズル１９ｂは、第２調整モーターＭａ２の駆動力を受けて、調整ガイド２８に沿って主走査方向に往動及び復動する。第３ノズル１９ｃは、第３調整モーターＭａ３の駆動力を受けて、調整ガイド２８に沿って主走査方向に往動及び復動する。ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々は、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが支持される調整ガイド２８に沿って、主走査方向の互いに異なる位置に配置される。

【0072】

第１の実施形態と同様、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの下面の各々には、塗布液を下方に向かって吐出する吐出口が形成されており、塗布液は吐出口から液柱状に切れ目なく吐出される。また、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃには、加圧タンク２０から分岐点Ｐ１にて分岐してノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃへ連結される流路を通じて塗布液が供給される。分岐点Ｐ１とノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃとの間の流路の各々には、制御弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃと流量計２３ａ，２３ｂ，２３ｃとが設けられている。そして、流量計２３ａ，２３ｂ，２３ｃの計測値が所定の値となるように各々の制御弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃの開度が制御されることにより、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃへ供給される塗布液の流量が制御される。

【0073】

こうした構成にあって、塗布膜が形成される場合には、まず、基板ステージ１２が、塗布準備位置から塗布開始位置まで、所定量ずつ往動される。基板ステージ１２が塗布開始位置まで移動されると、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向における位置が初期位置から補正位置に変えられる。補正位置への位置変更によって、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々が、主走査方向に並ぶ３列のパネル領域１４ａ，１４ｄ、パネル領域１４ｂ，１４ｅ、パネル領域１４ｃ，１４ｆの各々に対応した塗布開始点の上方に配置される。この位置の変更は、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが調整ガイド２８に沿って主走査方向に移動されることにより行われる。

【0074】

ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが補正位置に配置されると、調整ガイド２８が副走査ガイド２７に沿って副走査方向へ動かされることによりノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが一体に副走査方向へ動かされて、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が開始される。そして、基板ステージ１２が塗布開始位置から塗布完了位置に向けて主走査方向へ所定量動かされる主走査と調整ガイド２８が副走査方向へ動かされる副走査とが交互に繰り返されてパネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が行われる。

【0075】

このとき、パネル領域１４ａ，１４ｄにはノズル１９ａによって塗布液が塗布され、パネル領域１４ｂ，１４ｅにはノズル１９ｂによって塗布液が塗布され、パネル領域１４ｃ，１４ｆにはノズル１９ｃによって塗布液が塗布される。

【0076】

各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの下方をパネル領域１４ａ，１４ｄ、パネル領域１４ｂ，１４ｅ、パネル領域１４ｃ，１４ｆがそれぞれ通過して、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が終了すると、基板ステージ１２が塗布完了位置まで移動される。そして、塗布完了位置にて上述の後処理が行われ、こうした後処理が終わると、基板ステージ１２は塗布完了位置から塗布準備位置まで復動されて一連の塗布膜の形成工程が繰り返される。

【0077】

［電気的構成］
次に、本実施形態の塗布膜形成装置の電気的な構成について、図６を参照して説明する。

【0078】

図６に示されるように、本実施形態は、第１の実施形態に対してモーター駆動部３４の構成が異なっている。したがって、以下ではモーター駆動部３４の構成を中心に説明する。

【0079】

モーター駆動部３４は、ステージ駆動部３４ａと、ノズル位置変更部３４ｂと、第１ノズル駆動部３４ｃと第２ノズル駆動部３４ｄと第３ノズル駆動部３４ｅとを有している。
ステージ駆動部３４ａは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流をステージモーターＭｓに出力する。ステージモーターＭｓは、ステージ駆動部３４ａから入力される駆動電流によって駆動されて基板ステージ１２の主走査を行う。

【0080】

ノズル位置変更部３４ｂは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、走査量算出部３１ｂの算出した移動量に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を副走査モーターＭｂに出力する。副走査モーターＭｂは、ノズル位置変更部３４ｂから入力される駆動電流によって駆動されて、調整ガイド２８を副走査方向に移動させる。これにより、調整ガイド２８に支持されるノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが調整ガイド２８とともに副走査方向に動かされて副走査が行われる。

【0081】

第１ノズル駆動部３４ｃは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第１ノズル１９ａの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第１調整モーターＭａ１に出力する。第１調整モーターＭａ１は、第１ノズル駆動部３４ｃから入力される駆動電流によって駆動されて、第１ノズル１９ａを主走査方向に移動させることにより、第１ノズル１９ａの位置を初期位置から補正位置へ変える。

【0082】

第２ノズル駆動部３４ｄは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第２ノズル１９ｂの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第２調整モーターＭａ２に出力する。第２調整モーターＭａ２は、第２ノズル駆動部３４ｄから入力される駆動電流によって駆動されて、第２ノズル１９ｂを主走査方向に移動させることにより、第２ノズル１９ｂの位置を初期位置から補正位置へ変える。

【0083】

第３ノズル駆動部３４ｅは、実行部３０ｂの制御信号に応じて、位置算出部３１ｃの算出した第３ノズル１９ｃの補正位置に基づく駆動電流を生成し、その駆動電流を第３調整モーターＭａ３に出力する。第３調整モーターＭａ３は、第３ノズル駆動部３４ｅから入力される駆動電流によって駆動されて、第３ノズル１９ｃを主走査方向に移動させることにより、第３ノズル１９ｃの位置を初期位置から補正位置へ変える。

【0084】

実行部３０ｂは、ステージ駆動部３４ａとノズル位置変更部３４ｂとに交互に制御信号を出力し、ステージ駆動部３４ａによる主走査とノズル位置変更部３４ｂによる副走査とを交互に実行する。

【0085】

このように、第１ノズル１９ａ，第２ノズル１９ｂ，第３ノズル１９ｃの副走査は一体に制御される。一方、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃにおける補正位置への位置変更はノズルごとに独立して制御される。

【0086】

なお、本実施形態では、ステージガイド１１ａ，１１ｂとステージモーターＭｓとによって主走査部が構成されている。また、副走査ガイド２７と副走査モーターＭｂとによって副走査部が構成されている。また、調整ガイド２８と各調整モーターＭａ１，Ｍａ２，Ｍａ３とによって位置変更部が構成されている。

【0087】

また、本実施形態の塗布膜形成装置も、先の図３にて説明した第１の実施形態の塗布膜形成装置と同様の動作態様によって、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向における位置が初期位置から補正位置に変更される。

【0088】

このように、本実施形態の塗布膜形成装置においても、主走査方向に並ぶ３列のパネル領域に対しては各別のノズルにて塗布液が塗布され、副走査方向に並ぶ２列のパネル領域に対しては、同一のノズルにて塗布液が塗布される。すなわち、複数のパネル領域に対して複数のノズルで塗布液の塗布を行いながらも、１つのパネル領域に対しては１つのノズルで塗布液の塗布が行われることとなる。

【0089】

以上説明したように、本実施形態の塗布膜形成装置によれば、第１の実施形態の（１），（２）の効果に加えて、以下に列挙する効果を得ることができる。
（５）３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが、１つの調整ガイド２８に連結され、調整ガイド２８が副走査方向に動かされることにより、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃを一体として副走査が行われる。すなわち、３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃに対して副走査を行うための機構が１つにまとめられている。したがって、副走査を行うための機構が３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの各々に対して設けられる構成と比べて、副走査を行うための構成が簡易となる。また、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが主走査方向に延びる調整ガイド２８に直接に連結されているため、各々のノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが副走査のためのガイドを介して調整ガイド２８に連結される構成と比べて、ノズル間の間隔についての自由度も高められる。したがって、塗布液の塗布が可能なパネル領域の大きさやパネル領域間の間隔についての自由度が高められる。

【0090】

（６）３つのノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃが調整ガイド２８に沿って移動されることにより、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向への位置の変更が行われる。したがって、各ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃを主走査方向に移動させるための軸が１つにまとめられているため、ノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃの主走査方向への位置の変更を可能とする構成が簡易に実現できる。

【0091】

（他の実施の形態）
なお、上記の各実施形態は、例えば以下のような形態にて実施することもできる。
・１つの基板１３に形成される複数のパネル領域の各々では、主走査方向における画素列の数が互いに異なってもよい。この際に、第１の実施形態であれば、画素列の数が他のパネル領域より少ないパネル領域に対し、副走査が停止されて、同パネル領域用のノズルが基板外で塗布液を流し続けることが好ましい。また、第２の実施形態であれば、こうしたパネル領域の画素列に対して複数回の副走査が行われることが好ましい。

【0092】

画素列の数が他のパネル領域より少ない特定のパネル領域では、その特定のパネル領域上での副走査の機会が他のパネル領域よりも少なくなる。こうした場合には、特定のパネル領域用のノズルに対して塗布液の供給が停止されることで、全てのパネル領域への塗布が可能にもなる。しかしながら、塗布液の供給が一旦停止されたノズルでは、吐出される塗布液の流量を安定させる等の時間が、別途必要になってしまう。この点で、上述の副走査の態様であれば、全てのノズルにおける塗布液の吐出機会の均一化が図られるから、各ノズルにおける吐出の安定性を確保することが容易にもなる。

【0093】

・上記各実施形態では、ノズル１９ａ〜１９ｃの主走査方向における位置変更が、パネル領域１４ａ〜１４ｆへの塗布液の塗布が開始される前にのみ行われるものとした。これに加えて、画素列１４Ｌの幅情報に応じて、副走査ごとにノズル１９ａ〜１９ｃの各々の主走査方向における位置が算出され、１回の副走査が終わるごとに、ノズル１９ａ〜１９ｃの主走査方向における位置変更が行われるようにしてもよい。

【0094】

すなわち、副走査間において、基板ステージ１２の主走査とノズル１９ａ〜１９ｃの主走査方向における位置変更により、ノズル１９ａ〜１９ｃの各々が基板ステージ１２に対して互いに異なる量だけ相対的に移動される。こうした構成によれば、主走査方向に並ぶパネル領域１４ａ，１４ｄとパネル領域１４ｂ，１４ｅとパネル領域１４ｃ，１４ｆとが、それぞれの組ごとに互いに異なる幅の画素列１４Ｌを有している場合にも、全ての画素列１４Ｌに塗布液の塗布が可能となる。このとき、ノズル１９ａ〜１９ｃに供給される塗布液の流量が、ノズルごとに独立して制御されるため、各ノズルにおける塗布液の吐出量を互いに異ならせることができる。

【0095】

・上記各実施形態では、塗布膜形成装置に３つのノズル１９ａ〜１９ｃが備えられ、基板１３には主走査方向に３列のパネル領域が配置されるものとしたが、ノズルの数と主走査方向に並べられるパネル領域の数は、２以上であればよく、互いに異なっていてもよい。要するに、位置検出部１５の検出結果に基づく位置変更部の駆動を通じて、少なくとも２つのパネル領域の各々の上に相互に異なるノズルを配置し、主走査部と副走査部とを交互に駆動する構成であればよい。

【0096】

・上記各実施形態では、基板１３には副走査方向に２列のパネル領域が配置されるものとしたが、副走査方向に並べられるパネル領域は、３列以上であってもよい。

【0097】

・上記各実施形態では、副走査方向に並ぶパネル領域は同一のノズルによって塗布液の塗布が行われるものとしたが、ノズルが副走査方向にも複数配置され、副走査方向に並ぶパネル領域に対する塗布液の塗布が各別のノズルによって行われるようにしてもよい。

【0098】

・上記各実施形態では、ノズル１９ａ〜１９ｃに同一の加圧タンク２０から塗布液が供給されるものとしたが、複数の加圧タンクから塗布液が供給されるようにしてもよい。例えば、ノズル１９ａ〜１９ｃに、各別の加圧タンクから互いに異なる色の発光層用の塗布液が供給されてもよい。

【0099】

・脱気タンク２１は、流量計２３ａ，２３ｂ，２３ｃとノズル１９ａ，１９ｂ，１９ｃとの間の各々に設けるようしてもよい。また、ノズル１９ａ〜１９ｃから吐出される塗布液に含まれる気泡が塗布液の性状に影響を与えない程度であれば、脱気タンク２１を設けなくてもよい。

【0100】

・基板ステージ１２が固定され、ノズル１９ａ〜１９ｃによる副走査と主走査方向への位置変更によって塗布液の塗布が行われるようにしてもよい。
・主走査方向と副走査方向のなす角は、０°以外であれば、９０°でなくてもよい。

【0101】

・上記各実施形態では、有機ＥＬ素子の発光層となる塗布膜を形成したが、これに代えて、有機ＥＬ素子における正孔輸送層等の他の機能層や色変換層等を形成するようにしてもよい。また、有機ＥＬ素子に限らず、例えば、カラーフィルタやＴＦＴ基板の配線等を形成するようにしてもよい。

【符号の説明】

【0102】

Ｍｓ…ステージモーター、Ｍａ１…第１調整モーター、Ｍａ２…第２調整モーター、Ｍａ３…第３調整モーター、Ｍｂ…副走査モーター、Ｍｂ１…第１副走査モーター、Ｍｂ２…第２副走査モーター、Ｍｂ３…第３副走査モーター、１０…塗布膜形成装置、１１ａ，１１ｂ…ステージガイド、１２…基板ステージ、１３…基板、１４ａ〜１４ｆ…パネル領域、１４Ｌ…画素列、１４Ｍ…アライメントマーク、１５…位置検出部、１６，２６…ノズル部、１７，２８…調整ガイド、１８ａ…第１副走査ガイド、１８ｂ…第２副走査ガイド、１８ｃ…第３副走査ガイド、２７…副走査ガイド、１９ａ…第１ノズル、１９ｂ…第２ノズル、１９ｃ…第３ノズル、２０…加圧タンク、２１…脱気タンク、２２ａ…第１制御弁、２２ｂ…第２制御弁、２２ｃ…第３制御弁、２３ａ…第１流量計、２３ｂ…第２流量計、２３ｃ…第３流量計、３０…制御部、３０ａ…入出力部、３０ｂ…実行部、３０ｃ…算出部、３０ｄ…記憶部、３１ａ…流量算出部、３１ｂ…走査量算出部、３１ｃ…位置算出部、３２…流量制御部、３２ａ…第１ノズル流量制御部、３２ｂ…第２ノズル流量制御部、３２ｃ…第３ノズル流量制御部、３３，３４…モーター駆動部、３３ａ，３４ａ…ステージ駆動部、３３ｂ，３４ｃ…第１ノズル駆動部、３３ｃ，３４ｄ…第２ノズル駆動部、３３ｄ，３４ｅ…第３ノズル駆動部、３４ｂ…ノズル位置変更部、４０…操作部。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】