(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
各々同じ方向を向いている第1メカニカルシールと第2メカニカルシールとを備え、動作時には、これら第1メカニカルシールと第2メカニカルシールとの間の領域にパージガスが供給され、かつ動作していない時に当該領域に洗浄用流体が供給可能に構成されたタンデム形のメカニカルシールを備える密封構造であって、
第1メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち、前記領域側である内周面側には、回転環の回転に伴って動圧を発生させることで第1メカニカルシールにおける固定環のシール端面との間に隙間を発生させる第1螺旋形溝が周方向に間隔を空けて複数設けられ、かつ隣り合う第1螺旋形溝のそれぞれの間は、第1螺旋形溝よりも溝深さが浅い第2螺旋形溝により構成されると共に、
第2メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち、前記領域側である外周面側には、回転環の回転に伴って動圧を発生させることで第2メカニカルシールにおける固定環のシール端面との間に隙間を発生させる第3螺旋形溝が周方向に間隔を空けて複数設けられ、かつ隣り合う第3螺旋形溝のそれぞれの間は、第3螺旋形溝よりも溝深さが浅い第4螺旋形溝により構成されることを特徴とする密封構造。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の目的は、簡易な構造で、簡単に洗浄作業を行うことを可能とする密封構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【0006】
すなわち、本発明の密封構造は、
各々同じ方向を向いている第1メカニカルシールと第2メカニカルシールとを備え、動作時には、これら第1メカニカルシールと第2メカニカルシールとの間の領域にパージガスが供給され、かつ動作していない時には当該領域に洗浄用流体が供給可能に構成されたタンデム形のメカニカルシールを備える密封構造であって、
第1メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち、前記領域側である内周面側には、回転環の回転に伴って動圧を発生させることで第1メカニカルシールにおける固定環のシール端面との間に隙間を発生させる第1螺旋形溝が周方向に間隔を空けて複数設けられ、かつ隣り合う第1螺旋形溝のそれぞれの間は、第1螺旋形溝よりも溝深さが浅い第2螺旋形溝により構成されると共に、
第2メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち、前記領域側である外周面側には、回転環の回転に伴って動圧を発生させることで第2メカニカルシールにおける固定環のシール端面との間に隙間を発生させる第3螺旋形溝が周方向に間隔を空けて複数設けられ、かつ隣り合う第3螺旋形溝のそれぞれの間は、第3螺旋形溝よりも溝深さが浅い第4螺旋形溝により構成されることを特徴とする。
【0007】
本発明によれば、第1メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち内周面側は
、第1螺旋形溝と第2螺旋形溝によって構成されている。また、第2メカニカルシールにおける回転環のシール端面のうち外周面側は、第3螺旋形溝と第4螺旋形溝によって構成されている。これにより、第1メカニカルシールと第2メカニカルシールとの間の領域に洗浄用流体を供給することによって、これらの螺旋形溝を介して、各メカニカルシールにおけるシール端面に洗浄用流体を送り込むことが可能となる。従って、メカニカルシールを分解することなく、シール端面の洗浄が可能となる。
【0008】
また、各メカニカルシールには、動圧発生用の溝(第1螺旋形溝及び第3螺旋形溝)だけでなく、それよりも溝深さの浅い溝(第2螺旋形溝及び第4螺旋形溝)が設けられている。そのため、洗浄用流体の排出性を高めることができる。これにより、洗浄時において、洗浄用流体を各メカニカルシールのシール端面に供給し易くすることができる。また、仮に螺旋形溝内に洗浄用流体が残ってしまった場合でも、その後の動作時に回転環が回転することで、直ちに螺旋形溝から洗浄用流体を排出させることができる。
【発明の効果】
【0009】
以上説明したように、本発明によれば、簡易な構造で、簡単に洗浄作業を行うことができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【0012】
(実施例)
図1〜
図5を参照して、本発明の実施例に係る密封構造について説明する。なお、本実施例においては、攪拌機において、撹拌用の撹拌翼を回転させる回転軸と、ハウジングとの間の環状隙間を密封する密封構造を例にして説明する。
【0013】
<密封装置全体>
特に、
図1を参照して、本発明の実施例に係る密封構造の全体構成について説明する。
図1は本発明の実施例に係る密封構造の模式的断面図である。なお、
図1における断面図は、メカニカルシールや回転軸の中心軸線を含む断面図である。また、本実施例に係る密封構造を構成する各種部材については、後述するスプリング140,230及びピン150,250を除き環状の部材である。
【0014】
本実施例に係る密封構造は、攪拌機において、不図示の撹拌翼を回転させる回転軸300と、回転軸300の軸孔を有するハウジング400との間の環状隙間を密封するために設けられる。この密封構造は、設置された状態にある撹拌窯500の上部に設けられる。
図1中、(A)は大気側であり、(B)は撹拌窯500の内部側である。そして、不図示の撹拌翼は、回転軸300における下方に備えられている。
【0015】
本実施例に係る密封構造は、タンデム形のメカニカルシールを備えている。ここで、タンデム形とは、メカニカルシールを2個用いる方式で、シール端面が二つあり、各々のメカニカルシールが同じ方向を向いている構造(回転環、固定環が軸方向に同じ順番で設けられている構造)をいう。本実施例においては、上方側(大気側)に第1メカニカルシール100が設けられ、下方側(窯の内部側)に第2メカニカルシール200が設けられている。
【0016】
また、本実施例においては、回転軸300を保護するために、回転軸300の外周には第1スリーブ310が取り付けられ、更に第1スリーブ310の外周に第2スリーブ320が取り付けられている。そして、これらのスリーブと、撹拌窯500に固定されたハウジング400との間の環状隙間が、第1メカニカルシール100及び第2メカニカルシール200によって密封される。
【0017】
ハウジング400は、ハウジング本体410と、ハウジング本体410と撹拌窯500との間に固定されるフランジ420とを備えている。ハウジング本体410とフランジ420には、それぞれドレイン通路412,421が形成されている。また、ハウジング本体410には、第1メカニカルシール100と第2メカニカルシール200との間の領域Rにパージガスを供給するための供給通路411が形成されている。
【0018】
第1メカニカルシール100は、第1スリーブ310に固定される回転環110と、回転環110に対して摺動自在に設けられ、ハウジング400の内周面に固定されたケース130側に設けられる固定環120と、固定環120を回転環110側に向かって付勢するスプリング140とを備えている。ここで、回転環110は回転軸300に対して回転しないように構成され、固定環120はハウジング400に対して回転しないように構成されている。より具体的には、回転環110は、第2スリーブ320に固定されたピン150によって、第2スリーブ320に対して回転しないように構成されることで、回転軸300に対して回転しないようになっている。また、固定環120は不図示のピンによって、ハウジング本体410に対して回転しないように構成されることで、ハウジング400に対して回転しないようになっている。
【0019】
以上の構成により、回転軸300の回転と共に回転環110が回転し、静止状態にある固定環120と回転する回転環110のシール端面同士が摺動する。また、スプリング140によって、固定環120が回転環110側に付勢されるため、固定環120と回転環110は摺動した状態が保たれる。
【0020】
第2メカニカルシール200は、第1スリーブ310に固定される回転環210と、回転環210に対して摺動自在に設けられ、ハウジング本体410側に設けられる固定環220と、固定環220を回転環210側に向かって付勢するスプリング230及びコンプレッションリング240とを備えている。ここで、回転環210は回転軸300に対して回転しないように構成され、固定環220はハウジング400に対して回転しないように構成されている。より具体的には、回転環210は、第2スリーブ320に固定されたピン250によって、第2スリーブ320に対して回転しないように構成されることで、回転軸300に対して回転しないようになっている。また、固定環220は不図示のピンによって、ハウジング本体410に対して回転しないように構成されることで、ハウジング400に対して回転しないようになっている。
【0021】
以上の構成により、回転軸300の回転と共に回転環210が回転し、静止状態にある
固定環220と回転する回転環210のシール端面同士が摺動する。また、スプリング230及びコンプレッションリング240によって、固定環220が回転環210側に付勢されるため、固定環220と回転環210は摺動した状態が保たれる。
【0022】
なお、密封構造においては、各部材同士を固定するために、ボルトやセットスクリュなどの複数の固定具(不図示)が設けられている。固定具については公知技術であるので、その説明は省略する。更に、密封構造には、各部材同士の隙間を密封するために、複数のOリングOが設けられている。OリングOについても公知技術であるので、その説明は省略する。
【0023】
<回転環>
特に、
図2〜
図5を参照して、本発明の実施例に係る回転環について、より詳細に説明する。
図2は本発明の実施例に係る第1メカニカルシールの回転環におけるシール端面の正面図である。
図3は本発明の実施例に係る第1メカニカルシールの回転環の一部破断断面図である。なお、
図3は回転環の中心軸線を含む面で第1メカニカルシールの回転環の一部を切断した断面図である。
図4は本発明の実施例に係る第2メカニカルシールの回転環におけるシール端面の正面図である。
図5は本発明の実施例に係る第2メカニカルシールの回転環の一部破断断面図である。なお、
図5は回転環の中心軸線を含む面で第2メカニカルシールの回転環の一部を切断した断面図である。
【0024】
まず、
図2及び
図3を参照して、第1メカニカルシール100における回転環110について説明する。この回転環110のシール端面のうち内周面側(領域(R)側)には、第1螺旋形溝111aが周方向に間隔を空けて複数設けられている。これら複数の第1螺旋形溝111aは、回転環110の回転方向Xに向かうにつれて外周面側から内周面側に伸びるように構成されている。また、隣り合う第1螺旋形溝111aのそれぞれの間は、第1螺旋形溝111aよりも溝深さが浅い第2螺旋形溝111bにより構成されている。つまり、回転環110のシール端面のうち内周面側には、第1螺旋形溝111aと第2螺旋形溝111bが交互に設けられている。ここで、第1螺旋形溝111a及び第2螺旋形溝111bは、いずれも外周面側の先端付近においては、外周面側に向かうにつれて幅が徐々に狭くなるように構成されている(
図2参照)。
【0025】
なお、本実施例においては、回転環110の厚みが10mm程度であるのに対して、第1螺旋形溝111aの深さを10μm以上40μm以下程度、第2螺旋形溝111bの深さを2μm以上10μm以下程度に設定している。また、回転環110の内周端面付近には、ピン150が挿入されるスリット112が2箇所に設けられている。
【0026】
次に、
図4及び
図5を参照して、第2メカニカルシール200における回転環210について説明する。この回転環210のシール端面のうち外周面側(領域(R)側)には、第3螺旋形溝211aが周方向に間隔を空けて複数設けられている。これら複数の第3螺旋形溝211aは、回転環210の回転方向Xに向かうにつれて内周面側から外周面側に伸びるように構成されている。また、隣り合う第3螺旋形溝211aのそれぞれの間は、第3螺旋形溝211aよりも溝深さが浅い第4螺旋形溝211bにより構成されている。つまり、回転環210のシール端面のうち外周面側には、第3螺旋形溝211aと第4螺旋形溝211bが交互に設けられている。ここで、第3螺旋形溝211a及び第4螺旋形溝211bは、いずれも内周面側の先端付近においては、内周面側に向かうにつれて幅が徐々に狭くなるように構成されている(
図4参照)。
【0027】
なお、本実施例においては、回転環210の厚みが10mm程度であるのに対して、第3螺旋形溝211aの深さを10μm以上40μm以下程度、第4螺旋形溝211bの深さを2μm以上10μm以下程度に設定している。また、回転環210の内周端面付近に
は、ピン250が挿入されるスリット212が2箇所に設けられている。
【0028】
<動作時のメカニズム>
攪拌機が動作中は、回転軸300と共に、第1メカニカルシール100における回転環110及び第2メカニカルシール200における回転環210が回転する。また、供給通路411から領域R内にパージガス(窒素ガスなど)が供給される。
【0029】
ここで、第1メカニカルシール100における回転環110のシール端面のうち内周面側には、回転環110の回転方向Xに向かうにつれて外周面側から内周面側に伸びるように構成された第1螺旋形溝111aが周方向に間隔を空けて複数設けられている。これにより、回転環110が回転している間、第1螺旋形溝111aに沿って、内周面側から外周面側に向かって流れる気流による動圧が発生する。従って、第1メカニカルシール100における固定環120は、スプリング140による付勢力に抗して、回転環110から離れる方向に移動する。以上により、回転環110が回転している間、回転環110のシール端面と固定環120のシール端面との間には微小な隙間が形成されるため、これらのシール端面の摺動摩耗が抑制される。
【0030】
また、第2メカニカルシール200における回転環210のシール端面のうち外周面側には、回転環210の回転方向Xに向かうにつれて内周面側から外周面側に伸びるように構成された第3螺旋形溝211aが周方向に間隔を空けて複数設けられている。これにより、回転環210が回転している間、第3螺旋形溝211aに沿って、外周面側から内周面側に向かって流れる気流による動圧が発生する。従って、第2メカニカルシール200における固定環220は、スプリング230による付勢力に抗して、回転環210から離れる方向に移動する。以上により、回転環210が回転している間、回転環210のシール端面と固定環220のシール端面との間には微小な隙間が形成されるため、これらのシール端面の摺動摩耗が抑制される。
【0031】
<洗浄>
攪拌機の洗浄について説明する。攪拌機の洗浄は、攪拌機を停止させた状態(回転軸300を静止させた状態)で、洗浄用流体としての洗浄スチームが所定圧力で各部分に吹きかけられることにより行われる。
【0032】
本実施例に係る密封構造部分の洗浄においては、メカニカルシール等を分解することなく洗浄が行われる。すなわち、本実施例においては、ハウジング本体410に形成された供給通路411から上述の領域R内に、所定の圧力で洗浄スチームが供給される。これにより、領域Rに曝された部位だけでなく、各メカニカルシールにおけるシール端面も洗浄される。
【0033】
すなわち、第1メカニカルシール100においては、洗浄スチームが領域R側(内周面側)から第1螺旋形溝111a及び第2螺旋形溝111bを通って外周面側へと供給される。ここで、第1螺旋形溝111a及び第2螺旋形溝111bは、いずれもシール面に対し段差を有しているため、対向する固定環120との間に隙間を有する。従って、洗浄スチームの元の圧力がそれほど高くなくても、第1螺旋形溝111a及び第2螺旋形溝111bが設けられていない外周面側の部位にも洗浄スチームが供給される。以上により、回転環110のシール端面、及び固定環120のシール端面の全体が洗浄される。
【0034】
また、第2メカニカルシール200においては、洗浄スチームが領域R側(外周面側)から第3螺旋形溝211a及び第4螺旋形溝211bを通って内周面側へと供給される。ここで、第3螺旋形溝211a及び第4螺旋形溝211bは、いずれもシール面に対し段差を有しているため、対向する固定環220との間に隙間を有する。従って、洗浄スチー
ムの元の圧力がそれほど高くなくても、第3螺旋形溝211a及び第4螺旋形溝211bが設けられていない内周面側の部位にも洗浄スチームが供給される。以上により、回転環210のシール端面、及び固定環220のシール端面の全体が洗浄される。
【0035】
洗浄後の液体やごみなどは、重力により下方に流れ落ちていき、供給通路411やドレイン通路421から機外に排出される。そして、密封構造部分を洗浄した後に、撹拌窯500の内部も洗浄スチームにより洗浄される。
【0036】
<本実施例に係る密封構造の優れた点>
本実施例に係る密封構造によれば、第1メカニカルシール100における回転環110のシール端面のうち内周面側は、第1螺旋形溝111aと第2螺旋形溝111bによって構成されている。また、第2メカニカルシール200における回転環210のシール端面のうち外周面側は、第3螺旋形溝211aと第4螺旋形溝211bによって構成されている。これにより、第1メカニカルシール100と第2メカニカルシール200との間の領域Rに洗浄用流体(洗浄スチーム)を供給することによって、これらの螺旋形溝を介して、各メカニカルシールにおけるシール端面に洗浄用流体を送り込むことが可能となる。従って、メカニカルシールを分解することなく、シール端面の洗浄が可能となる。
【0037】
また、第1メカニカルシール100及び第2メカニカルシール200には、動圧発生用の螺旋形溝(第1螺旋形溝111a及び第3螺旋形溝211a)だけでなく、それよりも溝深さの浅い螺旋形溝(第2螺旋形溝111b及び第4螺旋形溝211b)が設けられている。そのため、溝部分が洗浄用流体の通路となり、洗浄スチームの排出性を高めることができる。これにより、洗浄時において、洗浄スチームを各メカニカルシールのシール端面に供給し易くすることができる。また、仮に螺旋形溝内に洗浄後の液体が残ってしまった場合でも、その後の動作時に回転環110,210が回転することで、直ちに螺旋形溝から洗浄後の液体を排出させることができる。
【0038】
また、第1メカニカルシール100と第2メカニカルシール200の2つのメカニカルシール間に洗浄用流体を流すため、洗浄用流体の圧力を高く設定することが可能で、より確実にシール面に洗浄用流体を行き渡らせることが可能となる。