特許 5952179 弁構造

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5952179

(24)【登録日】2016年6月17日

(45)【発行日】2016年7月13日

(54)【発明の名称】弁構造

(51)【国際特許分類】

   F16K 31/06 20060101AFI20160630BHJP

   F16K 1/36 20060101ALI20160630BHJP

   F16K 1/42 20060101ALI20160630BHJP

【ＦＩ】

   F16K31/06 305L

   F16K31/06 305M

   F16K1/36 Z

   F16K1/42 G

【請求項の数】1

【全頁数】13

(21)【出願番号】特願2012-275597(P2012-275597)

(22)【出願日】2012年12月18日

(65)【公開番号】特開2014-119057(P2014-119057A)

(43)【公開日】2014年6月30日

【審査請求日】2015年6月22日

(73)【特許権者】

【識別番号】000101879

【氏名又は名称】イーグル工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100085006

【弁理士】

【氏名又は名称】世良 和信

(74)【代理人】

【識別番号】100096873

【弁理士】

【氏名又は名称】金井 廣泰

(74)【代理人】

【識別番号】100106622

【弁理士】

【氏名又は名称】和久田 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100131532

【弁理士】

【氏名又は名称】坂井 浩一郎

(72)【発明者】

【氏名】森 浩一

【審査官】 加藤 昌人

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０９−３０３６０１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｆ１６Ｋ ３１／０６

Ｆ１６Ｋ １／００−１／５４

Ｆ１６Ｋ ７／１２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材の先端に設けられる可撓性の弁体と、
前記弁体によって、弁孔が閉じられたり開かれたりする弁座と、を備える弁構造であって、
前記弁座は、
前記往復動部材が挿通される挿通孔と、
該挿通孔に向かうにつれて凹む傾斜面により構成される座面と、
前記挿通孔と前記座面との間の領域に設けられる前記弁孔と、
前記座面のうち外周面側に偏った位置に、径方向に伸びる溝と、を備えており、
前記弁体は、前記往復動部材の後端側への該往復動部材の移動に伴って、該往復移動部材に引っ張られて前記座面の形状に倣って撓むように変形することで、該座面に対する接触領域が、前記溝が設けられている領域から前記挿通孔側に向かって拡がっていき、該溝が設けられている領域よりも内側に至ることによって弁孔が閉じるように構成されていることを特徴とする弁構造。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、弁構造に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、流量や流量に伴う流体圧力の制御を行うために、ソレノイドバルブが広く利用されている。また、ソレノイドバルブにおいては、コイルへの通電量と流量を比例させるリニアソレノイドを用いたものが知られている。図１７〜図１９を参照して、リニアソレノイドを用いた従来例に係るソレノイドバルブについて説明する。図１７は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。図１８は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。図１９は従来例に係るソレノイドバルブにおけるコイルへの通電量と流量との関係を示すグラフである。

【0003】

この従来例に係るソレノイドバルブにおいては、コイルへの通電量に応じて往復移動するロッド１００の先端面１１０の中央から更に先端方向に突出する弁体部１２０がロッド１００に一体的に設けられている。そして、この弁体部１２０の外周にゴム製のＯリング３００が装着されている。また、弁座２００には、弁孔２１０が設けられている。

【0004】

以上の構成により、コイルに対して通電されていない状態では、ロッド１００の弁体部１２０が弁座２００の弁孔２１０内に入り込み、Ｏリング３００が、ロッド１００の先端面１１０と弁座２００の座面２２０との間に挟まれた状態となっている。これにより、弁孔２１０は弁体部１２０とＯリング３００によって塞がれた状態となる（図１７参照）。そして、コイルに対して通電されると、ロッド１００の先端面１１０が座面２２０から離れる方向にロッド１００が移動していく。これにより、弁孔２１０から弁体部１２０が抜け、かつＯリング３００が座面２２０から離れるため、弁孔２１０が開いた状態となる（図１８参照）。

【0005】

ここで、ゴム製のＯリング３００は、粘着性を有している。また、上記従来例においては、Ｏリング３００は、ロッド１００の先端面１１０と弁座２００の座面２２０との間に挟まれた状態となっている。そのため、弁が閉じた状態から、ロッド１００が移動し始めた直後においては、Ｏリング３００は、座面２２０との粘着により、軸線方向に少し伸びた後に、座面２２０から離れて元の形状に戻るように変形する。なお、図１８中、点線で示すＯリング３００ａは、座面２２０との粘着により、軸線方向に伸びた様子を示している。そのため、図１９中のグラフのＸ部に示すように、通電開始直後において、流体の流量が一瞬高くなるといった現象が生じてしまう。なお、図１９中、Ｌ１は非通電の状態から電流値が増加していく際の様子を示し、Ｌ２は電流値が高い状態から電流値が低減していき非通電になるまでの様子を示している。このグラフから分かるように、同じ電流値でもＬ１とＬ２では流量が異なっている。この流量の差はヒステリシスと呼ばれており、このヒステリシスが大きいほど、ある通電量に対する流量の誤差が大きくなってしまうことが分かる。このヒステリシスが生じる原因の一つとして、上述したＯリング３００の粘着の問題があると考えられている。

【0006】

このように、Ｏリング３００が座面２００に対して粘着してしまうことが、通電開始直後（弁が開き始めた直後）において流量制御を不安定にし、また、ヒステリシスを大きくしてしまい、流量制御の精度を低下させる原因となっている。なお、上記の説明においては、ソレノイドバルブにおける弁構造についての問題を説明したが、駆動源がソレノイド以外のもの（空圧アクチュエータ、油圧アクチュエータ、圧電アクチュエータなど）にお
ける弁構造であっても、同様の問題が起こり得る。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００６−２２６３５２号公報

【特許文献2】実公平３−２９６４５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

本発明の目的は、流量制御の精度の向上を図った弁構造を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。

【0010】

すなわち、本発明の弁構造は、
往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材の先端に設けられる可撓性の弁体と、
前記弁体によって、弁孔が閉じられたり開かれたりする弁座と、を備える弁構造であって、
前記弁座は、
前記往復動部材が挿通される挿通孔と、
該挿通孔に向かうにつれて凹む傾斜面により構成される座面と、
前記挿通孔と前記座面との間の領域に設けられる前記弁孔と、
前記座面のうち外周面側に偏った位置に、径方向に伸びる溝と、を備えており、
前記弁体は、前記往復動部材の後端側への該往復動部材の移動に伴って、該往復移動部材に引っ張られて前記座面の形状に倣って撓むように変形することで、該座面に対する接触領域が、前記溝が設けられている領域から前記挿通孔側に向かって拡がっていき、該溝が設けられている領域よりも内側に至ることによって弁孔が閉じるように構成されていることを特徴とする。

【0011】

本発明によれば、往復動部材が後端側に移動していくと、弁体が座面の形状に倣って撓むように変形し、弁体の座面に対する接触領域が、溝が設けられている領域よりも内側に至った状態では、弁孔が閉じた状態となる。つまり、弁が閉じた状態となる。そして、往復動部材が先端側に移動していくと、撓んだ状態で座面に着座していた弁体が、元の形状に戻るように変形していく。そして、弁体の座面に対する接触領域が、溝が設けられている領域内にまで縮小すると、溝を介して、流体が流れていく。つまり、弁が開いた状態となる。

【0012】

このように、本発明においては、弁体が（挿通孔に向かうにつれて凹む傾斜面により構成される）座面の形状に倣って撓むように変形することで弁が閉じ、撓んだ状態から元の形状に戻るように変形することで弁が開くように構成されている。そして、弁体が元の形状に戻るように変形する過程で、弁体は座面から楔状に離れていくため、仮に弁体が座面に粘着していたとしても、弁体は座面から容易に剥がされていく。従って、従来例のＯリングの場合のように両側から圧縮された状態から座面から離れるのに比べて、本発明における弁体の方が座面から離れ易い。従って、従来技術のように、弁が開き始めた直後において、流体制御が不安定になってしまうことはない。また、本発明においては、上記の通り、弁体が座面から離れ易いことからヒステリシスによる流量制御の誤差も少なくすることができる。

【発明の効果】

【0013】

以上説明したように、本発明によれば、流量制御の精度の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】図１は本発明の実施例に係るソレノイドバルブの模式的断面図である。

【図2】図２は本発明の実施例に係るバルブ部の斜視図の一部である。

【図3】図３は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が全開した状態を示す模式的断面図である。

【図4】図４は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、弁が全開した状態における座面と弁体との位置関係を示す図である。

【図5】図５は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が少し開いた状態を示す模式的断面図である。

【図6】図６は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、弁が少し開いた状態における座面と弁体との位置関係を示す図である。

【図7】図７は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。

【図8】図８は本発明の実施例に係るソレノイドバルブにおいて、弁が閉じた状態における座面と弁体との位置関係を示す図である。

【図9】図９は本発明の実施例に係る弁体の変形例１を示す模式的断面図である。

【図10】図１０は本発明の実施例に係る弁体の変形例２を示す模式的断面図である。

【図11】図１１は本発明の実施例に係る弁体の変形例３を示す平面図である。

【図12】図１２は本発明の実施例に係る弁体の変形例３を示す模式的断面図である。

【図13】図１３は本発明の実施例に係る弁体の変形例４を示す平面図である。

【図14】図１４は本発明の実施例に係る弁体の変形例４を示す模式的断面図である。

【図15】図１５は本発明の実施例に係る弁体の変形例５を示す平面図である。

【図16】図１６は本発明の実施例に係る弁体の変形例６を示す平面図である。

【図17】図１７は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。

【図18】図１８は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。

【図19】図１９は従来例に係るソレノイドバルブにおけるコイルへの通電量と流量との関係を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。なお、以下の説明においては、弁構造が適用される装置の一例として、ソレノイドバルブの場合を例にして説明する。

【0016】

（実施例）
図１〜図８を参照して、本発明の実施例に係るソレノイドバルブについて説明する。

【0017】

＜ソレノイドバルブの全体構成＞
図１を参照して、本発明の実施例に係るソレノイドバルブの全体構成を説明する。ソレノイドバルブＳＶは、往復動用のアクチュエータであるソレノイド部Ｓと、弁構造としてのバルブ部Ｖと、これらソレノイド部Ｓとバルブ部Ｖを構成する各種部材を収容するハウジング部Ｈとから構成される。

【0018】

ソレノイド部Ｓは、ボビン１１と、ボビン１１に巻かれ、通電により磁界を発生するコイル１２と、コイル１２によって発生した磁界により磁気回路が形成されることでセンターポスト１４に磁気的に吸引されるプランジャ１３と、プランジャ１３の先端に固定される往復動部材としてのロッド１３ａとを備えている。また、ソレノイド部Ｓは、上記の磁気回路を形成するべく、いずれも磁性部材からなる一対のプレート１５ａ，１５ｂ及びケース１５ｃも備えている。また、ソレノイド部Ｓは、プランジャ１３をセンターポスト１４から離れる方向に付勢する第１スプリング１６ａ及び第２スプリング１６ｄと、第１スプリング１６ａを受けるスプリング受け１６ｂと、スプリング受け１６ｂの位置調整を行うアジャストスクリュ１６ｃとを備えている。更に、ソレノイド部Ｓは、コイル１２に電気的に接続された端子１７も備えている。

【0019】

ハウジング部Ｈは、ソレノイド部Ｓとバルブ部Ｖを構成する各種部材を収容するハウジング本体２１と、ハウジング本体２１に固定されるカバー２２とから構成される。ハウジング本体２１には、元圧側から流体を流入させるための入力ポート部２１ａと、出力側（制御圧側）に流体を排出させるための出力ポート部２１ｂが設けられている。また、ハウジング本体２１には、外部電源からの電気供給を得るために電気的な接続を行うためのコネクタ部２１ｃも設けられている。また、ハウジング本体２１とカバー２２との間には、シールリング７２が設けられている。

【0020】

バルブ部Ｖは、ロッド１３ａの先端に設けられる可撓性の弁体３０と、弁体３０によって弁の開閉がなされる弁座４０とを備えている。また、バルブ部Ｖは、弁座４０を位置決めするためのスペーサリング６０と、弁座４０の外周面とハウジング本体２１の内周面との間の隙間を封止するシールリング７１とを備えている。

【0021】

なお、上述した第１スプリング１６ａと第２スプリング１６ｄによる付勢力と、コイル１２への通電量による磁力とのバランスによって、所望の流量（又は流量に伴う流体圧力）の制御がなされるように、アジャストスクリュ１６ｃにより、スプリング受け１６ｂの位置の調整がなされる。

【0022】

＜バルブ部（弁構造）＞
＜＜バルブ部の構成＞＞
特に、図２〜図８を参照して、バルブ部Ｖの構成について、より詳細に説明する。バルブ部Ｖは、上記の通り、弁体３０と、弁座４０とを備えている。

【0023】

弁体３０は、円板状の部材で構成されており、可撓性を有する材料により構成されている。なお、可撓性を有する材料としては、フッ素樹脂などの樹脂や、金属などを挙げることができる。この弁体３０は、その中央部分がロッド１３ａの先端に固定されている。

【0024】

弁座４０は、その中央に、ロッド１３ａが挿通される挿通孔４１を備えている。この挿通孔４１の中心軸線は、プランジャ１３，ロッド１３ａ、及び弁体３０の中心軸線と一致するように設けられている。なお、挿通孔４１の内周面にはロッド１３ａの軸受１３ｂが設けられている。そして、弁座４０におけるプランジャ１３とは反対側に座面４３が設けられている。この座面４３は、挿通孔４１に向かうにつれて凹む（つまり中央に向かうにつれて凹む）傾斜面により構成されている。また、弁座４０には、挿通孔４１と座面４３との間の領域に複数の弁孔４２が設けられている。より具体的には、挿通孔４１の周囲に、周方向に間隔を空けて複数の弁孔４２が設けられている。更に、弁座４０には、座面４３のうち外周面側に偏った位置に、径方向に伸び、かつ周方向に間隔を空けて設けられる複数の溝４４が備えられている。これら複数の溝４４は、外周面側から中央に向かうにつれて溝の深さが徐々に浅くなるように構成されている。なお、本実施例においては、これ
ら複数の溝４４は外周面に至る位置まで伸びるように設けられている。

【0025】

＜＜バルブ部のメカニズム＞＞
特に、図３〜図８を参照して、バルブ部Ｖのメカニズムについて説明する。

【0026】

ソレノイド部Ｓのコイル１２に対して通電されていない状態では、磁力は発生しておらず、第１スプリング１６ａと第２スプリング１６ｄによる付勢力によって、プランジャ１３は、センターポスト１４から離れる方向に移動している。これにより、図３に示すように、弁体３０は、ほぼ自然状態（撓んでいない状態）で弁座４０の座面４３に着座した状態となる。図４はこの状態における座面４３と弁体３０との位置関係を示している。図示のように、弁体３０が、ほぼ自然状態で座面４３に着座した状態においては、弁体３０の外周面付近が座面４３に接触するように構成されている。図４中、Ｒに示す領域が、弁体３０が座面４３に対して接触する領域である。図示のように、弁体３０が座面４３に対して接触する領域Ｒは、複数の溝４４が設けられている領域上にある。従って、複数の溝４４を介して、入力ポート部２１ａから出力ポート部２１ｂへと至る流路が形成された状態となる。従って、入力ポート部２１ａから流入された流体は、複数の溝４４を介して出力ポート部２１ｂから排出される（図３中矢印Ａ参照）。なお、弁座４０には、弁孔４２から排出される流体を出力ポート部２１ｂ側に向けて排出可能とする孔部４５が設けられている。また、図４中の矢印は、複数の溝４４を介して、流体が弁孔４２に向かって流れていく様子を示している。

【0027】

そして、ソレノイド部Ｓのコイル１２に対して通電が開始されると、磁気吸引力によって、第１スプリング１６ａと第２スプリング１６ｄによる付勢力に抗して、プランジャ１３はセンターポスト１４に向かって移動を開始する。これに伴って、プランジャ１３の先端に設けられたロッド１３ａもセンターポスト１４に向かって移動していく。これにより、ロッド１３ａの先端に固定された弁体３０は、その中央付近がセンターポスト１４側に引っ張られるため、弁体３０は座面４３の形状に倣って撓むように変形していく（図５参照）。そして、このような弁体３０の変形が進むにつれて、弁体３０が座面４３に対して接触する領域Ｒは、複数の溝４４が設けられている領域から挿通孔４１側に向かって拡がっていく（図６参照）。ここで、上記の通り、複数の溝４４は、外周面側から中央に向かうにつれて溝の深さが徐々に浅くなるように構成されている。従って、弁体３０が座面４３に対して接触する領域Ｒが、挿通孔４１側に向かって拡がっていくにつれて、溝４４の部分における流路の断面積は徐々に狭くなっていく。

【0028】

弁体３０の変形が更に進むことで、弁体３０の座面４３に対する接触領域Ｒは、複数の溝４４が設けられている領域よりも内側に至る（図８参照）。これにより、複数の弁孔４２が設けられている領域の外周側に、弁体３０と座面４３との環状の接触領域が形成されるため、入力ポート部２１ａから出力ポート部２１ｂへと至る流路は遮断された状態となる（図７参照）。これにより、弁が閉じた状態となる。

【0029】

そして、弁が閉じた状態から、コイル１２への通電量を減らしていくと、撓んだ状態で座面４３に着座していた弁体３０は、元の形状に戻るように変形していく。そして、弁体３０の座面４３に対する接触領域Ｒが、複数の溝４４が設けられている領域内にまで縮小すると、複数の溝４４を介して、流体が流れていく。つまり、弁が開いた状態となる。

【0030】

＜本実施例に係るソレノイドバルブの優れた点＞
本実施例に係るソレノイドバルブＳＶにおいては、弁体３０が（挿通孔４１に向かうにつれて凹む傾斜面により構成される）座面４３の形状に倣って撓むように変形することで弁が閉じ、撓んだ状態から元の形状に戻るように変形することで弁が開くように構成されている。そして、弁体３０が元の形状に戻るように変形する過程で、弁体３０は座面４３
から楔状に離れていくため、仮に弁体３０が座面４３に粘着していたとしても、弁体３０は座面４３から容易に剥がされていく。従って、従来例のＯリングの場合のように両側から圧縮された状態から座面から離れるのに比べて、本実施例に係る弁体３０の方が座面４３から離れ易い。また、本実施例においては、通電量を減らしていく過程で、弁が開くように構成されている。

【0031】

以上のことから、従来技術のように、通電開始直後（弁が開き始めた直後）において、流体制御が不安定になってしまうことはない。また、本実施例においては、上記の通り、弁体３０が座面４３から離れ易いことからヒステリシスによる流量制御の誤差も少なくすることができる。また、従来例のＯリングの場合には、プランジャが往復移動する毎に粘着状態が異なってしまい、流量特性にバラツキが生じるのに対して、本実施例に係るソレノイドバルブＳＶの場合には、そのような問題が解消され、流量特性を安定させることができる。

【0032】

そして、本実施例に係るソレノイドバルブＳＶにおいては、上記の通り、弁体３０が撓んだ状態から元の形状に戻る過程で、弁体３０は座面４３に接触したままの状態で、複数の溝４４を通って流体が流れていく。つまり、弁体３０が撓んだ状態から元の形状に戻る過程で、弁体３０の座面４３に対する接触領域は、外周面側へと拡がっていく。ここで、本実施例では、上記の通り、複数の溝４４は、外周面側から中央に向かうにつれて溝の深さが徐々に浅くなるように構成されている。従って、弁体３０の座面４３に対する接触領域が外周面側へ拡がるにつれて、溝４４の部分における流路の断面積は徐々に広くなっていく。これにより、弁体３０が撓んだ状態から元の形状に戻る過程で、流体が流れる流路の断面積が急に広くなってしまわないようにしている。なお、溝４４の長さや幅や深さなどの大きさや、数の設定によって、コイル１２への通電量に対する流量の変化をリニアにすることができ、かつ最大流量を調整することができる。

【0033】

（その他）
上述した弁体３０の材料としてフッ素樹脂を採用し、弁座４０の材料としてステンレス鋼を採用すると、弁体３０と弁座４０の座面４３との間の固着作用を低減することができ、弁体３０と座面４３との粘着を効果的に抑制できる。また、上記実施例においては、コイル１２に通電されていない状態においても、弁体３０の外周面付近が座面４３に接触するように構成される場合を示したが、コイル１２に通電されていない状態では、弁体３０が座面４３から離れるように構成してもよい。この場合には、通電量が増えていく過程で、弁体３０が座面４３に着座し、その後、弁体３０が座面４３の形状に倣って撓むように変形していく。

【0034】

また、プランジャ１３やロッド１３ａや軸受１３ｂなどの摺動部材の摺動面に、公知の表面処理（ＰＴＦＥ焼き付けなど）を行って、摺動面の低摩擦化を行うことにより、より一層、ヒステリシスを低減させることが可能となる。更に、軸受として、磁気軸受を採用し、非接触式の軸受構造とすれば、より一層、ヒステリシスを低減させることが可能となる。

【0035】

また、上記実施例においては、弁座４０における挿通孔４１の周囲に、周方向に間隔を空けて複数の弁孔４２が設けられる場合の構成を示した。しかしながら、本発明においては、弁孔４２の数や配置が限定されるものではない。従って、弁孔４２は一つであってもよい。また、上記実施例においては、弁座４０には、座面４３のうち外周面側に偏った位置に、周方向に間隔を空けて設けられる複数の溝４４が備えられる場合の構成を示した。しかしながら、本発明においては、溝４４の数や配置が限定されるものではない。従って、溝４４は一つであってもよい。また、上記実施例においては、弁座４０に設けられる複数の溝４４は、外周面に至る位置まで伸びるように設けられる場合の構成を示したが、流
路が形成されさえすれば、外周面にまで至らない溝で構成してもよい。

【0036】

更に、上記実施例においては、弁体３０が円板状の部材により構成される場合を示したが、本発明に適用可能な弁体は、そのような部材には限定されない。以下、図９〜図１６を参照して、本発明に適用可能な弁体の変形例をいくつか説明する。

【0037】

図９は弁体の変形例１を示す模式的断面図である。この図に示す弁体３１は、円板状の部材における外縁部分３１ａが湾曲した構成となっている。弁体の材料として、例えば弾性率が比較的高い金属を採用した場合、弁体を円板状にすると、撓み変形時にしわなどが発生し易いが、変形例１に係る弁体３１のように外縁部分を湾曲させることで、しわの発生を抑制できる。

【0038】

図１０は弁体の変形例２を示す模式的断面図である。この図に示す弁体３２は、円板状の部材において、全体的に湾曲した構成となっている。この弁体３２の場合にも、上記変形例１に係る弁体３１と同様に、しわの発生を抑制できる。

【0039】

図１１は弁体の変形例３を示す平面図であり、図１２は弁体の変形例３を示す模式的断面図（図１１中ＰＰ断面図）である。これらの図に示す弁体３３は、円板状の部材において、同心的に凹凸が設けられ、断面で見ると波形状となるように構成されている。この弁体３３の場合にも、上記変形例１に係る弁体３１と同様に、しわの発生を抑制できる。

【0040】

図１３は弁体の変形例４を示す平面図であり、図１４は弁体の変形例４を示す模式的断面図（図１３中ＱＱ断面図）である。これらの図に示す弁体３４は、円板状の部材において、周方向に間隔を空けて複数のディンプル３４ａが設けられる構成となっている。この弁体３４の場合にも、上記変形例１に係る弁体３１と同様に、しわの発生を抑制できる。

【0041】

図１５は弁体の変形例５を示す平面図である。この図に示す弁体３５は、円板状の部材において、周方向に間隔を空けて複数の円形の貫通孔３５ａが設けられる構成となっている。この弁体３５によれば、弁が開いた状態において、貫通孔３５ａも流路の一部となるため、貫通孔３５ａの数や大きさにより、最大流量を調整することができる。なお、弁が閉じた状態においては、複数の貫通孔３５ａよりも内側の部分が座面４３に接触するように構成されることは言うまでもない。なお、この変形例５については、上述した変形例１〜４のいずれに対しても組み合わせることができる。

【0042】

図１６は弁体の変形例６を示す平面図である。この図に示す弁体３６は、円板状の部材において、周方向に間隔を空けて複数のスリット状の貫通孔３６ａが設けられる構成となっている。この弁体３６によれば、変形例５の場合と同様に、弁が開いた状態において、貫通孔３６ａも流路の一部となるため、貫通孔３６ａの数や大きさにより、最大流量を調整することができる。なお、弁が閉じた状態においては、複数の貫通孔３６ａよりも内側の部分が座面４３に接触するように構成されることは言うまでもない。なお、この変形例６については、上述した変形例１〜４のいずれに対しても組み合わせることができる。
また、上記各実施例においては、弁構造がソレノイドバルブに適用される場合を例にして説明した。しかしながら、本発明の弁構造は、ソレノイドバルブ以外の弁構造にも適用可能である。すなわち、往復動部材を往復移動させるための往復動用のアクチュエータとしては、ソレノイドには限られず、空圧アクチュエータ，油圧アクチュエータ及び圧電アクチュエータなども適用可能である。本発明は、これらの各種往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材に弁体が設けられた弁構造に対しても適用可能である。

【符号の説明】

【0043】

１１ ボビン
１２ コイル
１３ プランジャ
１３ａ ロッド
１３ｂ 軸受
１４ センターポスト
１５ａ，１５ｂ プレート
１５ｃ ケース
１６ａ 第１スプリング
１６ｂ スプリング受け
１６ｃ アジャストスクリュ
１６ｄ 第２スプリング
１７ 端子
２１ ハウジング本体
２１ａ 入力ポート部
２１ｂ 出力ポート部
２１ｃ コネクタ部
２２ カバー
３０，３１，３２，３３，３４，３５，３６ 弁体
３４ａ ディンプル
３５ａ 貫通孔
３６ａ 貫通孔
４０ 弁座
４１ 挿通孔
４２ 弁孔
４３ 座面
４４ 溝
６０ スペーサリング
７１，７２ シールリング
ＳＶ ソレノイドバルブ
Ｓ ソレノイド部
Ｖ バルブ部
Ｈ ハウジング部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】