(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5962326
(24)【登録日】2016年7月8日
(45)【発行日】2016年8月3日
(54)【発明の名称】強制空冷式ヒートシンク
(51)【国際特許分類】
H01L 23/467 20060101AFI20160721BHJP
H05K 7/20 20060101ALI20160721BHJP
【FI】
H01L23/46 C
H05K7/20 H
【請求項の数】4
【全頁数】15
(21)【出願番号】特願2012-179971(P2012-179971)
(22)【出願日】2012年8月14日
(65)【公開番号】特開2014-38924(P2014-38924A)
(43)【公開日】2014年2月27日
【審査請求日】2015年7月13日
(73)【特許権者】
【識別番号】000005234
【氏名又は名称】富士電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100074099
【弁理士】
【氏名又は名称】大菅 義之
(72)【発明者】
【氏名】辰川 昌弘
【審査官】
豊島 洋介
(56)【参考文献】
【文献】
特開2005−045935(JP,A)
【文献】
特開2001−086705(JP,A)
【文献】
特開平10−200282(JP,A)
【文献】
特開2010−165761(JP,A)
【文献】
特開2001−025254(JP,A)
【文献】
特開2006−050742(JP,A)
【文献】
国際公開第2011/021384(WO,A1)
【文献】
米国特許出願公開第2012/0033381(US,A1)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01L23/29
23/34−23/36
23/373−23/427
23/44
23/467−23/473
H05K7/20
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
熱伝導材料から成るベースの一方の面に半導体モジュールが搭載され他方の面に熱伝導材料から成る複数のフィンが設けられて成るヒートシンクと、前記ヒートシンクを収納する筐体であってその一部によって前記フィンを囲む風洞を形成する筐体と、該風洞に外部空気を流入させて前記フィンを通過させて排気する気流を生成する冷却ファンとを有する強制空冷ヒートシンクにおいて、
前記ベースの一方の面側に設けられ、前記風洞内に流入させた空気の一部を通過させるダクトであって、1以上の開口部を有するダクトと、
前記半導体モジュールの主端子に接続すると共に、前記1以上の開口部を塞ぐ形で設置される、熱伝導材料から成るプレートとを有し、
前記半導体モジュール内で発生する熱が、前記主端子を介して前記プレートに伝達され、前記1以上の開口部において前記ダクト内を通過する空気へ当該プレートから放熱されることを特徴とする強制空冷ヒートシンク。
【請求項2】
前記半導体モジュールは、前記風洞内を通過する気流の上流側に配置される風上側半導体モジュールと、下流側に配置される風下側半導体モジュールとから成り、
前記ベースにおいて、該風上側半導体モジュールと風下側半導体モジュールとの間にベース開口部を有しており、
前記ダクトは該ベース開口部を覆うように設けられており、
前記ダクト内を通過する空気は、前記ベース開口部から前記風洞内に流入して該風洞内を通過する空気と合流後、前記風下側半導体モジュールに対応する前記フィンを通過することを特徴とする請求項1記載の強制空冷ヒートシンク。
【請求項3】
前記半導体モジュールの設置空間は前記筐体によって囲われており、
前記半導体モジュールやその主端子には、前記風洞内を流れる空気や前記ダクト内を通過する空気は通流しないことを特徴とする請求項1または2記載の強制空冷ヒートシンク。
【請求項4】
前記プレートは、ブスバーであることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の強制空冷ヒートシンク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、モーター等の負荷を駆動するインバータ装置、無停電電源装置、アクティブフィルター等の電力変換装置において、内蔵する複数の半導体モジュールを冷却する強制空冷式ヒートシンクの構造に関する。
【背景技術】
【0002】
電力変換装置は、家電製品から運輸、産業製品に至る様々な用途で使用されており、容量範囲も数W(ワット)から数MW(メガワット)にまで及んでいる。この電力変換装置のスイッチング時および定常時に発生する損失は、熱に変換される為、発生した熱を速やかに放熱し、半導体素子のジャンクション温度を上限値(最大150℃)以下に抑える必要がある。
【0003】
発生損失が、数W(ワット)レベルまでは、半導体素子表面からの自然空冷でも良いが、数十W(ワット)を越えるレベルでは、ファン等を用いてヒートシンクのフィン部分に強制的に送風してヒートシンクの冷却を促進する強制空冷式ヒートシンクが採用される事が多い。
【0004】
従来の強制空冷式ヒートシンクについて、
図6〜
図8を用いて説明する。
図6は、従来の強制空冷式ヒートシンクの外観斜視図である。
図7は、
図6に示す構成の一部(本体部分)を取り出して示すものである。
【0005】
図8は、
図6に示す構成の側断面図である。
まず、
図6に示すように、従来の強制空冷式ヒートシンクの一例は、複数の半導体モジュール53(図示の例では2個の風上側半導体モジュール53aと、2個の風下側半導体モジュール53b)が、ヒートシンク50の上面に設置され、ヒートシンク50が、筐体52内に収容されている。尚、ヒートシンク50は、後に
図7で説明するように、ベース56とフィン57とから形成されている。筐体52の一方の端面側には冷却ファン55(及び不図示の排気口)が設置され、他方の端面には吸気口54が設けられている。尚、冷却ファン55は、例えば
図8に示すように筐体52内に配置されている。
【0006】
冷却ファン55によって、図示の気流61,62が形成される。すなわち、周辺の空気を気流61(吸気)として吸気口54から筐体52内に流入させて、後述するフィン57等を通過させた後(その際にフィン57からの放熱により温度上昇して)、気流62(排気)として上記筐体52の一方の端面(不図示の排気口)から排出する。
【0007】
また、複数の半導体モジュール53は、ブスバー51で電気的に接続されている。すなわち、各半導体モジュール53は、不図示の主端子によって、ブスバー51に接続しており、これは電気的な接続のためであるが、熱もブスバーに伝わることになる。尚、当然、各半導体モジュール53で発生する熱は、ヒートシンク50にも伝わるものであり、ヒートシンク50(そのフィン57)から放熱される。
【0008】
尚、ブスバーとは一般に、電源供給ラインに替わって使用される細長い金属であるが、この定義に限定されるものではない。また、ブスバーの材質は一般に銅である場合が多いが、この例に限らない。
【0009】
尚、筐体52は、更に、
図8に示すように、ヒートシンク50の上方空間(複数の半導体モジュール53の設置空間)を覆うように形成されても良い。
図7は、筐体52からヒートシンク50(半導体モジュール53を搭載した状態)を取出したものである。但し、ブスバー51は省略して示している。
【0010】
ヒートシンク50は、熱良導体(高熱伝導材料)であるベース56と熱良導体(高熱伝導材料)である複数のフィン57とによって形成されている。尚、これらは高熱伝導材料、すなわち高熱伝導性を有する材料に限らず、単なる熱伝導材料であっても構わない。
【0011】
ベース56の下面に垂直に且つ互いに並行に並べて複数の(図では25枚程度の)フィン57が設けられている。これら各フィン57間の隙間を、上記気流61として吸気口54から筐体52内に流入した空気が通過することになり、これによって各フィン57からの放熱が促進されることになる。
【0012】
また、ベース56の上面側には複数の半導体モジュール53が搭載されている。各半導体モジュール53で発生した熱は、ベース56を介して各フィン57に伝わり、上記の通り各フィン57から空気中へ放熱される。
【0013】
更に、
図7では省略しているが、
図6で説明したように、各半導体モジュール53で発生した熱の一部は、不図示の主端子を介してブスバー51にも伝わるが、ブスバー51からの放熱効率は悪く、主端子やブスバー51の温度上昇を招いている。
【0014】
図8は、
図6に示した強制空冷式ヒートシンクの断面図であり、筐体内の空気の流れ(気流)も示している。
気流は図上では矢印で示すものとする。筐体52等によって図示のように吸気口54、風上側風洞58a、フィン57の設置空間、風下側風洞58b等から成る風洞が形成され、冷却ファン5によって図上矢印で示す空気の流れ(風洞内を流れてフィン57を通過する)が形成される。尚、空気は、吸気口54から吸気し(気流(吸気)61)、冷却ファン5の後段にある不図示の排気口から外部へ排気される(気流(排気)62)。尚、以後、空気の流れに関して、冷却ファン5について逐一言及しないものとする。
【0015】
尚、
図6には示していないが、筐体52は、
図6に示す側面等だけでなく、
図8に示すように半導体モジュール53を覆うように上面にも設けられていても良い。
上記の通り、吸気口54より取込まれた空気は、風上側風洞58aを経由してヒートシンク50の複数のフィン57の間を抜けて風下側風洞58bに至り、不図示の排気口から外部に排気される。一方、半導体モジュール53で発生した熱は、ベース56を経由してフィン57に伝わり、フィン57の間を通過する空気に吸熱されて外部に排気される。
【0016】
これにより、半導体モジュール53で発生した熱がフィン57等から放熱されて、以って半導体モジュール53を冷却する。強制空冷式ヒートシンクでは、半導体モジュール53から発生した熱をベース56を介してフィン57から空気中に放熱するため、フィン57間を通過する空気の温度は、風上側よりも風下側の方が高くなる。換言すれば、空気の温度は、フィン57間を通過中に徐々に上昇していく。
【0017】
この為、仮に、風上側半導体モジュール53aと風下側半導体モジュール53bの発熱量が同じであった場合、風上側半導体モジュール53aに比べて風下側半導体モジュール53bの温度が高くなる。一方、半導体モジュール53には、使用温度に限界があり、局部的な温度上昇が装置稼働のボトルネックになる。このため、通常、風上側に発熱温度の高い(発熱量が多い)半導体モジュール53を配置し、風下側に発熱温度の低い(発熱量が少ない)半導体モジュール53を配置して、半導体モジュール53の温度が使用限界を超えない様にしている。換言すれば、風上側半導体モジュール53aが、風下側半導体モジュール53bに比べて、発熱温度が高い(発熱量が多い)ものとなるようにしている。
【0018】
ところが、半導体モジュールのレイアウトによっては、この様な方法が採れない事もあり、風下側半導体モジュール53bの温度が高くなって強制空冷式ヒートシンクの冷却能力を充分に活用する事が出来ないという不具合が発生する。
【0019】
また、上記フィン57からの放熱以外の伝熱経路として、半導体チップから主端子を経由して外部に放熱する経路がある構成が知られている。この様な構成の一例を
図9に示す。
【0020】
図9は、半導体モジュールの構造図である。尚、これは、上記半導体モジュール53の構造例としてもよいが、この例に限らない。
図9に示す例の半導体モジュールは、発熱源となる半導体チップ73を有し、この半導体チップ73は、内部配線74を介して主端子71と電気的に接続されている。また、内部配線74は、熱良導体でもある為、半導体チップ73で発生した熱は、内部配線74を介して主端子71に伝わることになる。主端子71にブスバー(バスバー)77が接続された構成の場合には、上記熱は主端子71から更にブスバー77に伝わることになり、ブスバー77から空気中に放熱される。但し、そのままでは放熱効率はよくない。
【0021】
このため、上記プレート77からの放熱を促進する構造が、特許文献1に開示されている。
特許文献1の発明は、パワー半導体の主端子電極に接続するプレートを、放熱器として利用し、パワー半導体を放熱面だけでなく素子からの伝熱も放熱させる相乗効果により、高効率な放熱を実現するものである。
【0022】
図10は、上記特許文献1の構成例である。
図10の構成では、複数のパワー半導体85の各主端子86を電気的に接続し、DCバスラインを形成するプレート82を設ける。主たる冷却を担う主放熱器81(上記フィンに相当する)及び主ファンモータ83に加えて、副放熱器としてのプレート82と副ファンモータ84を設けている。プレート82は、パワー半導体85の主端子86にネジ固定させ、プレート2全体を副ファンモータ84からの送風によって強制冷却させる。
【0023】
パワー半導体85が発する熱は、主端子86からプレート82に伝わるので、プレート82を冷却することで放熱することになる。熱は発生源の半導体素子と直接結合している主端子から取り出すため、送風による強制冷却を行えば放熱効率が高い。これにより主放熱器81の負担が軽減され、小型化等を図れる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0024】
【特許文献1】特開2001−86705号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0025】
半導体モジュールの主端子に接続したブスバー等からの放熱を促進する方法として、上述した特許文献1の構造が提案されているが、半導体モジュールの周囲に空気を流す為、半導体モジュールの主端子や制御端子に塵や埃が付着して絶縁性能が低下するという問題が生じる。
【0026】
このため、通常、エアーフィルターを使用して塵や埃を除去しているが、エアーフィルターの目を細かくして捕集能力を上げると圧力損失が大きくなり、強力な冷却ファンが必要になったり、エアーフィルターのメンテナンス周期が短くなったりする不具合を生じる。
【0027】
本発明の課題は、半導体モジュールの周囲に空気を流すことなく半導体モジュールの主端子に接続されたプレートに送風して強制冷却させることができ、以って半導体モジュールの主端子等に塵や埃が付着することなく放熱効率が高い強制空冷式ヒートシンクを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0028】
本発明の強制空冷ヒートシンクは、熱伝導材料から成るベースの一方の面に半導体モジュールが搭載され他方の面に熱伝導材料から成る複数のフィンが設けられて成るヒートシンクと、前記ヒートシンクを収納する筐体であってその一部によって前記フィンを囲む風洞を形成する筐体と、該風洞に外部空気を流入させて前記フィンを通過させて排気する気流を生成する冷却ファンとを有する強制空冷ヒートシンクにおいて、前記ベースの一方の面側に設けられ、前記風洞内に流入させた空気の一部を通過させるダクトであって、1以上の開口部を有するダクトと、前記半導体モジュールの主端子に接続すると共に、前記1以上の開口部を塞ぐ形で設置される、熱伝導材料から成るプレートとを有し、前記半導体モジュール内で発生する熱が、前記主端子を介して前記プレートに伝達され、前記1以上の開口部において前記ダクト内を通過する空気へ当該プレートから放熱される。
【発明の効果】
【0029】
本発明の強制空冷式ヒートシンク等によれば、半導体モジュールの周囲に空気を流すことなく半導体モジュールの主端子に接続されたプレートに送風して強制冷却させることができ、以って半導体モジュールの主端子等に塵や埃が付着することなく放熱効率が高い強制空冷式ヒートシンクを実現できる。
【図面の簡単な説明】
【0030】
【
図1】本例の強制空冷式ヒートシンクの外観斜視図である。
【
図2】本例の強制空冷式ヒートシンクの断面図である。
【
図3】
図1におけるプレートを外した状態を示すものである。
【
図4】(a)は適用対象例、(b)は具体例を示す図である。
【
図5】(a)、(b)は、先願の強制空冷式ヒートシンクの構造図である。
【
図6】従来の強制空冷式ヒートシンクの外観斜視図である。
【
図7】
図6に示す構成の一部を取り出して示すものである。
【発明を実施するための形態】
【0031】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
図1〜
図3は、本例の強制空冷式ヒートシンクを示したものである。
すなわち、
図1、
図3は、本例の強制空冷式ヒートシンクの本体部分の外観斜視図である。
図3は、
図1におけるプレート13を外した状態を示すものである。また、
図2は、本例の強制空冷式ヒートシンク全体の断面図である。
【0032】
尚、
図1や
図3は上記従来の図面の
図7に相当する図面であり(本体部分を示すものであり)、強制空冷式ヒートシンク全体の構成は
図6と略同様に上記本体部分が筐体内に収容された構成であり(但しここでは図示しない)、
図2は当該全体構成の断面図に相当するものと言える。
【0033】
図1〜
図3に示すように、本例による強制空冷式ヒートシンクの本体部分は、まず基本的には、ベース2とフィン3とから成るヒートシンク1を有する。すなわち、ヒートシンク1は、熱良導体(特に銅などの高熱伝導材料)であるベース2と熱良導体(特に銅などの高熱伝導材料)である複数のフィン3から形成されている。尚、これらベース2やフィン3は、高熱伝導材料、すなわち熱伝導率の高い材料に限らず、単なる熱伝導材料であっても構わない。尚、これらの構成自体は、従来と同様であってよい。
【0034】
上記ベース2の一方の面側(図では上面側であるがこの例に限らない)には、風上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bが設けられている。更に、これら各半導体モジュール4の主端子11aに接続するプレート(ブスバーや平板電極等)13なども設けられている。
【0035】
尚、上記の通り、ヒートシンク1は基本的にはベース2とフィン3とから成るものであるが、上記半導体モジュール4が搭載された状態をヒートシンク1と呼んでもよいものとする。
【0036】
ベース2の他方の面側(図では下面側であるがこの例に限らない)には、複数枚の上記フィン3が、当該他方の面に垂直に且つ互いに並行に並べる形で形成されている。これより、上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bで発生する熱は、ベース2に伝わり、更にフィン3に伝わって放熱される。強制空冷式ヒートシンクへ流入する空気(風上側気流7a)は、その一部がフィン3を通過し、フィン3からの放熱効率を向上させると共に、自身はフィン3からの放熱によって温度上昇して風下側気流7bとして排出される。
【0037】
尚、風上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bとを特に区別する必要がない場合には、半導体モジュール4と記す場合もあるものとする。これは、他の構成要素についても同様である。
【0038】
尚、図では、風上側半導体モジュール4a、風下側半導体モジュール4bは、それぞれ2個ずつ設けられているが、この例に限らない。図の例では、ベース2上には4個の半導体モジュールが設けられており、上記フィン3を通過する空気の流れの風上側にある2個を風上側半導体モジュール4a、風下側にある2個を風下側半導体モジュール4bと呼んでいるものである。また、図では、全ての半導体モジュール4は、その主端子11aがプレート(ブスバー等)13に接続されるが、この例に限らない。つまり、その主端子11aがプレート(ブスバー等)13に接続されない半導体モジュール4が、存在していても構わない。
【0039】
尚、フィン3に関しては、例えば
図2に示すように、上記フィン3を通過する空気の流れの風上側の部分(風上側半導体モジュール4aの下に位置する部分)を風上側フィン3a、風下側の部分(風下側半導体モジュール4bの下に位置する部分)を風下側フィン3bと呼ぶ場合もあるものとする。これは、換言すれば、後述するベース開口部9aよりも風上側は風上側フィン3a、風下側は風下側フィン3bと見做してもよい。
【0040】
また、上記ベース2の一方の面側(図では上面側)には更に洞10が設けられており、ベース2にはベース開口部9a(後述する)が設けられている。これらの構成により、上記風上側気流7aは、上記の通りその一部(本流とする)はフィン3全体を通過するが、他の一部(支流とする)は洞10内を通過することで、風上側フィン3aは通過せず(パスして)、風下側フィン3bのみを通過する。
【0041】
また、
図2、
図3に示すように、ベース2に関して、風上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bとの間にベース開口部9aが形成されており、洞10内を通過した空気(風上側気流7aの一部;支流)は、ベース開口部9aを通ってベース2の下方側に流入し、上記本流と合流して上記風下側フィン3bを通過して、風下側気流7bとして排出される。尚、ベース開口部9aは、例えば後述する
図5(b)に示す形状・配置であるが、この例に限らない。
【0042】
上記洞10は、上記ベース2の上面における空きエリア(各半導体モジュール4の設置エリア以外のエリア)に設置されると共に、ベース開口部9aを覆うように設置される。更に、上記のように風上側気流7aの一部(支流)が洞10内に流入するように設置される。これより、洞10は、例えば
図3に示すようなE字形状となるが、この例に限らない。何れにしても、洞10によって、各半導体モジュール4(特に風上側半導体モジュール4a)の周囲に空気を流さずに、風上側気流7aの一部(支流)がベース2の上面側を通過するように構成している。ここまでは先願(特願2011-232901号)と略同様であってもよいが、本例では更に後述する洞開口部9bが設けられると共に、主端子11aに接続されたプレート13が洞開口部9bを塞ぐように設置される。これについては後に説明する。
【0043】
ここで、
図2に示すように、本例の強制空冷式ヒートシンクは全体的には、
図6や
図8と略同様に、上記
図1に示す本体部分が筐体6内に収容されており、更に筐体6によって風上側風洞8aや風下側風洞8b等が形成されている。更に、冷却ファン5等が設けられている。また、
図6の吸気口54と同様にして
図2に示すように筐体6には穴(吸気口12)が形成されている。更に、図示していないが、風下側気流7bを排出するための排気口も、筐体6に形成されている。
【0044】
また、
図6では省略しているが
図8等と略同様に、
図2に示すように筐体6の一部がプレート13や半導体モジュール4の設置空間を覆うように構成されている。更に、
図2に示す風上側風洞8aの天井部分6aや風下側風洞8bの天井部分6b等も筐体6の一部と見做してよく、これらを含む筐体6全体によって、半導体モジュール4等の設置空間には、外気は流入しないように構成されている。尚、換言すれば、上記天井部分6a、6bなどを含む筐体6によって、上記風上側風洞8a、風下側風洞8b等が形成されるものと言える。更に、これら風上側風洞8a、風下側風洞8bや、フィン3の設置空間等から成る風洞(基本的にはフィン3に空気を通過させる為の風洞;上記本流の空気を流すための風洞)が形成されるものと言える。
【0045】
一方、洞10の風上側の下部には
図2に示す穴10aが設けられており、風上側気流7aの空気の一部(支流)は、この穴10aを通って洞10内に流入する。尚、風上側風洞8aの天井部分6aにも、この穴10aに対応する位置にこの穴10aと同じ大きさ(もしくは穴10aより小さい)不図示の穴が空けられている。
【0046】
ここで、気流に関しては、例えば
図2において矢印で示すような空気の流れが形成される。この空気の流れは、冷却ファン5によって作られる。すなわち、メインの空気の流れ(本流)は、吸気口12から取り込んだ空気(風上側気流7a)が、風上側風洞8aを経由してフィン3の間を抜けて風下側風洞8bに至り(風上側風洞8a→フィン3→風下側風洞8bの順に通過させて)、風下側気流7bとして外部へ放出する。
【0047】
但し、風上側風洞8aに流入させた空気の一部(支流)は、洞10内を通過させた後、ベース開口部9aを通って上記本流に途中で合流させる(これを、サブの空気の流れとする)。
【0048】
上記支流の空気は、洞10内を通過中に、主端子11aに接続するプレート13の端面(上記洞開口部9bを塞いでいる部分)を流れるため、プレート13からの放熱が促進される。これについては詳しくは後に説明する。尚、洞10の材質は例えばFRP(繊維強化プラスチック;Fiber Reinforced Plastics)等の絶縁体であり、従ってプレート13から洞10への熱伝達は殆どないものと考えてよい。
【0049】
このように、強制空冷式ヒートシンクに流入する風上側気流7aは、風上側風洞8aにおいて2方向に分かれて、その一部(本流の空気)はベース2の下方側に流入してフィン3を通過し、他の一部(支流の空気)はベース2の上面に設けられた洞10内を通過する。尚、
図2に示す例では、支流の空気は、洞10内を通過後に本流に途中で合流するが、この例に限らず、例えば本流に合流することなくそのまま風下側風洞8bや冷却ファン5等を介して外部へ排出される構成としてもよい。但し、ここでは図示の例に従って説明する。
【0050】
洞10内に流入した上記“支流の空気”は、風上側半導体モジュール4aに接触することなく、プレート13に接触して放熱を受けた後、上記の通りベース開口部9aを通ってベース2の下方側に流入し、上記“本流の空気”と合流する。合流後は、風下側フィン3bを通過した後、風下側風洞8bを通過し、冷却ファン5を通過して、風下側気流7bとして排出される。
【0051】
また、洞10には、
図3に示すように、その一面(図では上面)に1または複数の洞開口部9bが設けられている。一方、
図2に示すように、プレート13は、各半導体モジュール4の主端子11a(風上側半導体モジュール4aや風下側半導体モジュール4bの主端子11a)と接続していると共に、各洞開口部9bを塞ぐように設けられている。これより、上記の通り、プレート13には、各洞開口部9bにおいて上記“支流の空気”が流れることになる。この様な構成により、風上側半導体モジュール4aで発生した熱は、主端子11aを介してプレート13に伝わり、プレート13から上記“支流の空気”へと放熱されることになる。
【0052】
ここで、プレート13は、一例としてはブスバー(バスバーとも言う)であってよいが、この例に限らない。ブスバーの材質は、一般的に銅であるが、プレート13の材質は、この例に限らず、例えばアルミニウム等の他の金属であってもよい。あるいは、プレート13は、金属プレートに限らず、基板配線パターンを利用するものであっても構わない。
【0053】
ここで、各半導体モジュール4で発生する熱は、基本的にはベース2→フィン3へと伝わってフィン3から上記“本流の空気”へ放熱されるが、半導体モジュール4→主端子11a→プレート13(ブスバー等)の経路で伝わる熱もある。この熱は、従来ではブスバーからの放熱効率が悪く、ブスバーや主端子等の温度上昇を招いていた。これに対して上記特許文献1の発明では、小型ファンを設けてプレートに風を送ることで、放熱効率を向上させ、主端子→ブスバーへと伝わる熱を効率よく放熱させていた。しかしながら、既に述べたように、特許文献1の構成では、半導体モジュールの主端子や制御端子に塵や埃が付着して絶縁性能が低下するという問題が生じる。
【0054】
上記従来の課題を解決するために、本手法では、上述した洞開口部9bを有する洞10(穴空きのダクト)を設けると共に、半導体モジュール4の主端子11aと接触するプレート13(ブスバー等)を、洞開口部9bを塞ぐように設ける。この構成により、半導体モジュール4の周囲(特に主端子11aや制御端子11b周辺)に空気を流さずにプレート13の表面へ空気(支流の空気)を通流できるため、半導体モジュール4の主端子11aや制御端子11bに塵や埃を付着させることなく、プレート13からの放熱を促進させることができる。これにより、プレート13からの放熱量が多くなり、半導体モジュール4(その半導体チップ等)の温度を効率良く下げる事が出来る。
【0055】
このように、半導体モジュールの主端子や制御端子に通風せず、主端子に接続するブスバーに通風できる為、ブスバーからの放熱量が増加し、半導体チップや内部配線で発生する熱を効率的に放熱して半導体チップの温度上昇を低減する事が出来る。
【0056】
尚、図示の例では、洞10は、風上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bとの間に設置したベース開口部9aと、筐体の吸気口(風上側風洞8a)とを結ぶ形で配置したが、この例に限らない。例えば、ベース開口部(ベース2に空ける穴)を、図示のベース開口部9aの位置ではなく、風下側半導体モジュール4bの後段(不図示)に設けると共に、洞10を延長させる形で、上記不図示のベース開口部と筐体の吸気口とを結ぶ形で洞(不図示)を配置するように構成してもよい。
【0057】
あるいは、上述したベース2に開口部を設ける構成例の代わりに、風下側風洞8bの上部(天井部分6b)に開口部(不図示)を設けるようにしてもよい。この例の場合、この不図示の開口部と筐体の吸気口とを結ぶ形で洞(不図示;洞10を延長させる形)を配置するように構成してもよい。
【0058】
ここで、基本的に、“支流の空気”は“本流の空気”よりも速度が速い(抵抗が少ないので;逆に言えば、フィン3間の狭い間隙を空気が通る場合、抵抗が大きいものとなる)。つまり、所定の断面積あたりの空気の通過量は、“支流の空気”の方が“本流の空気”より多い。また、フィン3からの放熱量の方が、プレート13からの放熱量よりも大きい場合が多い。これら2つの要素により、ベース開口部9aを介して“支流の空気”が“本流の空気”に合流したとき、“支流の空気”の温度は“本流の空気”の温度より低いことになる。これより、“支流の空気”が“本流の空気”に合流することで“本流の空気”が温度低下することになる。つまり、合流後の空気の温度は、“本流の空気”の温度より低くなり、これが風下側フィン3bに供給されることになる。これより、“本流の空気”がそのまま風下側フィン3bに供給される場合に比べて、風下側フィン3bからの放熱効率が向上する(風下側半導体モジュール4bの温度を効率よく下げることができる)。
【0059】
従来では、風上側フィン3aを通過後の空気は、温度が高いため、風下側半導体モジュール4bの冷却性能が低下するという問題があったが、本手法では上記の通り、この様な問題を軽減できるという効果も得られる。
【0060】
図4(a)は、本例の強制空冷式ヒートシンクの適用対象の一例を示すものである。
例えば図示のインバータ等に本例の強制空冷式ヒートシンクは適用されるが、この例に限らない。
【0061】
また、
図4(b)は、半導体モジュールの一例の外観図や内部回路構成を示すものであるが、これについては特に説明しない。
ここで、
図5(a)、(b)に、先願(特願2011-232901号)の強制空冷式ヒートシンクの構造図を示す。尚、
図5(b)は、
図5(a)に示す構成からダクト20を外した状態を示すものである。
【0062】
図5については、上記
図1〜
図3に示す本例の構造と異なる点についてのみ説明する。
図5(a)に示す構成では、まず、プレート13は存在しない。また、洞10の代わりに、ダクト20が設けられている。洞10とダクト20との相違点は、ダクト20には上記各洞開口部9bは設けられていない点である。
【0063】
以上の相違点を除けば、
図5(a)に示す構成は、上記
図1〜
図3に示す本例の構成と同様であると見做してよい(
図5において、
図1〜
図3の構成要素と同等の構成要素には同一符号を付してある)。
【0064】
ここで、上述した
図2等に示すベース開口部9aは、例えば
図5(b)に示すような形状・配置となっている。つまり、ベース開口部9aは、例えば角型の穴であるが、この例に限らず、丸形の穴や、楕円形状などの他の形状の穴であってもよい。また、図では穴の数は2つであるが、この例に限らず、1つ又は3つ以上であっても構わない。
【0065】
そして、全てのベース開口部9aを覆うようにして且つ風上側気流7aの一部を流入ささせるようにして且つ各半導体モジュールを避けるようにしてダクト20を設けることで、ダクト20は例えば
図5(a)に示す形で設置されることになる。この点に関しては、上記のように洞10も略同様であってよい。
【0066】
上述したことから、先願(特願2011-232901号)の構成の場合には、ダクト20内を通過する空気は、プレート13を冷却することなく(そもそもプレート13は存在しないかもしれない)そのまま上記ベース開口部9aを通ってベース2の下方空間(フィン3の間)に流入することになる。
【0067】
このように、フィン3の風上部分(風上側半導体モジュール4aの下方に位置する部分)を通過しない空気(温度上昇していない空気)を、ベース開口部9aを介して途中からフィン3部分に供給することで、フィン3の風下部分(風下側半導体モジュール4bの下方に位置する部分)を通過する空気の温度を下げることができ、風下側半導体モジュール4bを効率良く冷却することができる。
【0068】
本手法では、上述したように、この様な効果も(多少効果が下がるかもしれないが)得ることができる。
以上説明したように、本例の強制空冷ヒートシンクは、フィン3に流入させる空気の一部を、洞10に流入させる(支流)。洞10の上面には洞開口部9bが設けられており、各半導体モジュール4a、4bの主端子に接続される不図示のプレート(ブスバー)13が、この洞開口部9bを塞ぐように設けられている。これより、この洞開口部9bの部分において、プレート13には上記支流の空気が通風され、以ってプレート13が強制空冷されてプレート13からの放熱効率が向上する。
【0069】
本例の強制空冷ヒートシンクは、熱伝導材料から成るベース2の一方の面(例えば上面)に半導体モジュール4が搭載され他方の面(例えば下面)に熱伝導材料から成る複数のフィン3が設けられて成るヒートシンク1と、このヒートシンク1を収納する筐体6であってその一部によってフィン3を囲む風洞(風上側風洞8a、風下側風洞8b、フィン3の設置空間等)を形成する筐体6と、該風洞に外部空気を流入させてフィン3を通過させて排気する気流を生成する冷却ファン5とを有する構成において、例えば以下に列挙する構成を有する。
【0070】
・ベース2の一方の面側に設けられ、上記風洞内に流入させた空気の一部を通過させるダクトであって、その1面(ベース対面;上面など)に1以上の開口部(洞開口部9b)を有するダクト(洞10);、
・上記半導体モジュール4の主端子11aに接続すると共に、上記1以上の開口部(洞開口部9b)を塞ぐ形で設置される、熱伝導材料から成るプレート13(ブスバー等);
・半導体モジュール4内で発生する熱が、主端子11aを介してプレート13に伝達され、1以上の開口部(洞開口部9b)においてダクト(洞10)内を通過する空気へ当該プレート13から放熱される。
【0071】
また、上記構成において、上記半導体モジュール4は、上記風洞内を通過する気流の上流側に配置される風上側半導体モジュール4aと、下流側に配置される風下側半導体モジュール4bとから成るものであってもよい。
【0072】
更に、この場合において、上記ベース2において、上記風上側半導体モジュール4aと風下側半導体モジュール4bとの間にベース開口部9aを有しており、上記ダクト(洞10)内を通過する空気は、上記ベース開口部9aからこの風洞内に流入して当該風洞内を通過する空気(上記風上側フィン3aを通過した空気)と合流後、上記風下側半導体モジュール4bに対応するフィン3(上記風下側フィン3b)を通過するように構成してもよい。上述したように、この構成では風下側半導体モジュール4bの冷却効率が向上する効果も得られる。
【符号の説明】
【0073】
1 ヒートシンク
2 ベース
3 フィン
4a 風上側半導体モジュール
4b 風下側半導体モジュール
5 冷却ファン
6 筐体
7a 風上側気流
7b 風下側気流
8a 風上側風洞
8b 風下側風洞
9a ベース開口部
9b 洞開口部
10 洞
11a 主端子
11b 制御端子
12 吸気口
13 プレート