5963194 露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5963194

(24)【登録日】2016年7月8日

(45)【発行日】2016年8月3日

(54)【発明の名称】露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20160721BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/20 501

【請求項の数】2

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2012-158850(P2012-158850)

(22)【出願日】2012年7月17日

(65)【公開番号】特開2014-21239(P2014-21239A)

(43)【公開日】2014年2月3日

【審査請求日】2015年6月25日

(73)【特許権者】

【識別番号】500171707

【氏名又は名称】株式会社ブイ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】110000626

【氏名又は名称】特許業務法人 英知国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】新井 敏成

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 敬行

【審査官】 赤尾 隼人

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−１０３５００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平９−１２７５０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−１３１０２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２７６２０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１２−５２８３５７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−１４８１２２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｆ ７／２０−７／２８；９／００−９／０２

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０２Ｆ １／００−１／３９

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

フィルム上の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置であって、
フィルムを一方向に沿って搬送するフィルム搬送部と、
前記フィルム搬送部に配置され、前記フィルム上へ配向膜形成材が塗布される被塗布領域の近傍に、インクにてアライメントマークを形成するマーキング部と、
前記アライメントマークが形成されたフィルム上の前記被塗布領域に液体状の配向膜形成材を塗布する塗布部と、
前記フィルムに形成されたアライメントマークと前記被塗布領域の配向膜形成材とを乾燥させる乾燥装置と、
前記乾燥装置により乾燥されたフィルム上の配向膜形成材に近接配置されるフォトマスクと、
前記フォトマスクのマスクパターンの開口を介して光を照射する光照射部と、
前記フォトマスクを保持するマスク保持部と、
前記アライメントマークに基づいて、前記フォトマスクと前記被露光体との位置調整を行う位置調整部と、を有し、
前記乾燥装置は、前記アライメントマークが前記配向膜形成材による溶解でにじむ前に、前記アライメントマークを乾燥させる位置に配置されていることを特徴とする露光装置。

【請求項2】

前記マーキング部は、有色のインクにて前記アライメントマークを形成することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、被露光体に各種パターンを露光する露光装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

基材を一方向に搬送しながら、この基材に位相差パターン，フィルタパターン，回路パターンなどの各種パターンを露光する露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
また、基材としてのフィルムに液体状の配向膜形成材を塗布し、それに偏光した紫外線などを照射し、配向膜を同一方向に配向させる、いわゆる光配向技術が知られている。

【0003】

また、配向膜形成材の被塗布領域の近傍に、マスク位置補正用のアライメントマークを形成し、フィルム上の被露光体としての配向膜にマスクパターンを露光する場合、アライメントマークの位置に基づいて、フィルム上の被露光体とマスクパターンとの位置を調整する露光装置が知られている。この際、アライメントマークの形成位置は、配向膜形成材の被塗布領域に近いほど、フィルム上の被露光体とマスクパターンとの位置調整の精度が高くなる。

【0004】

また、上記アライメントマークとして、レーザー光をフィルムに照射し、フィルム表面に所定形状の凹凸を形成する技術が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００９−５３３８３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、フィルム表面にレーザー光を照射してフィルム表面に凹凸状のアライメントマークを形成した後、液体状の配向膜形成材を塗布したとき、アライメントマークの凹凸部に配向膜形成材が塗布されて、アライメントマークが判別できなくなる場合がある。アライメントマークが判別できないとき、フィルム上の被露光体とマスクパターンとの位置調整の精度が低下する場合がある。

【0007】

また、インクによりアライメントマークを形成した後、有機溶液を含む配向膜形成材をフィルム上の被塗布領域に塗布したとき、被塗布領域の近傍に形成したインク式のアライメントマークに有機溶液が浸透し、アライメントマークを溶解させて、アライメントマークをにじませる場合がある。アライメントマークのにじみの程度が大きいと、フィルム上の被露光体とマスクパターンとの位置調整の精度が低下する場合がある。マスク位置の補正の精度が低下すると、マスクパターンの露光精度が低下する場合がある。

【0008】

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、配向膜形成材の被塗布領域の近傍にマスク位置調整用のアライメントマークをインクにより形成した後、被塗布領域に液体状の配向膜形成材を塗布する場合であっても、マスクとフィルムとの位置調整を高精度に行うこと、所定のマスクパターンを高精度にフィルム上の被露光体に露光すること、等が本発明の目的である。

【課題を解決するための手段】

【0009】

このような目的を達成するために、本発明による露光装置は、以下の構成を少なくとも具備するものである。

【0010】

フィルム上の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置であって、フィルムを一方向に沿って搬送するフィルム搬送部と、前記フィルム搬送部に配置され、前記フィルム上へ配向膜形成材が塗布される被塗布領域の近傍に、インクにてアライメントマークを形成するマーキング部と、前記アライメントマークが形成されたフィルム上の前記被塗布領域に液体状の配向膜形成材を塗布する塗布部と、前記フィルムに形成されたアライメントマークと前記被塗布領域の配向膜形成材とを乾燥させる乾燥装置と、前記乾燥装置により乾燥されたフィルム上の配向膜形成材に近接配置されるフォトマスクと、前記フォトマスクのマスクパターンの開口を介して光を照射する光照射部と、前記フォトマスクを保持するマスク保持部と、前記アライメントマークに基づいて、前記フォトマスクと前記被露光体との位置調整を行う位置調整部と、を有し、前記乾燥装置は、前記アライメントマークが前記配向膜形成材による溶解でにじむ前に、前記アライメントマークを乾燥させる位置に配置されていることを特徴とする露光装置。

【発明の効果】

【0011】

このような構成を有する本発明によると、配向膜形成材の被塗布領域の近傍にマスク位置調整用のアライメントマークをインクにより形成した後、被塗布領域に液体状の配向膜形成材を塗布した場合であっても、マスクとフィルムとの位置調整を高精度に行うことができる。本発明によると、所定のマスクパターンを高精度にフィルム上の被露光体に露光することができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の実施形態に係る露光装置を採用したロールトゥロール方式のフィルム製造ラインの一例を示す図である。

【図2】本発明の実施形態に係る露光装置の動作の概念図である。

【図3】マーキング部と塗布部とフィルムの正面図である。

【図4】マーキング部と塗布部とフィルムの斜視図である。

【図5】マーキング部と塗布部と乾燥装置と露光部の説明図である。

【図6】本発明の実施形態に係る露光装置の露光部の一例を示す図である。

【図7】本発明の実施形態に係る露光装置の制御装置の一例を示すブロック図である。

【図8】インクによるアライメントマークの一例を示す図であり、（ａ）はにじみのないアライメントマークの一例を示す図、（ｂ）は（ａ）に示したアライメントマークを撮像した画像の画素値を示す図、（ｃ）は僅かににじんだ状態のアライメントマークの一例を示す図、（ｄ）は（ｃ）に示したアライメントマークを撮像した画像の画素値を示す図、（ｅ）は大きくにじんだ状態のアライメントマークの一例を示す図、（ｆ）は（ｃ）に示したアライメントマークを撮像した画像の画素値を示す図である。

【図9】アライメントマークを撮像した画像のコントラスト（エッジの鮮明度）と、フィルムの搬送方向への移動距離（移動時間）の一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。図１は、本発明の実施形態に係る露光装置１００の一例を示す図である。図２は本発明の実施形態に係る露光装置１００の動作の概念図である。図３はマーキング部４と塗布部としてのスリットコーター５とフィルム２の正面図である。図４はマーキング部４とスリットコーター５とフィルム２の斜視図である。図５はマーキング部４とスリットコーター５と乾燥装置６と露光部７の説明図である。尚、マーキング部４、スリットコーター５、乾燥装置６、露光部７の位置や距離などは図示したものに限られるものではない。

【0014】

本発明の実施形態に係る露光装置１００は、液体状の有機溶液を含む配向膜形成材５１が塗布される被塗布領域５２（配向膜塗布領域）の近傍のマーキング領域に、インクにてアライメントマーク４１を形成するマーキング部４と、フィルム２上の被塗布領域５２に液体状の有機溶液を含む配向膜形成材５１を塗布する塗布部としてのスリットコーター５と、アライメントマーク４１と被塗布領域５２の配向膜形成材５１を乾燥させる乾燥装置６と、アライメントマーク４１に基づいて、フォトマスク７７とフィルム２上の被露光体としての配向膜形成材５１との位置調整を行う露光部７と、を有する。本実施形態では、フィルム２上にアライメントマーク４１を形成したのち、スリットコーター５で塗工された配向膜形成材５１による溶解でアライメントマーク４１がにじむ前に、アライメントマーク４１を乾燥させる位置に、乾燥装置６が配置されている。

【0015】

以下、本発明の実施形態に係る露光装置１００の各構成要素を詳細に説明する。
本実施形態においては、図１に示したように、一例として、ＦＰＲ方式用偏光フィルムを製造する、ロールトゥロール方式のフィルム製造ライン１０１に本発明に係る露光装置１００を適用した場合について説明するが、この形態に限らず、あらゆる露光装置に適用することができる。

【0016】

図１に示したように、ロールトゥロール方式のフィルムの製造ライン１０１は、フィルム搬送部１５と、前処理部３と、マーキング部４と、塗布部としてのスリットコーター５と、乾燥装置６と、露光部７と、温度調節装置８と、後処理部１１と、などを有する。

【0017】

フィルム搬送部１５は、フィルム２を一方向に沿って搬送する。フィルム搬送部１５は、一対の搬送ロール１５ａ，１５ｂ、ローラ９などを有し、各搬送ロール１５ａ，１５ｂは駆動モータなどにより駆動され、フィルム２を搬送する。本実施形態では、フィルム搬送部１５の搬送ロール１５ａと搬送ロール１５ｂの間に、前処理部３と、マーキング部４と、塗布部としてのスリットコーター５と、乾燥装置６と、露光部７と、温度調節装置８と、後処理部１１と、などが配置されている。

【0018】

被露光体が塗布されるフィルム２は、図１に示したように、搬送ロール１５ａから巻き解かれて前処理部３に供給され、前処理部３にてドライ洗浄および表面改質などの前処理が施された後、マーキング部４によりフォトマスクの位置決めの基準となるアライメントマークが形成され、スリットコーター５によりフィルムの表面に、有機溶液を含む配向膜形成材などの規定材料が塗工され、乾燥装置６により乾燥された後、搬送ローラ１２により、露光部７内に供給される。フィルム２は、各装置間をローラ９上に支持されて、その回転により搬送される。

【0019】

露光部７の入り口には、モータにより駆動される搬送ローラなどのフィルム供給部が設けられており、フィルム２を露光部７内で、その長さ方向に沿って搬送するように構成されている。露光部７は、フィルム２上の被露光体にマスクパターンを露光する。露光部７は、アライメントマーク４１の位置に基づいて、フォトマスクとフィルム２上の被露光体との位置調整を高精度に行い、マスクパターンを高精度に被露光体の規定位置に露光する。

【0020】

その後、フィルム２は温度調節装置８に供給され、所定温度となるように調整された後、後処理部１１にて、保護膜の貼着などの所定の後処理が施された後、ローラ１２に巻き取られる。

【0021】

上述したように、本実施形態では、基材としてフィルム２を採用している。フィルム２の形成材料としては、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）などが挙げられる。

【0022】

図２に示したように、フィルム２の基材幅（フィルム幅）は、各加工工程で湿分により変動する。各加工工程におけるフィルム２の基材幅について説明する。

【0023】

詳細には、図２に示したように、フィルム巻出し時（ＳＴ１）、フィルム２の基材幅（搬送方向に直交する方向（幅方向）の長さ）は予め規定された長さである。

【0024】

マーキング部４によるマーキング工程（ＳＴ２）では、フィルム２の基材幅は略規定の長さとなっている。この安定状態のフィルム２に、マスクパターンの位置決めの基準となるアライメントマークがマーキング部４により形成される。

【0025】

次に、塗布部としてのスリットコーター５による配向膜塗工工程（ＳＴ３）にて、有機溶液を含む配向膜形成材がフィルム２上に塗工されると、フィルム２が僅かに膨張し、フィルム２の基材幅が僅かに大きくなる。

【0026】

乾燥装置６による乾燥工程（ＳＴ４）では、基材の湿分が最小値（湿度約０％）となり、フィルム２が収縮し、基材幅が最小値となる。

【0027】

加湿搬送工程（ＳＴ５）では、フィルム２が乾燥装置６外に搬送されると、乾燥装置６外の空気中の湿分を吸収し始め、フィルム２の基材幅が増大する。

【0028】

その後、露光部７による追従露光工程（ＳＴ６）で、アライメントマークの位置に基づいて、フィルム２の露光体に対してマスク位置を随時補正しながら、追従露光を行う。

【0029】

本実施形態では、追従露光工程（ＳＴ６）において、それぞれ異なるマスクパターンを露光する追従露光工程Ａ（ＳＴ６ａ）の次に追従露光工程Ｂ（ＳＴ６ｂ）を行う。その後、所定処理、例えば、温度調整装置による温度調整工程、後処理工程により規定の幅となる。

【0030】

上記工程ＳＴ５からＳＴ６において、フィルム２が乾燥装置６外に搬送されると、乾燥装置６外の空気中の湿分を吸収し始め、フィルム２の基材幅が増大し、所定時間経過後、湿度の吸収が飽和して、基材幅が規定の長さとなり安定する。この基材幅の増大の速度や安定状態までの時間などは、製造ラインが設置されている室内の空気中の湿度などに影響される。

【0031】

本発明の実施形態では、マーキング工程ＳＴ２において、フィルム２の湿分の安定した状態のときに、追従露光において基準となるアライメントマーク４１をフィルム２の規定位置に形成している。このため、乾燥装置６による焼成（ベーク）時や、乾燥装置６による焼成（ベーク）後の環境湿度、基材の湿分の変化により、フィルム２の基材幅が変動した場合であっても、追従露光工程ＳＴ６において、そのフィルム２に形成されたアライメントマーク４１の位置に基づいて、フィルム２の露光体に対してマスク位置を随時補正しながら容易に、且つ、高精度に追従露光を行うことが可能である。

【0032】

すなわち、フィルム２の湿分に応じて、フィルム２の基材幅が変動する場合であっても、高精度にフィルム２の規定位置に規定のマスクパターンを露光することができる。このため、フィルム２の露光パターンの直線性が良好となる。製造ラインが設置されている室内の湿度が±２０％程度変動したとしても、フィルム２の露光パターンの直線性が良好である。

【0033】

図３、図４、図５に示したように、フィルム２は搬送ローラにより搬送方向に規定の速度で搬送されている。マーキング部４はフィルム２の上流側に配置され、下流側に塗布部としてのスリットコーター５や露光部７などが配置されている。

【0034】

マーキング部４は、フィルム２が規定の基材幅の時、フィルム２上の所定位置にインクによりアライメントマーク４１を形成する。本実施形態では、図３に示すように、フィルム２上の幅方向の略中央に配向膜形成材が塗布される被塗布領域５２が設定されている。アライメントマーク４１は、被塗布領域５２の近傍で、被塗布領域５２とフィルム２の端部との間に形成される。詳細には、アライメントマーク４１が、フィルム２の幅方向の端部からフィルム内側に規定距離４２だけ離れた位置に形成されるように設定されている。

【0035】

図３に示したように、このアライメントマーク４１は、被塗布領域５２の幅方向に沿った端部からフィルム中央側に所定距離４３だけ離れた位置に形成されている。
本実施形態では、マーキング領域は、被塗布領域５２の幅方向に沿った端部からフィルム２の端部までの間の領域（縁部）である。

【0036】

アライメントマーク４１の形成位置は、配向膜形成材の被塗布領域５２に近いほど、マスクパターンとフィルム２上の被露光体としての配向膜形成材の位置調整の精度が高くなる。

【0037】

本実施形態では、マーキング部４は、フィルム基材２０の側部に有色のインクを塗布する。有色のインクとしては、有色の顔料や染料等を含有する液状又はペースト状のインク、有色の光硬化性材料を液状又はペースト状としたインク、などを採用することができる。
好ましくは、乾燥装置６で溶媒成分を揮発させて有色の膜を形成できるインク、例えば、油性インクを採用することができる。

【0038】

また、マーキング部４で用いられるインクとしては、速乾性のインク材料を採用することが好ましい。速乾性のインクを用いることで、配向膜形成材塗工時のインクのにじみを低減することができる。

【0039】

マーキング部４のインクの塗布方式としては、例えば、滴化したインクをフィルムに吹き付ける、いわゆるインクジェット方式、インクを滴下する方式、フェルト質の繊維等により形成された塗布部材にインクを浸透させてこの塗布部材を送給されてくるフィルム２の側部の被露光体を塗布しない領域に接触させる方式、などを採用することができる。

【0040】

アライメントマーク４１の形状は、図４、図５に示したように、搬送方向に沿って所定間隔で点線状に形成してもよいし、直線状、十字形状など所定形状であってもよい。

【0041】

塗布部としてのスリットコーター５は、表面に所定の材料をフィルムの表面に所定の材料を塗工する。スリットコーター５は、配向膜形成材とその配向膜形成材を溶解する有機溶液との混合液をフィルム２上の被塗布領域５２に塗工する。

【0042】

配向膜形成材５１としては、公知の配向膜形成用材料、例えば、アゾベンゼン化合物、桂皮酸化合物、ヒドラゾノ−β−ケトエステル化合物、スチルベン化合物、スピロピラン化合物、などが挙げられる。有機溶液としては、アセトンなどを採用することができる。また、有機溶液としては、非プロトン性極性溶媒、フェノール系溶媒、などを採用することができる。

【0043】

次に、乾燥装置６は、フィルム２、フィルム２上の被露光体としての配向膜形成材５１、および、アライメントマーク４１を乾燥させる。

【0044】

スリットコーター５により有機溶液を含む配向膜形成材５１を被塗布領域５２に塗工したとき、例えば、被塗布領域５２の近傍に形成されたアライメントマーク４１が、上記スリットコーター５により塗布された有機溶液に接触した場合、インクで形成されたアライメントマーク４１がにじむ可能性がある。
本発明の実施形態では、有機溶液がアライメントマーク４１に接触することによりアライメントマーク４１がにじむ前に、乾燥装置６がフィルム２上に形成されたインクのアライメントマーク４１および配向膜形成材５１を乾燥させる。こうすることで、アライメントマーク４１のにじみによるアライメントマーク４１の位置の判別不能を防止し、アライメントマーク４１の位置に基づいて、マスクとフィルムとの位置調整を高精度に行うことができる。

【0045】

図６は、本発明の実施形態に係る露光装置１００の露光部７の一例を示す図である。
露光部７は、光源７１と、反射ミラー７２，７３と、フライアイレンズ（インテグレータ）７４と、コンデンサレンズ７５と、偏光ビームスプリッタ等の偏光変換素子７６と、などを有する。露光部７の各構成要素は、筐体７ａ内に配置されている。

【0046】

光源７１は、例えば、紫外線などを出射する。光源７１としては、水銀ランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、紫外線ＬＥＤなどを採用することができる。

【0047】

光源７１から出射された光は、反射ミラー７２，７３により反射され、フライアイレンズ（インテグレータ）７４によりその強度を光軸に垂直な面内で均一化される。そして、フライアイレンズ７４の透過光がコンデンサレンズ７５にて平行光に変換される。
コンデンサレンズ７５の透過光は、マスク保持部７８により保持されたフォトマスク７７のマスクパターン７７ａに対応した開口を介して、フィルム２上の被露光体としての配向膜形成材５１に照射される。

【0048】

本実施形態では、図５に示したように、フォトマスク７７にはフィルム２のスキャン方向である搬送方向に長手方向を有するような光透過領域のパターン（開口）が一定間隔に形成され、詳細には、透過光の照射領域が画素の幅ずつ離隔するように複数本形成されている（光透過領域群）。露光装置１００は、光透過領域群に露光光を連続的に照射しながら、フィルム上に形成された被露光体をスキャン方向に移動させることにより、同一の方向に配向した配向膜をスキャン方向に帯状に形成する。
また、本実施形態に係る露光装置１００は、帯状に形成された配向膜間の未露光領域に、照射する露光光の偏光方向を変える、または、異なる方向から露光光を照射することで、配向方向が異なる帯状の配向膜を、それらが相互に隣接するようにフィルム２上に形成することができる。

【0049】

例えば、３Ｄディスプレイ用偏光フィルムを製造する際、露光装置１００は、１回目の露光による配向膜の形成領域を３Ｄディスプレイ装置の画素の幅ごとに隔離するように構成し、２回目に照射する露光光の偏光方向を、隣接する画素となる領域ごとにＰ偏光およびＳ偏光の直線偏光にする。尚、フィルム２上の被露光体への露光方法は、上述した形態に限られるものではない。

【0050】

露光装置１００は、フィルム搬送方向の下流側にアライメントマーク検出部９０が設けられている。アライメントマーク検出部９０は、マーキング部４によりフィルム２の縁部に形成したインクによるアライメントマーク４１の位置、具体的には、アライメントマーク４１のフィルム２の幅方向の位置などを検出する。アライメントマーク検出部９０は、フォトマスク７７の近傍、且つ、フィルム２の縁部に形成されたアライメントマーク４１上に配置されている。また、アライメントマーク検出部９０は、ＣＣＤカメラなどの撮像装置であり、撮像した画像などを制御装置８０に出力する。

【0051】

図７は本発明の実施形態に係る露光装置１００の制御装置８０の一例を示すブロック図である。制御装置８０は、露光装置１００の各構成要素を統括的に制御する。
制御装置８０は、詳細には、図７に示したように、制御部８１と、演算部８２と、記憶部としてのメモリ８３と、位置調整部としてのマスクステージ駆動制御部８４と、画像処理部８５と、モータ駆動制御部８６と、光源駆動部８７と、などを有する。

【0052】

メモリ８３は、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ハードディスクドライブなどの記憶装置を有し、露光装置１００の制御用のプログラムや、各加工工程で用いられる各種データを記憶する。メモリ８３は、制御部８１によるワークメモリとしても用いられる。

【0053】

制御部８１は、メモリ８３から読み出した制御用のプログラムを実行することにより、各構成要素を統括的に制御し、露光装置１００に本発明に係る機能を実現する。

【0054】

画像処理部８５は、アライメントマーク検出部９０により撮像されたアライメントマーク４１の画像処理を行い、例えば、アライメントマーク４１のフィルム幅方向における中心位置を検出する。

【0055】

演算部８２は、画像処理部８５から出力されたアライメントマーク４１の中心位置とフォトマスク７７のマスクパターンの開口部との間の距離と、予め規定された距離とのずれ量を算出し、メモリ８３に記憶する。また、演算部８２は、アライメントマーク４１の中心位置と、規定された基準位置とのずれを算出量し、メモリ８３に記憶する。

【0056】

マスクステージ駆動制御部８４は、制御部８１の制御により、露光部７のフォトマスク７７を保持するマスクステージとしてのマスク保持部７８の移動方向、移動量を制御する。

【0057】

モータ駆動制御部８６は、制御部８１の制御により、フィルム搬送部１５の搬送ロール１５ｂの駆動、停止、回転速度などを制御する。
光源駆動部８７は、光源７１の点灯、消灯、出力、発振周波数などを制御する。

【0058】

制御部８１は、アライメントマーク検出部９０、画像処理部８５、および演算部８２により検出されたアライメントマーク４１に基づいて、フォトマスク７７と被露光体との位置調整をマスクステージ駆動制御部８４（位置調整部）により行う。

【0059】

図８は、インクによるアライメントマーク４１の一例を示す図である。詳細には、図８（ａ）は、にじみのないアライメントマーク４１の一例を示す図、図８（ｂ）は図８（ａ）に示したアライメントマーク４１を撮像した画像の画素値を示す図、図８（ｃ）は僅かににじんだ状態のアライメントマーク４１の一例を示す図、図８（ｄ）は図８（ｃ）に示したアライメントマーク４１を撮像した画像の画素値を示す図、図８（ｅ）は大きくにじんだ状態のアライメントマーク４１の一例を示す図、図８（ｆ）は図８（ｃ）に示したアライメントマーク４１を撮像した画像の画素値を示す図である。図８において、横軸は画素値を示し、横軸はＹ軸方向（フィルム幅方向）の距離を示す。
図９は、アライメントマーク４１を撮像した画像のコントラスト（エッジの鮮明度）と搬送方向（Ｘ軸方向）への移動距離（移動時間）の一例を示す図である。

【0060】

図８（ａ）に示したように、フィルム２上に、マーキング部４がインクによりアライメントマーク４１を形成した時、撮像部などで撮像して得られる画像は、図８（ｂ）に示したように、アライメントマーク４１の存在する位置では最高画素値ＰＨを示し、それ以外では最低画素値ＰＬを示す。アライメントマーク４１のエッジＹｅが鋭い。
この時、図９に示したように、最高画素値ＰＨと最低画素値の差であるコントラストは、最大値Ａ₀を示す。アライメントマーク４１のＹ軸方向（フィルム幅方向）に沿った中心位置Ｙａは、立ち上がりエッジと立下りエッジＹｅの間の位置とする。

【0061】

図８（ｃ）に示したように、有機溶液を含む配向膜形成材を被塗布領域５２に塗工し、有機溶剤によりアライメントマーク４１が僅かににじむ場合、撮像部などで撮像して得られる画像は、図８（ｄ）に示したように、アライメントマーク４１の存在する位置では最高画素値ＰＨを示し、エッジ部分が僅かに幅Ｙｄを有し、つまり、エッジ部分の画素値の変化量（Ｙ軸方向に沿った変化量）が小さく、それ以外では最低画素値ＰＬを示す。
エッジ部分の幅Ｙｄは、エッジ部分の最高画素値を示す画素と最高画素値を示す画素との間のＹ軸方向の距離に相当する。このエッジ部分の幅Ｙｄの逆数などをエッジの鮮明度として用いてもよい。

【0062】

図８（ｅ）に示したように、有機溶剤によりアライメントマーク４１が溶解して大きくにじむ場合、撮像部などで撮像して得られる画像は、図８（ｆ）に示したように、アライメントマーク４１の存在する位置の最高画素値ＰＨとそれ以外の位置の最低画素値ＰＬとの差（コントラスト）が小さい。また、アライメントマーク４１のエッジ部分の画素値の変化量が非常に小さく、エッジ部分の幅Ｙｄが大きく、エッジの鮮明度が小さい。
このため、アライメントマーク４１のＹ軸方向（フィルム幅方向）に沿った中心位置Ｙａを特定するのが困難となる。

【0063】

上述したように、本発明に係る乾燥装置６の設置位置は、インクのアライメントマーク４１が配向膜形成材による溶解でにじむ前に、アライメントマーク４１を乾燥させる位置に配置されていることが好ましい。
また、本発明に係る乾燥装置６の設置位置は、インクのアライメントマーク４１が配向膜形成材による溶解でにじむ場合であっても、アライメントマーク４１の中心位置が判別可能な位置であってもよい。

【0064】

詳細には、図９に示したように、マーキング部４によりインクのアライメントマーク４１が形成されたとき、アライメントマーク４１のコントラストが最大値Ａ₀を示す。
被塗布領域５２に有機溶液を含む配向膜形成材が塗工された直後から所定距離（所定時間）までは、アライメントマーク４１のコントラストが最大値Ａ₀である。
その後、有機溶液によりアライメントマーク４１のにじみが開始すると、コントラストが徐々に低下する。
乾燥装置６により、フィルム２上のアライメントマーク４１および配向膜形成材５１に対して、乾燥が完了したとき、アライメントマーク４１のコントラストが値Ａ₁を示す。

【0065】

例えば、図８（ｅ）、図８（ｆ）に示したように、アライメントマーク４１のにじみが非常に大きい、つまり、アライメントマーク４１のコントラストが値Ａ_tよりも小さい場合、アライメントマーク４１のＹ軸方向（フィルム幅方向）に沿った中心位置Ｙａを特定するのが困難となる。
このため、乾燥装置６による乾燥完了時に、アライメントマーク４１のコントラストが値Ａ_t以上となるように、乾燥装置６の位置を規定してもよい。

【0066】

すなわち、乾燥装置６は、アライメントマーク４１の乾燥完了時に、アライメントマーク４１のコントラストが最大値Ａ₀となる位置であってもよいし、アライメントマーク４１のコントラストが最大値Ａ₀より小さく、値Ａ_t以上となる位置としてもよい。

【0067】

尚、図９において縦軸にアライメントマーク４１のコントラストを示したが、縦軸にエッジの鮮明度を示してもよい。

【0068】

また、インクにより形成されたアライメントマーク４１のにじみの速度は、インクの種類、有機溶液の種類、配向膜形成材の種類、フィルム２の形成材料などにより規定される。

【0069】

以上、説明したように、本発明の実施形態に係る露光装置１００は、フィルム２上の被露光体にマスクパターンを露光する。
また、露光装置１００は、フィルム２を一方向に沿って搬送するフィルム搬送部１５と、フィルム搬送部１５に配置され、フィルム２上へ、液体状の有機溶液を含む配向膜形成材５１が塗布される被塗布領域５２（配向膜塗布領域）の近傍のマーキング領域に、インクにてアライメントマーク４１を形成するマーキング部４と、アライメントマーク４１が形成されたフィルム２上の被塗布領域５２に液体状の有機溶液を含む配向膜形成材を塗布する塗布部としてのスリットコーター５と、フィルム２に形成されたアライメントマーク４１と被塗布領域５２の配向膜形成材５１を乾燥させる乾燥装置６と、乾燥装置６により乾燥されたフィルム上の被露光体としての配向膜形成材５１に近接配置されるフォトマスク７７と、フォトマスク７７のマスクパターン７７ａの開口を介して光を照射する光照射部としての光源７１と、フォトマスク７７を保持するマスク保持部７８と、アライメントマーク４１に基づいて、フォトマスク７７と被露光体としての配向膜形成材５１との位置調整を行う位置調整部としてのマスクステージ駆動制御部８４と、を有する。
乾燥装置６は、アライメントマーク４１が配向膜形成材による溶解でにじむ前に、アライメントマーク４１を乾燥させる位置に配置されている。

【0070】

このため、本発明によれば、配向膜形成材の被塗布領域の近傍にマスク位置調整用のアライメントマークをインクにより形成した後、被塗布領域に液体状の配向膜形成材を塗布する場合であっても、マスクとフィルム２との位置調整を高精度に行うことができる。
また、本発明によれば、フィルム２に所定のマスクパターンを高精度に被露光体に露光することができる。

【0071】

また、本発明の実施形態によれば、マーキング部４が有色インクにてアライメントマーク４１を形成し、ＣＣＤカメラなどのアライメントマーク検出部９０により、有色インクにてアライメントマーク４１を撮像し、制御部８１がアライメントマーク検出部９０、画像処理部８５、演算部８２を介して、アライメントマーク４１の位置を検出するので、簡単な構造で、アライメントマーク４１の位置を高精度に検出することができる。

【0072】

また、マーキング部４は、黒などの濃色の有色インクにてアライメントマーク４１を形成することで、インクのにじみがある場合であっても、アライメントマーク検出部９０により、アライメントマーク４１の位置を高精度に検出することができる。
また、黒などの濃色の有色インクを採用することで、塗布部としてのスリットコーター５と乾燥装置６との間の距離が比較的長い場合であっても、アライメントマーク検出部９０により、アライメントマーク４１の位置を高精度に検出することができる。

【0073】

また、速乾性の有色インクを採用することで、マーキング部４とスリットコーター５との間の距離を短く設定することができる。また、マーキング部４と乾燥装置６との間の距離を短く設定することができる。
すなわち、露光装置１００を採用したロールトゥロール方式のフィルム製造ラインを小型化することができる。
速乾性の有色インクとしては、例えば、具体的には、マジックインク、ＭＫ−１０（キーエンス社製）、などを挙げることができる。

【0074】

上記実施形態では有色インクを採用したが、この形態に限られるものではなく、例えば、紫外線非照射時に無色で、紫外線を照射すると発色する紫外線発色インクを採用してもよい。

【0075】

また、本発明の実施形態では、乾燥装置６は、アライメントマーク４１の乾燥完了時に、アライメントマーク４１のコントラスト（エッジの鮮明度）が最大値Ａ₀となる位置に設けたが、アライメントマーク４１のコントラストが最大値Ａ₀より小さく、値Ａ_t以上となる位置に乾燥装置６を設けてもよい。
こうすることで、有機溶液によりアライメントマーク４１ににじみが生じた場合であっても、制御部８１はアライメントマーク４１の位置を特定することができる。すなわち、マスクとフィルム２との位置調整を高精度に行うことができる。

【0076】

また、本発明の実施形態では、マーキング工程ＳＴ２において、フィルム２の湿分の安定した状態のときに、追従露光において基準となるアライメントマーク４１をフィルム２の規定位置に形成している。このため、乾燥装置６による焼成（ベーク）時や、乾燥装置６による焼成（ベーク）後の環境湿度、基材の湿分の変化により、フィルム２の基材幅が変動した場合であっても、追従露光工程ＳＴ６において、そのフィルム２に形成されたアライメントマーク４１の位置に基づいて、フィルム２の露光体に対してマスク位置を随時補正しながら容易に、且つ、高精度に追従露光を行うことが可能である。

【0077】

また、上記実施形態では、フィルム２の幅方向片側の縁部にアライメントマーク４１を設けたが、この形態に限られるものではなく、フィルム２の両側の縁部にアライメントマーク４１を設けてもよい。

【0078】

また、本発明の実施形態では、マーキング部４がインクをフィルム２に塗布することでマーキングを行ったが、この形態に限られるものではない。例えば、マーキング部４は、速乾性の有色インクを連続して帯状に、フィルム２の規定位置に塗布し、且つ、レーザ装置から出射したレーザー光で、フィルム２の上記規定位置を加工することで、上記マーキングを行ってもよい。こうすることで、容易に（低エネルギーで）マーキングを形成することができ、エッジの判別も容易となる。

【0079】

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。
また、上述の各図で示した実施形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの記載内容を組み合わせることが可能である。
また、各図の記載内容はそれぞれ独立した実施形態になり得るものであり、本発明の実施形態は各図を組み合わせた一つの実施形態に限定されるものではない。

【符号の説明】

【0080】

２：フィルム，３：前処理部，４：マーキング部，５：スリットコーター（塗布部），６：乾燥装置，７：露光部，８：温度調整装置，９：ローラ，１１：後処理部，１２：搬送ローラ，１５：フィルム搬送部，１５ａ，１５ｂ：搬送ロール，２０：ロール，４１：アライメントマーク，４２：アライメントマークとフィルム端部の間の距離，４３：被塗布領域とアライメントマークの間の距離，５１：配向膜形成材（被露光体），５２：被塗布領域，７１：光源，７２，７３：反射ミラー，７４：フライアイレンズ（インテグレータ），７５：コンデンサレンズ，７６：偏光変換素子，７７：フォトマスク，７８：マスク保持部，８０：制御装置，８１：制御部，８２：演算部，８３：メモリ（記憶部），８４：マスクステージ駆動制御部（位置調整部），８５：画像処理部，８６：モータ駆動制御部，８７：光源駆動部，９０：アライメントマーク検出部，１００：露光装置，１０１：ロールトゥロール方式のフィルム製造ライン

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】